1500°C 混合式马弗管式炉 1.7L 箱式炉,配备 2 英寸莫来石管及可编程 PID 控制器

马弗炉

1500°C 混合式马弗管式炉 1.7L 箱式炉,配备 2 英寸莫来石管及可编程 PID 控制器

货号: TU-HC07

最高温度: 1500°C 腔体配置: 1.7升箱式与2英寸莫来石管混合型 温度控制精度: ±1°C (30段PID)
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产品概述

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这款高温混合式热处理系统代表了实验室效率的突破,它将精密马弗炉和真空管式炉的功能结合在单一紧凑的机身内。该设备专为材料科学研究人员和工业工程师设计,无需购买两台独立的设备,提供了一个经济高效的 1.7 升加热腔体以及 2 英寸莫来石管配置。这种双用途设计允许在传统的空气烧结与专业的真空或受控氛围处理之间实现无缝切换。

该设备专为空间和预算有限的高温研发需求而设计。其主要应用场景涵盖了从先进陶瓷和金属粉末的烧结,到在惰性环境中进行化学气相沉积 (CVD) 和退火处理。目标行业包括半导体制造、航空航天材料测试以及需要极高热精度(最高 1500ºC)且不牺牲样品几何形状或处理环境灵活性的先进冶金实验室。

可靠性是该系统设计的核心。该设备采用优质碳化硅 (SiC) 加热元件和坚固的耐火陶瓷内衬,在最严苛的条件下也能提供一致的热性能。工业级组件增强了结构完整性,确保研究人员在长周期循环中获得可重复的结果。无论是作为箱式炉处理大块样品,还是作为管式炉进行受控气体反应,该系统都能提供关键工业热处理所需的稳定性和精度。

主要特点

  • 双配置混合设计:该系统可互换作为 1.7L 马弗炉和 2 英寸管式炉使用,为需要箱式样品装载和管式氛围控制的实验室提供了无与伦比的多功能性。
  • 精密 PID 热管理:集成的比例-积分-微分控制器具有 30 个可编程段,用于升温、冷却和保温,确保在整个热曲线中保持 ±1ºC 的精度,从而获得一致的材料特性。
  • 高效 SiC 加热元件:配备四根 U 型碳化硅元件,加热腔体可实现快速热转换速率,同时保持最高 1500ºC 的工作温度,适用于专业的高温应用。
  • 先进的真空与氛围控制:设备包含一根带有真空密封法兰和机械压力表的 2 英寸莫来石管,支持通过涡轮分子泵达到 10-5 托的真空度,或为氧敏感材料提供受控的气体富集环境。
  • 人体工学下拉门系统:下拉门设计便于安全、轻松地装载样品,同时可作为工作台使用,最大限度地减少了对用户的热冲击风险和对耐火内衬的损坏。
  • 卓越的隔热性能:系统采用高纯度纤维氧化铝隔热块,最大限度地减少了热量散失并降低了外壳温度,提高了能源效率和长时间高温循环下的实验室安全性。
  • 全面的安全报警:内置超温和热电偶故障报警器,提供持续监控,并在必要时自动停止运行,以保护加热元件和内部组件免受潜在损坏。
  • 耐火材料的耐用性与维护:加热腔体由耐热膨胀的高级陶瓷材料制成;随着时间推移产生的任何细微表面裂纹均可用氧化铝涂层轻松修复,从而延长使用寿命。
  • 智能通信接口:该装置配有默认的 DB9 PC 通信端口,可与可选的基于 Labview 的软件集成,以记录、绘制和管理复杂的工业审计跟踪热处理配方。
  • 工业认证与合规性:该设备通过 CE 认证,旨在满足严格的安全标准,并具备通过 TUV (UL61010) 或 CSA 认证的能力,以符合严格的企业或政府实验室要求。

应用领域

应用 描述 主要优势
先进陶瓷烧结 在箱式配置中对陶瓷粉末进行高温烧制,以获得致密、高强度的结构组件。 均匀的热分布带来一致的晶粒生长和结构完整性。
惰性气体退火 在管式配置中处理金属合金或半导体,同时充入氩气或氮气以防止氧化。 精确的氛围控制确保了材料纯度,并防止高温下的表面降解。
化学气相沉积 (CVD) 利用莫来石管进行气相反应,在基板上沉积薄膜,用于电子研究。 高热稳定性和真空兼容性实现了可重复的薄膜沉积。
粉末冶金 在受控冷却速率下烧结金属粉末压坯,以生产复杂的工业零件。 30 段 PID 控制允许设置特定的冷却曲线,以获得所需的金属相。
晶体生长 为光学和光子学应用培养单晶进行长时间的热保温。 S 型热电偶在延长的生长周期中提供长期的精度和稳定性。
灰化与煅烧 在 1.7L 马弗腔中从大块原材料中去除有机粘合剂或挥发性成分。 箱式配置中的大容量处理优化了实验室的吞吐量。
牙科研究 测试和烧制高端牙科修复体中使用的先进氧化锆和瓷材料。 可靠的 1500ºC 容量满足了现代牙科材料的热处理要求。
热应力测试 对航空航天组件进行快速升温和保温,以模拟极端操作环境。 快速加热速率(最高 20ºC/min)允许对耐热材料进行高效的循环测试。

技术规格

参数 TU-HC07 规格
最高工作温度 1500ºC(< 60 分钟)
连续工作温度 1400ºC
腔体尺寸 (长x宽x高) 120 x 120 x 120 毫米 (1.7 升)
外部尺寸 (宽x深x高) 400 x 600 x 670 毫米
加热元件类型 碳化硅 (SiC) - 4 根 U 型
加热速率 0 – 20ºC / 分钟(建议 ≤ 10ºC/分钟)
热电偶类型 S 型
温度控制 PID 控制,带自动调谐,30 段可编程
控制精度 ± 1ºC
管材 莫来石(一端封闭)
管尺寸 2" 外径 x 1.75" 内径 x 12" 长
真空能力 10-2 托(机械泵)/ 10-5 托(涡轮泵)
气体处理 进气/排气口;带机械压力表的真空法兰
电源 AC 208V-240V 单相,50/60 Hz
最大功耗 2.5 KW
所需空气断路器 20A
通信端口 DB9 PC 端口(笔记本电脑/软件可选)
合规性 CE 认证(UL61010/CSA 可选)

为什么选择 TU-HC07

  • 无与伦比的实验室多功能性:该系统提供了一种二合一解决方案,通过将箱式炉和管式炉功能集成在单一机身内,显著降低了实验室设备成本并节省了宝贵的台面空间。
  • 精密工业工程:该装置配备 S 型热电偶和先进的 PID 逻辑,确保了可重复的热精度,使其成为长期工业研发和质量控制的可靠投资。
  • 坚固的结构与耐用性:从 SiC 加热元件到高纯度纤维氧化铝隔热材料,每个组件的选择都基于其在不降低性能的情况下承受持续高温操作的能力。
  • 增强的氛围灵活性:无论您的工艺需要高真空、惰性气体吹扫还是富氧环境,该装置都提供了实现精确结果所需的必要密封和端口基础设施。
  • 面向未来的软件集成:通过可选的基于 Labview 的控制系统和无线远程选项,您可以实现热处理工作流程的数字化,并以现代化的效率管理复杂的配方。

投资这款混合式热处理系统可确保您的实验室能够应对材料科学不断演变的需求,并提供高端研究所需的精度和耐用性。立即联系我们的工程团队索取报价,或讨论针对您特定工业应用的定制配置。

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