1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

管式炉

1200°C 三温区立式管式炉(配2英寸石英管及真空法兰)

货号: TU-C12

最高温度: 1200°C 加热区: 3个区域(总计610毫米) 温度精度: +/- 1.0°C
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产品概述

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本高温立式热处理系统专为满足材料科学研究和工业研发的严苛要求而设计。设备采用分体式立式结构,内置三个加热温区,为高纯度热处理提供了优化环境,包括物理气相沉积 (PVD)、近空间升华 (CSS) 和化学气相沉积 (CVD)。立式设计特别适用于需要重力辅助样品移动、集成淬火或特殊沉积几何形状的工艺,这是传统卧式炉难以实现的。

该系统兼具多功能性与高性能,擅长创建合成先进纳米材料和薄膜涂层所需的热处理曲线。高纯度石英容器与精密真空密封的结合,使研究人员能够放心地在高真空或受控气体环境下进行操作。设备采用移动式架构,确保可无缝集成到各种实验室配置中,为高强度热处理循环提供了灵活且稳健的解决方案。

可靠性是本装置设计的核心,其采用双层钢壳结构,并配有集成式空气冷却风扇。这种工程设计确保了即使在最高温度下长时间运行,外壳表面依然保持在安全触碰范围内。系统配有三个独立的精密控制器,提供了无与伦比的热稳定性和重复性,使其成为追求高一致性和高产出实验结果的工业及学术实验室不可或缺的资产。

主要特点

  • 三温区独立热控制:三个独立的加热温区允许创建宽广的等温区域或精确控制的温度梯度,这对于保持大尺寸基底的一致性或控制生长过程中的反应动力学至关重要。
  • 精密分体式立式架构:分体式炉盖设计安装在带有集成轮子的移动推车上,可轻松接触反应腔,并简化了立式方向下特殊样品架或坩埚的装载。
  • 先进隔热技术:采用高纯度纤维氧化铝绝缘材料,并辅以特殊的反射涂层,最大程度地提高了能源效率,确保了快速升温速率,同时保护了装置的内部结构完整性。
  • 高完整性真空密封:配备双不锈钢真空法兰,带有集成压力表和针阀,配合适当的泵送系统,真空度最高可达 10E-5 Torr。
  • 精密PID仪表:MET认证控制器提供30个可编程加热、冷却和保温段,利用自动调谐功能在整个工作范围内保持 ±1°C 的精度。
  • 集成安全与过热保护:内置超温报警和热电偶断路保护系统,允许无人值守安全运行,确保设备和贵重样品得到充分保护。
  • 优化冷却动力学:双层钢壳结构配合风冷系统,使外壳表面温度保持在 65°C 以下,提高了操作员安全性并减少了实验室环境中的热排放。
  • 耐用高合金加热元件:采用掺钼的 1300°C 级 Fe-Cr-Al 合金,加热组件专为长期耐用性和在各种大气条件下的抗氧化性而设计。

应用领域

应用 描述 主要优势
化学气相沉积 (CVD) 在基底上合成薄膜和纳米材料(如石墨烯或碳纳米管)。 精确控制气相反应区和热均匀性。
快速热淬火 将样品从高温重力下落或线切割淬火至冷却介质中。 便于冻结高温相,用于冶金研究。
纳米管氮掺杂 在生长过程中向碳基结构中引入精确比例的氮。 三温区控制可实现精确的反应动力学管理。
真空钎焊 在受控压力和温度下连接组件或晶圆。 立式自重施压确保了均匀的连接压力。
薄膜 PVD 在真空中进行高纯度材料层的蒸发和沉积。 保持高真空完整性的同时确保稳定的蒸发速率。
材料煅烧 在受控气氛下对陶瓷和粉末样品进行烧结或煅烧。 高纯度环境防止敏感样品受到污染。
环境应力测试 使工业组件在惰性气体中承受持续高温。 可靠的无人值守运行,并带有全面的数据记录。

技术规格

参数 TU-C12 规格详情
炉体结构 双层钢壳带风冷;高纯度纤维氧化铝带特殊涂层
最高温度 1200°C(< 1小时)
连续工作温度 1100°C
最大升温速率 ≤ 20°C/分钟
温度精度 +/- 1°C
加热温区 三温区:总长 610 mm (152.4 mm + 304.8 mm + 152.4 mm)
恒温区 480 mm (在 +/- 2°C 范围内)
管材 高纯石英(长度 1200 mm)
管径尺寸 外径:50 mm;内径:44 mm(可定制 Ø50 - Ø130 mm)
功耗 4.8 KW
电压要求 AC 208-240V 单相,50/60 Hz
温度控制器 3 x MET认证 PID控制器;30个可编程段;RS485接口
真空法兰 不锈钢,带真空表、进/出气阀及 1/4" 接头
真空度能力 10E-2 Torr (机械泵);10E-5 Torr (涡轮分子泵)
加热元件 掺钼 1300°C 级 Fe-Cr-Al 合金
外部尺寸 安装在带轮的移动实验室推车上
合规性 CE 认证 (可选配 NRTL/CSA)
真空泄漏率 < 5 mTorr / 分钟

为何选择 TU-C12

TU-C12 系列代表了立式热处理工程的巅峰。与标准管式炉不同,该系统专为需要精确重力控制和在扩展反应区内实现卓越热均匀性的研究人员而优化。三温区配置允许用户以极高的颗粒度操纵热场,从而实现单温区设备无法企及的高质量晶体结构生长。

该炉采用优质工业组件制造——从掺钼合金元件到高纯度氧化铝绝缘材料——是对实验室生产力的长期投资。分体式炉盖设计和移动推车安装显著减少了与样品更换和系统维护相关的体力劳动。此外,升级至 Eurotherm 仪表和基于 Labview 的软件控制,为实验室迈向自动化数据采集和增强精度(+/- 0.1°C)提供了面向未来的路径。

当可靠性、安全性和性能不容妥协时,本系统将为您提供世界级研究成果所需的竞争优势。我们诚邀您立即联系我们的技术团队,讨论您的具体工艺要求、定制法兰修改,或获取针对您实验室需求的全面报价。

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