4英寸双温区旋转CVD管式炉,用于高温电池材料合成及先进材料煅烧

回转炉

4英寸双温区旋转CVD管式炉,用于高温电池材料合成及先进材料煅烧

货号: TU-X03

最高温度: 1150°C(<30分钟)/ 1100°C 连续 加热区配置: 两个200mm区域(总计400mm) 转速控制: 0 - 10 RPM 可变,带倾斜功能
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产品概述

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这款先进的双温区旋转化学气相沉积系统专为无机化合物的精密煅烧而设计,通过其集成的旋转管机构提供无与伦比的均匀性。该设备主要针对材料科学实验室的严苛要求而设计,在高性能电池组件的合成方面表现出色。通过将双温区温度控制与机械搅拌相结合,该系统确保处理环境中的每一颗颗粒都处于一致的热力和大气条件下,这对于在复杂的化学过程中获得可重复的结果至关重要。

该系统具有高度的通用性,是锂离子电池正极材料(如磷酸铁锂和锰酸锂镍)研究的基石。它同样擅长为硅碳负极材料提供旋转CVD工艺,在此过程中,导电涂层必须以极高的精度进行涂覆。除了能源存储外,该装置还支持广泛的工业研发应用,包括纳米结构材料的生产以及需要持续运动以防止团聚的特种粉末的热处理。

该系统强调耐用性和运行效率,采用了高纯度氧化铝纤维绝缘材料和双层外壳设计,即使在长时间的高温循环中也能保持较低的外部表面温度。强大的机械驱动和倾斜功能为研究人员提供了优化材料停留时间和产量的灵活性。对于需要在要求严苛的材料处理环境中获得可靠、长期性能,且将精度和一致性作为成功主要指标的机构而言,该设备是一项优质的投资。

主要特点

  • 双温区热精度:该系统具有两个独立的加热区,每个长度为200mm,允许创建特定的热梯度或400mm的大面积均匀加热区。这种灵活性对于预热和反应阶段需要不同温度曲线的复杂CVD工艺至关重要。
  • 动态旋转搅拌:高扭矩齿轮直流电机驱动处理管以0至10 RPM的变速旋转。这种持续旋转确保粉末和颗粒材料被充分混合并均匀地暴露在热量和反应气体中,消除了静态炉中存在的温度梯度。
  • 可调倾斜机构:整个炉体可从-5°倾斜至20°。此功能允许重力辅助材料移动,使该系统非常适合半连续处理,并确保煅烧材料的稳定产量。
  • 先进真空密封:配备一对60mm不锈钢密封法兰和可旋转气体接头,系统真空极限可达4.5x10-2 torr。这种高完整性密封对于在敏感的化学气相沉积循环中保持高纯度气氛至关重要。
  • 优化加热效率:腔体内全程使用高纯度氧化铝纤维绝缘材料,以最大限度地减少热量损失并实现节能。这种高级绝缘材料使系统能够快速达到最高温度,同时保持稳定的内部环境。
  • 集成搅拌叶片:内部石英管配备了四个精心布置的搅拌叶片。这些叶片增强了旋转过程中的翻滚效果,确保散装材料被充分翻转,防止处理过程中出现死区。
  • 双回路PID控制:两个数字温度控制器采用先进的PID算法,具有30段可编程曲线。这确保了±1°C以内的温度精度,为复杂的材料合成配方提供了必要的精细控制。
  • 增强的安全性和冷却:双层外壳集成了三个高效冷却风扇,确保外表面触碰安全。分体式盖板设计不仅有助于运行后更快冷却,还允许轻松进行管材检查和更换。

应用领域

应用 描述 主要优势
锂离子正极合成 煅烧带有导电涂层的LiFePO3和LiMnNiO3等材料。 通过均匀的涂层厚度实现卓越的电化学性能。
硅/碳负极生产 促进旋转CVD,将硅纳米层嵌入石墨中。 提高高能电池的能量密度和循环稳定性。
无机煅烧 陶瓷粉末和金属氧化物的高温处理。 消除颗粒团聚并提高相纯度。
纳米材料涂层 在基底颗粒上均匀涂覆碳或金属层。 在整个批次体积内实现一致的表面改性。
热表面处理 需要精确气氛控制的粉末特种热处理。 表面特性和氧化状态的高度可重复性。
工业研发 电子和航空航天领域先进材料的可扩展合成。 从实验室样品到中试生产水平的可预测扩展。

技术规格

参数组 TU-X03规格详情 数值/要求
电气 工作电压 208 - 240V 单相(需30A断路器)
输出功率 2.5 KW
温度性能 最高温度 1150°C(持续时间 < 30分钟)
连续工作温度 1100°C
推荐加热速率 10°C / 分钟
最大加热速率 15°C / 分钟
加热区 总加热区长度 400 mm (16")
单区长度 200 mm (8") 每区
恒温区 200 mm(若两区匹配,精度在±1°C内)
管材与密封 标准管材 熔融石英
可选管材 石墨 (2.36" OD), 不锈钢合金 (最高900°C), 镍基高温合金
翻滚体积 3200 ml
密封法兰 60mm不锈钢,带针阀
机械特性 旋转速度 0 - 10 RPM (可调)
炉体倾角 -5° 至 20°
管内特征 四个内部搅拌叶片
真空与气体 真空极限 4.5 x 10-2 Torr
真空泄漏率 < 0.1 mtorr/s
进气接头 6mm外径管快插弯头
出气接头 12mm外径管快插弯头
控制系统 控制器 2x PID数字控制器(30段可编程)
热电偶 2x Omega K型 (3mm OD x 6" L)
精度 ±1°C
产量与软件 生产产量 2 kg 每批次
可选软件 基于Labview的控制系统 (MTS01),带数据记录功能
合规性 标准 CE认证;可提供NRTL (UL61010) 或 CSA认证
专利注册 ZL-2011-2-0162234.8

为何选择该系统

投资这款双温区旋转CVD系统,可确保您的实验室配备专为最高水平材料一致性和运行可靠性而设计的工具。与标准管式炉不同,该装置通过使用连续旋转和搅拌叶片解决了材料非均匀性的根本挑战,使其成为从事下一代电池技术研究的研究人员的首选。双温区加热架构在工艺设计上提供了无与伦比的灵活性,支持从简单的煅烧到复杂的各种多步化学气相沉积。

该装置背后的卓越工程设计体现在其坚固的结构上,从高纯度氧化铝绝缘材料到精密加工的不锈钢法兰。凭借集成的安全功能、全面的真空能力以及高达2 kg的批量生产扩展能力,该系统为基础研究和中试规模开发提供了专业级的解决方案。我们对质量的承诺得到了严格的CE认证和可选的NRTL/CSA合规性的支持,确保该设备符合行业最高的安全标准。

此外,该系统的模块化设计(包括各种管材选项和先进的软件集成)提供了一个面向未来的平台,可以适应不断变化的研究需求。无论您是在开发硅碳负极还是先进的陶瓷催化剂,该设备都能提供成功所需的精度和耐用性。

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