1200°C 十温区开启式管式炉，支持水平与垂直安装，适用于多温区热梯度及大直径材料加工

产品概述

这款高性能热处理系统代表了多温区炉体工程的巅峰，专为满足材料科学研究和工业中试生产的严苛需求而设计。通过将十个独立控制的加热区集成到单一坚固的开启式管式结构中，该设备为研究人员提供了建立复杂温度梯度或保持超长均匀热场的独特能力。双轴设计支持水平和垂直操作，使其成为实验室进行从气相输运到垂直晶体生长等多种项目的多功能利器。

该系统专为先进材料合成和热分布分析而构建，在精度和可重复性至关重要的环境中表现出色。无论是用于化学气相沉积 (CVD)、半导体晶圆退火，还是在受控实验室环境中模拟工业级热处理工艺，该设备都能提供一致的性能。开启式炉体设计便于快速冷却和接触处理管，简化了实验工作流程，提高了高温材料科学领域关键研究项目的吞吐量。

可靠性是该热处理平台设计的核心。系统采用工业级组件和先进的控制界面，确保即使在长时间的高温循环中也能保持稳定运行。炉体结构的完整性与集成热电偶的精度相结合，为敏感的工业研发提供了必要的信心。通过提供大直径处理能力和巨大的总加热长度，该装置弥合了小型实验室实验与工业级材料生产之间的差距，确保您的研究能够有效地转化为更大规模的生产。

主要特点

• 独立的十温区热架构： 系统采用十个独立的加热区，每个加热区长120mm，由30mm的隔热层隔开。这种配置允许创建精确的非线性温度曲线，或在800°C时建立超过1000mm的超长均匀加热区，为复杂的热处理提供了无与伦比的灵活性。
• 双轴配置的多功能性： 装置采用灵活的安装系统，可进行水平和垂直方向操作。这种适应性对于布里奇曼 (Bridgman) 晶体生长或水平气相输运等专业应用至关重要，确保设备能够随研究需求的变化而演进。
• 先进的 PID 控制逻辑： 十个温区中的每一个都由具有50个可编程段的高精度温度控制器控制。集成的 PID 回路将温度波动保持在 1°C 以内，为敏感的材料合成和可重复的工业模拟提供了所需的严苛稳定性。
• 坚固的开启式管式设计： 炉体具有开启式开合机构，可实现样品的快速装卸，以及处理后的快速冷却。这种设计还简化了高纯度氧化铝处理管的更换和热元件的检查。
• 大容量处理环境： 该系统标准处理管直径为 100mm，总加热长度为 1470mm，能够处理大规模样品或大批量批次，显著提高了材料研究部门和工业实验室的生产力。
• 精确的气氛控制： 系统配备重型不锈钢法兰和 ISO100-K 接口，支持低至 5e-2 torr 的高真空操作，并通过 1/4" 卡套接头实现精确的气体输送。这使研究人员能够在惰性、氧化或真空条件下严格控制气氛。
• 全面的热监控： 十个 K 型热电偶经过战略性布置，可为每个温区提供实时反馈。这种广泛的监控能力确保任何热漂移都能得到立即纠正，从而在整个 1470mm 的加热长度内保持既定温度梯度的完整性。
• 工业通信集成： 包含一个 RS-485 串行端口，用于远程通信和数据记录。这允许通过 PC 进行集中控制，使研究人员能够监控循环、存储复杂的加热配方，并确保所有热处理参数的完全可追溯性。

应用领域

技术规格

为什么选择 TU-C10

• 无与伦比的梯度灵活性： 十温区设计提供了目前实验室炉中可用的最细致的热分布控制，允许进行简单系统无法实现的复杂材料合成。
• 专为可靠性而设计： 该系统采用高级热元件和先进的隔热材料，旨在最苛刻的工业研究环境中实现长寿命和运行一致性。
• 多功能双方向底座： 在水平和垂直配置之间切换的能力消除了对多个专用炉的需求，为多学科实验室提供了经济高效且节省空间的解决方案。
• 精度与稳定性： 凭借将精度保持在 ±1°C 以内的 PID 回路，研究人员可以确信他们的热分布曲线是绝对精确执行的，从而确保每次都能获得可重复的结果。
• 全面定制与支持： 我们提供全面的定制选项，包括特殊的管径和气氛控制系统，并由我们响应迅速的技术支持团队提供支持。

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