24英寸加热长度三温区管式炉(带铰链式法兰石英管系统)

管式炉

24英寸加热长度三温区管式炉(带铰链式法兰石英管系统)

货号: TU-35

最高温度: 1200°C(流动气体) 加热区配置: 3个加热区(6英寸 + 12英寸 + 6英寸) 温度精度: ±1°C
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 3

这款高性能三温区管式炉代表了热处理技术的巅峰,专为满足材料科学研究和工业研发的严苛要求而设计。通过在24英寸跨度内利用三个独立控制的加热区,该设备为研究人员提供了对热梯度和热区稳定性的无与伦比的控制能力。该系统的核心价值在于其能够以极高的可重复性促进复杂的化学气相沉积(CVD)和退火工艺,确保实验结果在从实验室到中试生产的过程中保持一致且可扩展。

该装置主要用于半导体制造、冶金和先进陶瓷领域,在二维材料的合成方面特别有效,例如为电催化应用定制二硫化钼的边缘结构。其可分体式设计和铰链式法兰机构允许快速进入工艺腔室,显著减少了样品装卸过程中的停机时间。这使得该设备成为在操作效率与热精度同样关键的高通量环境下的理想选择。

该系统专为在严苛条件下保持可靠性而设计,具有坚固的双层钢外壳和先进的空气冷却技术。这种结构确保了在内部温度达到1200°C的同时,外部仍可安全触摸,从而维持稳定的实验室环境。高纯度纤维氧化铝绝缘材料和先进的PID微处理器控制的集成,突显了我们提供具有工业级耐用性和科学级精度的工具的承诺。

主要特点

  • 独立三温区加热:24英寸的总加热长度分为三个不同的段(6"+12"+6"),每一段均由其专用的热电偶和PID控制器控制。这种配置允许创建精确的温度梯度或长达480mm的超均匀恒温区。
  • 铰链式法兰快速访问:设备两端均配有专用的不锈钢铰链法兰。这种设计消除了样品取出过程中复杂的拆卸需求,允许操作员快速摆开法兰进行高效装载,并在关闭时保持高真空密封。
  • 先进的PID微处理器控制:每个温区均使用基于微处理器的自整定PID控制器,具有30个可编程段。这确保了升温过程中零过冲,并保持±1°C的稳态精度,这对敏感的烧结和扩散工艺至关重要。
  • 高真空兼容性:该系统配备KF25D适配器和精密数字真空计,使用机械泵可达到10^-2 Torr的真空度,使用分子泵可达到10^-5 Torr,从而提供清洁、无氧的加工环境。
  • 增强型隔热性能:内部衬有节能的高纯度氧化铝纤维绝缘材料。该材料不仅降低了功耗,还最大限度地减少了热质量,从而实现了高达20°C/min的更快加热速率,并提高了对控制器调整的响应能力。
  • 集成安全与冷却:双层钢外壳通过两个高效风扇形成空气冷却间隙。这种主动冷却系统可防止炉体外部热量积聚,保护操作员和周围敏感电子设备免受热损伤。
  • 多气氛通用性:该炉专为各种惰性气体和还原性气体使用而设计,包括针阀和1/4"管接头。这允许在退火或大气合成过程中进行精确的气体流量管理(前提是压力保持在0.12 MPa以下)。
  • 远程监控功能:系统标配RS485通信端口,并提供基于LabView的可选软件模块。这允许进行基于PC的数据记录、配方管理和远程操作,确保质量控制工业流程的完全可追溯性。

应用领域

应用 描述 主要优势
二维材料合成 合成钽和铌掺杂的二硫化钼及其他过渡金属二硫属化物。 精确的梯度控制,实现最佳晶体生长。
半导体退火 直径达4英寸的硅片的高温处理。 出色的均匀性(±1°C),防止热应力缺陷。
CVD / PECVD 用于薄膜和纳米管生产的化学气相沉积。 稳定的热区,确保化学反应一致。
电池材料研发 在受控气氛下烧结正极和负极粉末。 高纯度环境,防止材料污染。
催化剂测试 在流动气体环境中对工业催化剂进行热活化。 可重复的升温/保温循环,用于性能基准测试。
真空冶金 真空下高纯度金属合金的熔炼和热处理。 防止氧化并确保材料完整性。
陶瓷烧结 在高达1200°C的温度下固结工业陶瓷组件。 快速加热和冷却循环,提高产量。

技术规格

参数 型号:TU-35 详情
炉体结构 带冷却风扇的双层钢外壳;节能高纯度纤维氧化铝绝缘材料
额定电压 AC 208-240V 单相,50/60 Hz(需40A断路器)
最大功耗 6.0 KW
加热元件 钼掺杂铁铬铝合金
总加热区长度 610mm (24") 总计
温区配置 Z1: 152.4mm (6") / Z2: 304.8mm (12") / Z3: 152.4mm (6")
均匀温区 (±1ºC) 260 mm
均匀温区 (±2ºC) 480 mm
最高温度 (流动气体) 1200°C
连续温度 (流动气体) 1100°C
最高温度 (真空) 1000°C
最大加热速率 20°C / min
温度精度 ± 1ºC
温度控制器 三个带自整定功能的30段可编程PID控制器
热电偶 三个K型热电偶
真空度 10^-2 Torr (机械泵); 10^-5 Torr (分子泵)
真空法兰 铰链式;左侧:带数字压力计的KF25D;右侧:SS针阀
型号:TU-35-80 管径:80mm 外径 x 72mm 内径 x 1200mm 长 (最大2英寸晶圆)
型号:TU-35-4 管径:101mm 外径 x 92mm 内径 x 1200mm 长 (最大3英寸晶圆)
型号:TU-35-5 管径:130mm 外径 x 122mm 内径 x 1200mm 长 (最大4英寸晶圆)
合规性 CE认证;可应要求提供NRTL或CSA认证

为什么选择这款三温区管式炉

  • 卓越的热管理:三温区架构提供了创建精确热曲线的灵活性,这对于先进材料合成和防止精密基底热冲击至关重要。
  • 专为长效运行而设计:采用掺钼优质铁铬铝加热元件和优质纤维氧化铝制造,该装置专为连续工业使用而设计,维护需求极低。
  • 精度与安全:符合UL标准,并内置过热和热电偶断路保护,为无人值守的夜间运行和高风险研究提供了保障。
  • 交钥匙真空集成:与标准炉不同,该装置配备铰链式法兰和数字真空监控,无需额外工程即可立即集成到依赖真空的工作流程中。
  • 可扩展的定制化:从PC控制模块和LabView兼容性到各种管径选项和分子泵升级,系统可根据您实验室的具体产量和精度要求进行定制。

如需定制配置或索取正式报价,请立即联系我们的技术销售团队。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

三温区管式炉,配备11英寸或15英寸石英管与铰链法兰,用于真空气氛热处理

三温区管式炉,配备11英寸或15英寸石英管与铰链法兰,用于真空气氛热处理

这款三温区管式炉配备11英寸或15英寸石英管,可实现出色的热均匀性,适用于精确真空控制下的大规模晶圆退火和材料合成,搭配电动炉盖开合,满足工业实验室安全要求。

1100°C 三温区管式炉,配有 8.5 至 11 英寸外径石英管及真空法兰,适用于大型晶圆加工

1100°C 三温区管式炉,配有 8.5 至 11 英寸外径石英管及真空法兰,适用于大型晶圆加工

精密 1100°C 三温区管式炉,配备超大 8.5 至 11 英寸外径石英管及气密性法兰。专为大规模晶圆加工和先进材料研究而设计,具有卓越的热均匀性和高真空兼容性,适用于工业研发项目及生产。

1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

精密型1200°C三温区立式管式炉,配备2英寸石英管和先进的真空法兰。该高性能系统专为CVD(化学气相沉积)和PVD(物理气相沉积)应用而设计,可提供卓越的热均匀性和快速淬火能力,助力先进材料的研发。

高温1500°C三温区开启式管式炉(配80mm刚玉管及真空法兰)

高温1500°C三温区开启式管式炉(配80mm刚玉管及真空法兰)

这款精心设计的1500°C三温区开启式管式炉配备80mm刚玉管和精密PID控制系统。它非常适合需要卓越温度均匀性和高真空稳定性的先进材料研究、CVD工艺及工业热处理。

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

为1200C高温处理精密设计的三温区分体式管式炉。采用先进PID控制,适用于材料科学研发中的气氛和真空应用,提供卓越的热均匀性以及在工业实验室和研究机构环境中的可靠性能。

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

使用这款1200°C三温区可开启式管式炉优化热处理工艺。其具备18英寸加热长度和精确的PID控制,为全球实验室设施中的先进材料研究、退火、烧结和专业工业研发应用提供卓越的温度均匀性。

1600°C 三温区开启式管式炉(配氧化铝管及真空法兰)

1600°C 三温区开启式管式炉(配氧化铝管及真空法兰)

这款 1600°C 三温区开启式管式炉可为先进材料合成及研发提供精确的热分布控制和真空环境,通过多个独立的加热温区确保卓越的温度均匀性,且结构坚固,性能高度稳定。

大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

我们设计的高容量立式三温区炉提供独立的热控制,并兼容大型11英寸石英管,可在严苛的实验室环境中,为关键的工业退火、烧结研究和先进材料科学开发提供卓越的均匀性和增强的真空完整性。

带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉,适用于高温材料合成

带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉,适用于高温材料合成

采用这款高端24英寸三温区分体管式炉,加速您的材料研究。它具备独立温控、兼容石英管以及真空密封法兰,可在高达1200°C的条件下提供精确热处理,满足严苛的实验室和工业研发应用需求。

三温区石英管式炉(配三通道气体混合器、真空泵及防腐蚀真空计)

三温区石英管式炉(配三通道气体混合器、真空泵及防腐蚀真空计)

这款高精度 1200°C 三温区石英管式炉系统集成了三通道气体混合和防腐蚀真空监测功能,专为严苛实验室研究及工业研发环境中的专业 CVD(化学气相沉积)和材料合成而设计。

1200C 三温区分体式立式管式炉 4英寸石英管 不锈钢真空法兰

1200C 三温区分体式立式管式炉 4英寸石英管 不锈钢真空法兰

这款1200C三温区分体式立式管式炉配备4英寸石英管和不锈钢真空法兰,适用于高精度热处理。非常适合材料淬火和合成,这套坚固的系统可确保均匀加热,并便于快速装样。

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统,旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀,适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。

1700°C 高温三温区管式炉(配氧化铝管及水冷法兰)

1700°C 高温三温区管式炉(配氧化铝管及水冷法兰)

这款先进的高温三温区管式炉提供精确的 1700°C 热处理及气氛控制。该系统是半导体研究、先进冶金和陶瓷烧结的理想选择,通过独立的 PID 温度控制器提供卓越的温度均匀性。

三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统

三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统

面向工业研发和材料科学应用的先进 1700°C 三温区加热分体式立式管式炉。该高精度系统具备独立温控、高真空能力以及高效节能隔热,可实现稳定的高温处理和快速样品淬冷结果。

用于材料研究和工业热处理的1700℃高温三温区管式炉(配备外径50mm/60mm/80mm氧化铝管)

用于材料研究和工业热处理的1700℃高温三温区管式炉(配备外径50mm/60mm/80mm氧化铝管)

这款1700℃高性能三温区管式炉配备精密氧化铝管与独立加热控温系统,专为先进材料研发设计,在化学气相沉积和复杂气氛控制工业热处理工艺中,可实现出色的温度均匀性与稳定性。

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

利用这款三温区旋转管式炉提升您的热处理工艺。该设备采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件,支持0-40度倾斜角,为工业研发部门在真空或受控气氛条件下进行粉末烧结和高纯材料研究提供了卓越的温度均匀性。

5英寸三温区旋转管式炉,集成气体输送系统,1200°C高温能力,适用于先进材料CVD工艺

5英寸三温区旋转管式炉,集成气体输送系统,1200°C高温能力,适用于先进材料CVD工艺

这款高精度1200°C三温区旋转管式炉配备了集成的四通道气体输送系统和自动倾斜机构,为先进电池材料、正极合成及工业粉末研究应用提供均匀的热处理和化学气相沉积(CVD)环境。

用于先进材料科学烧结与化学气相沉积应用的高温三温区管式炉

用于先进材料科学烧结与化学气相沉积应用的高温三温区管式炉

这款精密三温区管式炉可优化热处理工艺,最高温度达1700℃,配备独立PID控制,实现优异的温度均匀性,是先进研究、工业研发实验室或大规模生产设施中CVD真空退火与材料烧结的理想选择

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

这款高性能三温区开启式管式炉配备 35.4 英寸加热区和 8 英寸直径炉管,适用于先进的热处理工艺。通过独立的温区管理,可在真空或气体环境下实现 1200℃ 的峰值温度,并提供卓越的温度均匀性。

三温区氢气管式炉,配82mm高温合金管与双氢气探测器,1200℃高温材料处理系统

三温区氢气管式炉,配82mm高温合金管与双氢气探测器,1200℃高温材料处理系统

这款先进的三温区氢气管式炉配备镍基高温合金管与集成安全探测器,可在严苛的工业和实验室研发应用中实现1200℃安全加工,为高温材料研究提供优化方案,保障最高可靠性与性能表现