六温区开启式管式炉（带氧化铝管及真空法兰），适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

产品概述

这款高性能六温区开启式管式炉代表了现代材料科学及工业研发领域热工程的巅峰。该系统设计工作温度高达1500°C，无论研究人员需要完美的均匀温区还是高度特定的温度梯度，它都能提供无与伦比的热环境控制。通过将先进的加热元件与模块化开启式设计相结合，该设备无需拆卸复杂的实验装置或精密的真空连接，即可实现样品的快速装卸。

该设备主要针对化学气相沉积（CVD）、退火和烧结应用而设计，服务于从半导体制造到先进陶瓷及航空航天材料测试等多个行业。六温区配置的多功能性允许在实验室规模模拟复杂的工业过程，为扩大生产提供必要的数据支持。其在真空或受控气氛下保持严苛公差的能力，使其成为实验室探索高温材料行为的基石工具。

可靠性是该热处理系统的标志。炉体采用重型组件和高纯度氧化铝耐火材料制造，专为严苛环境下的连续运行而设计。从坚固的碳化硅加热棒到精密加工的真空法兰，每一个细节都经过精心挑选，以确保重复性和长期耐用性。操作人员可以放心地进行长周期实验，系统能够确保每次实验的炉内气氛纯净度和热稳定性。

主要特点

• 独立的六温区热控：加热腔分为六个独立的温区（12" + 8" + 8" + 8" + 8" + 12"），每个温区由专用的控制器管理。这种配置能够创建高达100°C/cm的定制温度梯度，或长达800mm的超长均匀温区，为多样化的研究项目提供了灵活性。
• 高纯度氧化铝处理管：配备专业级氧化铝管，外径60mm，长度1800mm，在极端温度下具有出色的化学稳定性和结构完整性，确保样品在高热循环过程中不受污染。
• 精密PID仪表：六个数字温度控制器均具备30段程序控制功能。这允许对升温速率、保温时间和冷却阶段进行细致管理。系统精度达±1°C，满足敏感半导体和冶金工艺所需的严苛精度。
• 先进的碳化硅加热元件：采用48根高等级SiC加热棒，实现快速加热并保持高温稳定性。这些元件因其在氧化和中性气氛中的长寿命和高效性而被特别选用，其高温耐用性优于标准金属元件。
• 集成的真空与气氛能力：系统包含带双高温硅胶O型圈的真空密封不锈钢法兰。配合机械泵可达到10^-2 Torr的真空度，配合分子泵系统可达10^-5 Torr，非常适合对氧气敏感的应用。
• 开启式铰链设计：炉体采用纵向开启设计，便于接触处理管和内部加热腔，简化了清洁、样品放置以及加热元件维护的过程，无需拆卸整个供气系统。
• 全面的安全系统：内置过热和热电偶断偶保护功能，确保在组件故障时设备能安全停机。声光报警器会通知操作人员温度偏差，允许在长保温周期内实现无人值守运行。
• 可扩展的通信接口：包含RS485通信端口，允许将炉体与基于PC的控制模块集成。这实现了远程监控、数据记录以及通过集中软件环境管理复杂的热处理工艺。

应用领域

技术规格

关于TU-67系列炉，请参考以下综合技术数据。这些规格反映了专为高性能实验室环境设计的标准配置。

功率与性能

加热区与管尺寸

仪表与真空

操作注意事项

• 真空操作时，温度不应超过1300°C。
• 气体流速应保持在200 SCCM以下。
• 为确保气瓶安全，必须使用二级减压阀。
• 请勿将石墨坩埚与氧化铝管直接接触。

为何选择 TU-67

• 无与伦比的热灵活性：TU-67的六温区架构为实验室技术人员提供了定制热分布的独特能力，这是单温区炉无法实现的，使其成为同类产品中最灵活的工具。
• 重型工业结构：通过使用48根独立的SiC加热棒和高密度氧化铝绝缘材料，该炉专为长寿命和极简维护而设计，即使在反复的1500°C循环下也能保持性能。
• 精度与稳定性：S型热电偶与精密PID逻辑的集成确保了您的研究数据基于稳定、可重复的热条件，减少了复杂实验中的变量。
• 先进的气氛控制：无论您的工艺需要高真空还是特定的惰性气体环境，高质量的法兰系统都能确保无泄漏环境，从而实现纯净的化学反应。
• 全球安全标准：凭借标准CE认证以及UL或CSA升级选项，该设备满足全球顶级学术和企业研究机构的严格安全要求。

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