大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

管式炉

大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C

货号: TU-C16

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产品概述

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这款高容量热处理系统专为需要大直径样品腔室和精确气氛控制的先进材料研究和工业规模开发而设计。作为立式三温区加热单元,它为受重力或对流影响的工艺(如垂直布里奇曼生长或特殊烧结)提供了独特的结构优势。该设备可容纳超大石英管,外径最大达11英寸,能够处理小型实验室炉无法处理的大批量或大型组件。该系统代表了从实验台研究到全面工业化生产的关键桥梁,提供了多加热区和极高真空兼容性的灵活性。

专为严苛的研发环境设计,该系统在长达1000毫米的加热长度上表现出卓越的高温稳定性和优异的热均匀性。通过利用三个独立控制的加热段,研究人员可以创建精确的温度梯度,或维持一个极长的恒温区,以实现均匀的扩散和退火。坚固的铝合金框架配备工业脚轮,确保尽管其容量和能力巨大,设备在实验室或洁净室环境中仍保持移动性和适应性。它是从事先进陶瓷、半导体晶圆和冶金相变研究的机构的理想选择。

对该设备的信心源于其坚固的结构和工程至上的设计理念。采用可拆分炉体和高品质纤维氧化铝隔热材料,系统在快速升降温循环、能源效率和安全的表面温度之间取得了平衡。精密加工的不锈钢真空法兰和可靠的碳化硅加热元件的集成,确保了该炉在严苛的工作周期下性能稳定。无论是在高真空还是保护性气氛条件下运行,该设备都能为复杂的材料科学应用提供可重复、高保真结果所需的受控环境。

主要特点

  • 立式分体管结构: 炉体采用独特的立式设计,加热腔可拆分,便于大型石英管和精密样品的装卸,同时优化研发设施的空间利用。
  • 三温区独立热管理: 配备三个独立的加热区,每个区由自己的可编程PID控制器管理,可创建复杂的温度曲线或超过330毫米的超稳定中心恒温区。
  • 高容量石英管兼容性: 该系统专为容纳外径8英寸或11英寸的石英管设计,提供了立式管式炉类别中最大的处理容积之一。
  • 工业级真空密封: 包含一对带高温硅胶O型圈的铰链式不锈钢真空密封法兰,使用标准机械泵可实现低至10^-2托的真空度。
  • 先进碳化硅加热元件: 加热腔由总共36个高性能碳化硅元件驱动,其战略布局可提供均匀的热分布和高达1200°C的快速热响应。
  • 热效率与安全性: 双层钢制外壳采用空气冷却技术,即使在峰值运行期间,外表面温度也保持在70°C以下,保护人员和周围设备。
  • 精密多段控制器: 配备内置Eurotherm控制器,具有8或24个独立段,系统提供数字通信(RS485)和软件集成,用于基于PC的实时监控和数据记录。
  • 高纯度隔热衬里: 内部衬有优质纤维氧化铝隔热材料,可最大限度地减少热损失,提高升温速率,并确保30KW加热系统的最大能源效率。
  • 全面的监测端口: 右侧法兰配备一个KF40真空端口和一个专用的1/4"外径热电偶插入端口,允许进行管内直接温度校准和精确的内部监测。
  • 认证的工程标准: 该设备获得CE认证,突显其符合实验室和工业加热设备严格的国际安全与质量标准。

应用领域

应用 描述 主要优势
半导体扩散 处理大直径晶圆(最大8英寸),用于掺杂剂扩散和热氧化。 晶圆表面卓越的热均匀性,确保一致的电子特性。
技术陶瓷烧结 在垂直方向对大型陶瓷部件或小零件批次进行高温致密化。 通过优化的垂直热分布,最大限度地减少高大型部件的结构变形。
CVD / PECVD研究 通过气相反应为先进电子或储能材料创建薄膜涂层。 大管容积允许复杂的基板排列和更高的薄膜沉积通量。
大型部件退火 缓解大尺寸金属合金或航空航天专用部件的内应力。 精确控制冷却速率,防止热冲击并保持材料完整性。
粉末冶金 在真空或惰性气体下将金属粉末烧结和合金化成致密、高纯度的部件。 通过高完整性真空密封和石英纯度防止氧化和污染。
布里奇曼晶体生长 利用三温区控制建立精确的温度梯度,用于定向凝固。 高分辨率梯度控制有助于生长高质量单晶。
电池材料煅烧 在受控气氛环境中对正极和负极材料进行批量热处理。 可扩展的研发能力,模拟工业生产参数以进行材料验证。
相变研究 对材料经历物理状态变化时进行高保真温度跟踪。 精确校准和PC监控允许记录关键的相变数据点。

技术规格

参数 TU-C16 规格详情
产品编号 TU-C16
炉体结构 立式分体管式炉,加热腔直径约12英寸
外壳设计 双层钢制外壳,带空气冷却;表面温度 < 70°C
隔热材料 高品质纤维氧化铝隔热衬里
安装方式 铝合金框架,带重型脚轮
标准管选项 8英寸或11英寸外径高纯度石英管(长度:1800毫米 / 71英寸)
加热区长度 总长:1000毫米(40英寸);三温区:330毫米 + 330毫米 + 330毫米
恒温区长度 350毫米(若三温区同步,温差为 +/- 3°C)
加热元件 36个碳化硅元件
最高工作温度 1100°C(连续);1200°C(短期)
温度精度 ± 0.1ºC
温度控制器 3个可编程PID控制器(RS485通信)
升温/降温速率 10°C / 分钟(最大)
电源 三相,208V AC 或 380V AC,50/60 Hz
最大功耗 30 KW(需要100A断路器)
真空度 10^-2 托(机械泵);10^-5 托(可选涡轮泵)
法兰类型 不锈钢铰链式真空密封法兰,带双阀门
气体入口 左侧:针阀 + 1/4"倒刺软管;右侧:KF40端口
安全特性 过载保护,石英管热冲击警告,辐射屏蔽
认证 CE认证(可根据要求提供NRTL或NRTL/CSA认证)

选择我们的理由

  • 无与伦比的处理容量: 能够使用11英寸直径的石英管,其处理容量远超标准实验室管式炉,使该设备成为将研究规模扩大到工业水平的理想选择。
  • 精密的热控制: 独立的三温区控制可实现前所未有的热曲线控制水平,达到确保大批量或大型部件样品质量一致所需的均匀性。
  • 坚固耐用的工程设计: 采用优质碳化硅加热元件和重型氧化铝隔热材料构建,该系统经久耐用,可在严苛的工业研发环境中承受多年的高周期运行。
  • 灵活的系统集成: 立式设计、高真空能力和数字PC接口的结合,使得该设备易于集成到现有的实验室工作流程或复杂的自动化系统中。
  • 安全与稳定: 配备冷却外壳和认证的电子元件,该炉在保持特种热处理所需高功率输出的同时,优先考虑操作人员的安全。

对于希望提升其热处理能力的工业采购团队和研究人员而言,这款立式三温区系统为最先进的材料科学应用提供了所需的可靠性和精度。立即联系我们的技术销售团队,获取详细报价或讨论根据您特定的真空和气氛要求定制的配置方案。

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