三温区管式炉,配备11英寸或15英寸石英管与铰链法兰,用于真空气氛热处理

管式炉

三温区管式炉,配备11英寸或15英寸石英管与铰链法兰,用于真空气氛热处理

货号: TU-40

加热区长度: 900 毫米 (3 x 300 毫米) 连续工作温度: 1100°C 石英管直径: 可选 11" 或 15" 外径
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 2

产品图片 3

产品图片 4

这款高性能三温区对开式管式炉是热加工工程领域的顶尖产品,专门设计用于满足材料科学研究和工业研发的严格要求。该设备将大直径石英工艺腔与精确控温加热区相结合,为复杂热处理提供稳定通用的实验平台。该系统的核心优势在于能够在长区间内保持出色的热均匀性,这对精密化学气相沉积(CVD)和退火工艺的成功至关重要。

该设备的主要应用场景覆盖多个高科技领域,包括半导体制造、储能研究和先进陶瓷。它尤其适用于大尺寸晶圆(最大12英寸)退火、扩散工艺,以及严格可控真空或气氛环境下的块状样品合成。设备设计可在最高1100℃温度下连续运行,是研究氮掺杂碳结构有序化或开发下一代催化剂实验室的核心设备。

该系统采用重型工业组件打造,为高产量作业环境提供无与伦比的可靠性。配备电动炉盖执行机构,可平稳重复地开启加热腔,降低石英管受到机械冲击的风险,提升操作人员安全。无论是用于学术材料合成还是工业放大研究,该设备都能在最严苛的热循环条件下输出一致、可重复的结果,让您对加工材料的完整性充满信心。

核心特点

  • 精密三温区温度控制:该系统采用三个独立可编程PID控制器,分别管控300mm加热区。该配置可生成特定温度梯度,或形成最大600mm的宽范围高均匀性恒温区,确保大批次样品或长衬底的处理结果一致。
  • 大尺寸石英工艺腔:买家可选择11英寸或15英寸外径的石英管。这些高纯度熔融石英管具备出色的化学惰性和抗热震性,可在高温反应过程中清晰直观观察样品状态,同时不破坏真空密封性。
  • 自动化电动炉盖驱动:炉体配备一对高扭矩电动执行机构,控制对开炉盖的开合。该设计免去了手动操作的体力负担,确保重型炉盖精准定位,保护内部陶瓷纤维保温材料和石英管免受意外撞击。
  • 先进碳化硅加热技术:设备配备42根高性能碳化硅(SiC)加热元件,最高可实现10℃/min的快速升温。这些元件经过合理布局提供均衡辐射热,支持系统在短时间作业中达到1200℃的最高工作温度。
  • 用于气氛控制的密封铰链法兰:炉体配备一对不锈钢弹性体密封铰链法兰。该设计可快速装卸样品,同时搭配大容量涡轮分子泵和适配热块时,可维持10^-4托的高真空度密封性能。
  • 可靠的安全与冷却结构:双层钢壳结合强制风冷设计,即使在满负荷运行时,外表面温度也可保持在70℃以下。这为实验室人员和周边设备提供保护,同时维持内部耐火纤维氧化铝保温材料的效率。
  • 可定制控制选项:标准型号配备30段PID控制,控温精度±1℃,设备可升级为欧陆3000系列控制器。这些可选组件可提供±0.1℃的精度,支持先进RS-485通信协议,满足工业4.0环境下的复杂数据记录和远程过程监控需求。
  • 集成气路与真空接口:不锈钢法兰配备齐全的接口,包括针阀、压力表和KF40真空接口。可无缝对接供气系统和真空泵,支持原位温度测量和精确气氛调控。

应用场景

应用 描述 核心优势
半导体晶圆退火 对8英寸或12英寸硅晶圆进行热处理,修复晶格损伤或激活掺杂剂。 出色的温度均匀性可防止晶圆翘曲,确保整片晶圆的电学性能一致。
碳纳米结构合成 氮掺杂碳的高温石墨化处理,用于催化剂生产。 1100℃精确控温可优化Co-N簇位点稳定性,提升导电性能。
化学气相沉积(CVD) 在大面积衬底上利用气态前驱体生长薄膜和二维材料。 三温区控制可独立设置前驱体蒸发区和沉积区的温度。
固态电池研发 惰性气氛下烧结陶瓷电解质和复合电极。 大管径支持一次运行处理多组样品或大尺寸原型电池。
先进冶金 高真空环境下对块状金属玻璃或高熵合金进行热处理。 密封铰链法兰可维持高纯度环境,避免关键冷却阶段发生氧化。
熔盐研究 研究适用于核能或太阳能领域熔盐的物理和化学特性。 透明石英管可实时目视观察盐相状态和坩埚位置。
耐火材料测试 测试航空航天或工业用陶瓷在持续高温下的耐热性。 坚固的碳化硅加热元件可满足长停留热循环的耐久性要求。

技术参数

参数 规格(TU-40-11) 规格(TU-40-15)
电源 480 VAC,三相,50/60 Hz,40 A 480 VAC,三相,50/60 Hz,40 A
总额定功率 30 kVA 30 kVA
加热温区 3个温区(300 mm + 300 mm + 300 mm) 3个温区(300 mm + 300 mm + 300 mm)
总加热长度 900 mm 900 mm
恒温区长度 600 mm(@ 800℃时偏差+/- 5℃) 600 mm(@ 800℃时偏差+/- 5℃)
石英管尺寸 外径279 mm × 内径269 mm × 长度1860 mm(外径11英寸) 外径381 mm × 内径371 mm × 长度1860 mm(外径15英寸)
最高工作温度 1200 ℃(< 30 分钟) 1200 ℃(< 30 分钟)
连续工作温度 1100 ℃(环境压力下) 1100 ℃(环境压力下)
真空工作温度 900 ℃(真空下最高温度) 900 ℃(真空下最高温度)
升温速率 推荐≤5℃/min;最高10℃/min 推荐≤5℃/min;最高10℃/min
加热元件 42根碳化硅(SiC)元件 42根碳化硅(SiC)元件
控温精度 标准型:+/- 1℃;可选欧陆型:+/- 0.1℃ 标准型:+/- 1℃;可选欧陆型:+/- 0.1℃
真空度(前级泵) < 5×10^-2 托(氧化铝热块) < 5×10^-2 托(氧化铝热块)
真空度(涡轮泵) < 1×10^-4 托(石英热块) < 1×10^-4 托(石英热块)
热电偶 K型 K型
法兰类型 带硅橡胶O型圈的不锈钢铰链法兰 带硅橡胶O型圈的不锈钢铰链法兰
冷却系统 双层钢结构风冷 双层钢结构风冷

为什么选择这款三温区管式炉

  • 工业级热精度:多温区PID结构为高要求研发提供所需的精细化控制。通过允许独立调节预热、处理和冷却区,该系统可确保您的材料合成保持可重复性和科学性。
  • 面向高通量设计:这款炉体拥有11英寸或15英寸的超大工艺腔,突破了标准实验室设备的尺寸限制。它搭建了小实验和中试生产之间的桥梁,可提供8-12英寸晶圆加工所需的容积。
  • 出色的结构与安全标准:从防止机械磨损的电动炉盖到保护操作人员的双层冷却系统,每个部件都为长寿命设计。采用优质耐火氧化铝保温材料和高密度碳化硅元件,体现了对工业级耐用性的承诺。
  • 通用的气氛密封性:无论您的工艺需要高纯度惰性气体还是高真空环境,铰链密封法兰都能提供可靠、易用的解决方案。无需更换硬件即可在真空和气氛之间切换,是任何材料科学实验室的多用途设备。
  • 无与伦比的定制与支持:我们了解每个研究项目都有独特需求。从可选石英晶圆舟到升级欧陆控制系统和定制电源配置,我们可提供技术支持,将该系统定制适配您的特定工作流程。

我们的工程师团队随时可为您的先进材料应用配置理想的热加工方案。立即联系我们获取技术咨询或正式报价。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

1100°C 三温区管式炉,配有 8.5 至 11 英寸外径石英管及真空法兰,适用于大型晶圆加工

1100°C 三温区管式炉,配有 8.5 至 11 英寸外径石英管及真空法兰,适用于大型晶圆加工

精密 1100°C 三温区管式炉,配备超大 8.5 至 11 英寸外径石英管及气密性法兰。专为大规模晶圆加工和先进材料研究而设计,具有卓越的热均匀性和高真空兼容性,适用于工业研发项目及生产。

24英寸加热长度三温区管式炉(带铰链式法兰石英管系统)

24英寸加热长度三温区管式炉(带铰链式法兰石英管系统)

这款专业的三温区管式炉具有24英寸的加热长度和铰链式法兰,便于高效装载样品。针对1200°C工艺进行了优化,可为先进的工业材料研究提供精确的温度均匀性和真空兼容性。

大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

我们设计的高容量立式三温区炉提供独立的热控制,并兼容大型11英寸石英管,可在严苛的实验室环境中,为关键的工业退火、烧结研究和先进材料科学开发提供卓越的均匀性和增强的真空完整性。

1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

精密型1200°C三温区立式管式炉,配备2英寸石英管和先进的真空法兰。该高性能系统专为CVD(化学气相沉积)和PVD(物理气相沉积)应用而设计,可提供卓越的热均匀性和快速淬火能力,助力先进材料的研发。

三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统

三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统

面向工业研发和材料科学应用的先进 1700°C 三温区加热分体式立式管式炉。该高精度系统具备独立温控、高真空能力以及高效节能隔热,可实现稳定的高温处理和快速样品淬冷结果。

1100°C大口径石英管式炉,配24英寸加热区及水冷法兰

1100°C大口径石英管式炉,配24英寸加热区及水冷法兰

这款1100°C大口径石英管式炉配备24英寸加热区和水冷法兰,专为精确的CVD工艺设计。它是材料研究和工业研发的理想选择,具有卓越的热稳定性和强大的热性能。

带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉,适用于高温材料合成

带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉,适用于高温材料合成

采用这款高端24英寸三温区分体管式炉,加速您的材料研究。它具备独立温控、兼容石英管以及真空密封法兰,可在高达1200°C的条件下提供精确热处理,满足严苛的实验室和工业研发应用需求。

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

利用这款三温区旋转管式炉提升您的热处理工艺。该设备采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件,支持0-40度倾斜角,为工业研发部门在真空或受控气氛条件下进行粉末烧结和高纯材料研究提供了卓越的温度均匀性。

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

为1200C高温处理精密设计的三温区分体式管式炉。采用先进PID控制,适用于材料科学研发中的气氛和真空应用,提供卓越的热均匀性以及在工业实验室和研究机构环境中的可靠性能。

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

这款1100°C石英管式炉配备8英寸外径和7.6升处理空间,旨在提升您的实验室能力。该系统专为真空及受控气氛环境设计,为先进材料研究和半导体制造提供精密的热处理方案。

三温区石英管式炉(配三通道气体混合器、真空泵及防腐蚀真空计)

三温区石英管式炉(配三通道气体混合器、真空泵及防腐蚀真空计)

这款高精度 1200°C 三温区石英管式炉系统集成了三通道气体混合和防腐蚀真空监测功能,专为严苛实验室研究及工业研发环境中的专业 CVD(化学气相沉积)和材料合成而设计。

用于材料研究和工业热处理的1700℃高温三温区管式炉(配备外径50mm/60mm/80mm氧化铝管)

用于材料研究和工业热处理的1700℃高温三温区管式炉(配备外径50mm/60mm/80mm氧化铝管)

这款1700℃高性能三温区管式炉配备精密氧化铝管与独立加热控温系统,专为先进材料研发设计,在化学气相沉积和复杂气氛控制工业热处理工艺中,可实现出色的温度均匀性与稳定性。

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统,旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀,适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。

1200C 三温区分体式立式管式炉 4英寸石英管 不锈钢真空法兰

1200C 三温区分体式立式管式炉 4英寸石英管 不锈钢真空法兰

这款1200C三温区分体式立式管式炉配备4英寸石英管和不锈钢真空法兰,适用于高精度热处理。非常适合材料淬火和合成,这套坚固的系统可确保均匀加热,并便于快速装样。

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

使用这款1200°C三温区可开启式管式炉优化热处理工艺。其具备18英寸加热长度和精确的PID控制,为全球实验室设施中的先进材料研究、退火、烧结和专业工业研发应用提供卓越的温度均匀性。

用于CVD和材料烧结的三温区高温真空管式炉

用于CVD和材料烧结的三温区高温真空管式炉

这款高性能三温区管式炉提供独立的温区控制,可实现精确的热梯度。专为CVD和真空退火设计,具有卓越的温度均匀性、先进的PID编程功能以及坚固的真空密封性能,适用于工业研发。

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

这款高性能三温区开启式管式炉配备 35.4 英寸加热区和 8 英寸直径炉管,适用于先进的热处理工艺。通过独立的温区管理,可在真空或气体环境下实现 1200℃ 的峰值温度,并提供卓越的温度均匀性。

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰,能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。

1100℃三温区旋转管式炉,带自动粉末进料系统,适用于大规模CVD涂层

1100℃三温区旋转管式炉,带自动粉末进料系统,适用于大规模CVD涂层

先进的1100℃三温区旋转管式炉,配备自动粉末进料系统和15英寸石英管,适用于大规模CVD涂层。凭借精确的热均匀性和高效的粉末处理,优化工业研究和生产环境中的电池电极合成。

1600°C 三温区开启式管式炉(配氧化铝管及真空法兰)

1600°C 三温区开启式管式炉(配氧化铝管及真空法兰)

这款 1600°C 三温区开启式管式炉可为先进材料合成及研发提供精确的热分布控制和真空环境,通过多个独立的加热温区确保卓越的温度均匀性,且结构坚固,性能高度稳定。

相关文章