5英寸三温区旋转管式炉，集成气体输送系统，1200°C高温能力，适用于先进材料CVD工艺

产品概述

这款高性能旋转热处理系统专为需要卓越热均匀性和精确气氛控制的先进材料科学应用而设计。作为实验室规模研究与工业生产之间的关键桥梁，该设备可在受控条件下促进高纯度粉末的合成与涂层处理。其独特的旋转设计和多温区加热架构确保了前驱体材料的每一个颗粒都能暴露在相同的热和化学环境中，是开发下一代电池材料、催化剂和特种陶瓷不可或缺的工具。

该系统针对化学气相沉积（CVD）及其他对材料均匀性要求极高的热处理工艺进行了优化。通过将倾斜机构与旋转熔融石英管相结合，该装置促进了工作负载的持续运动，防止了团聚并确保了表面改性的一致性。该设备在处理正极和负极粉末方面尤为有效，使研究人员能够以极高的结果可重复性信心，将其实验发现扩展至规模化生产。精密气体输送系统的集成进一步增强了其处理复杂气相反应的能力。

可靠性是该热处理装置设计的核心。它采用坚固的双层外壳结构，并配有集成冷却风扇，以确保在高温操作期间保持较低的外壳温度。从高纯度氧化铝纤维隔热材料到精密直流减速电机，每一个组件的选择都旨在满足严苛的工业研发周期需求。符合国际安全标准确保了该系统可立即部署在全球严苛的实验室环境中，为敏感材料处理提供了一个稳定且安全的平台。

主要特点

• 精密多温区热架构： 系统采用三个独立控制的加热区，总长度为600mm。这种配置允许创建精确的热梯度或450mm的扩展恒温区，为高度敏感的材料合成提供±1°C的热精度。
• 动态旋转与倾斜机构： 配备变速直流减速电机（0-10 RPM）和手动电动倾斜功能（最高30°），确保了最佳的材料搅拌和产量控制。这种动态运动对于在CVD和煅烧过程中实现单个粉末颗粒的均匀涂层至关重要。
• 集成四通道气体输送： 复杂的气体混合与输送系统配备数字触摸屏界面，允许精确调节多达四种不同的前驱体或惰性气体。这使得在单个处理周期内即可实现复杂的气氛控制和多级化学反应。
• 卓越的隔热性能： 炉膛内衬高纯度氧化铝纤维隔热材料，提供最大的能源效率和快速升温速率，同时最大限度地减少热量损失。这种技术级隔热材料确保了在高达1200°C温度下的长期结构完整性和一致的性能。
• 先进的真空与污染管理： 系统包含一台重型机械真空泵，配有高效排气过滤器和冷阱。此配置可保护真空硬件免受CVD副产物影响并防止工艺污染，保持低至10-2 torr的腔室压力。
• 工业级控制系统： 三个可编程PID控制器独立管理每个温区的热分布。为增强数据管理，系统可升级为触摸屏控制及基于LabVIEW的软件，以记录和绘制热数据，确保研发文档的完整可追溯性。
• 安全第一的工程设计： 炉体采用双层外壳和冷却风扇设计，确保操作人员安全。所有电气组件均获得UL或Met认证，系统设计包含分体式盖板，便于快速冷却和对处理管的维护访问。
• 多功能管配置： 该装置包括一根130mm外径的熔融石英管，配有四个内部混合叶片，以最大化表面积暴露。带有针阀和可旋转气体接头的不锈钢密封法兰为高真空或受控气氛应用提供了气密性密封。

应用领域

技术规格

为何选择 TU-X11

• 可扩展的生产路径： 该设备专门设计为一种经济高效的中间步骤，使研究人员能够成功地将材料工艺从小型实验室样品过渡到高达2 kg的生产规模批次。
• 无与伦比的热均匀性： 与静态管式炉不同，三温区加热结合持续旋转消除了材料床内的热梯度，确保每个颗粒都接受相同的热处理。
• 交钥匙CVD解决方案： 通过将4通道气体输送系统、真空泵和冷阱集成到一个封装中，该系统为复杂的化学气相沉积提供了全面的环境，无需额外的第三方组件。
• 优质材料完整性： 使用高纯度石英和高效氧化铝隔热材料确保处理环境免受金属污染，保护敏感电子和电池材料的完整性。
• 经过验证的可靠性与支持： 该系统专为承受严苛的工业研发环境而打造，并由全面的保修和致力于长期运行一致性的技术支持团队提供支持。

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