产品概述
这款高温实验设备是热工设计的巅峰之作，专门为高标准的材料研究、开发与工艺验证打造。设备集成了高温加热、先进真空气氛控制与快速热处理能力，是可满足最严苛实验室需求的多功能平台。立式可开启结构设计实现了极佳的操作可达性与灵活性，让研究人员可以顺畅地从基础材料烧结，切换到复杂化学气相沉积（CVD）或真空退火实验。设备具备工业级坚固性，可满足大学实验室、半导体研发中心与航空航天制造领域材料科学家对精度的要求。它体现了我们对卓越工艺的追求，即使在高真空或特种气体氛围、1700℃高温下连续运行，也能保证每一个热循环都稳定、可重复且安全。
核心特点
- 立式可开启结构：炉体采用立式对开设计，可180度敞开接触反应管，方便样品装载、设备维护，以及集成内部监测传感器或淬火模块。
- 三区域精准加热：通过对三个独立温区的独立调控实现先进多段程序控温，可形成宽广的恒温区，通过优化热补偿实现±1.5℃的温度均匀度。
- 高纯氧化铝保温层：炉腔采用1700级高纯氧化铝多晶纤维，该材料热容量极低、抗热震性能优异，可实现快速升温并保证能效。
- 先进二硅化钼加热元件：配备高密度硅钼棒，加热系统可在极端温度下持续运行，可选择性升级，支持最高1800℃工作环境。
- 集成快冷系统：内置风冷循环系统，可选配水冷法兰，可实现快速降温，让样品可在10秒内完成淬火处理，满足相变研究需求。
- 精密真空密封：设备采用双O型氟橡胶密封系统与水冷法兰，搭配高性能分子泵机组时，可实现≤5×10⁻⁴ Pa·m³/s的真空漏率。
- 智能PID控制逻辑：采用高端日本岛田或欧陆仪表，支持50段程序控温、RS485通讯，可存储多组预设工艺曲线。
- 完善的气氛管理套件：双路质量流量计系统搭配高精度电磁阀与调压阀，可可控通入包括氢气在内的惰性或反应气体。
- 全方位安全联锁：系统配备多层安全防护，包括超温自动断电、热电偶断偶报警、水压监测与紧急泄压阀。
- 模块化扩展兼容：平台设计兼顾通用性，支持旋转样品台、红外测温仪、气体分析仪等外部模块，可适配不断发展的研究需求。
应用领域
| 应用场景 | 说明 | 核心优势 |
|---|---|---|
| 半导体CVD | 利用气相前驱体在硅或蓝宝石衬底上沉积薄膜与纳米材料。 | 精准的气流量与温度控制保证薄膜厚度均匀、纯度高。 |
| 航空航天陶瓷 | 陶瓷基复合材料（CMC）与涡轮部件的高温烧结与应力测试。 | 立式结构可容纳长尺寸结构件，同时保持极端热稳定性。 |
| 锂电池研发 | 在可控氮气或氩气氛围下煅烧合成正/负极材料。 | 热循环重复性高，可得到稳定一致的电化学性能数据。 |
| 真空退火 | 在无氧环境下对难熔金属与特种合金进行应力消除与晶粒结构细化。 | 防止氧化与污染，保持样品的冶金完整性。 |
| 快速淬火 | 模拟工业冷却流程，测试材料骤冷后的性能。 | 可在数秒内完成非平衡相研究与显微结构分析。 |
| 固态照明 | 合成需要高纯热环境的荧光粉与光学晶体。 | 洁净氧化铝炉腔可避免掺杂剂交叉污染，保证高发光产率。 |
| 碳纳米管生长 | 通过化学气相沉积垂直生长碳纳米管阵列与石墨烯结构。 | 生长区经过优化的热梯度可实现优异的排列一致性与密度。 |
技术参数
| 参数类别 | TU-21型号规格详情 |
|---|---|
| 最高工作温度 | 1700℃（二硅化钼加热元件）；可选1800℃（石墨/碳化硅） |
| 升温速率 | 最大≤15℃/分钟；建议≤10℃/分钟 |
| 降温速率 | 最大≤10℃/分钟；淬火模块可实现10秒内降温 |
| 温度均匀度 | ±1.5℃（150mm恒温区内） |
| 温控系统 | 日本岛田FP93 / 欧陆3504；50段程序；PID自整定 |
| 炉膛材料 | 1700级高纯氧化铝多晶纤维 |
| 标准炉管尺寸 | 刚玉管（外径Φ60mm × 长度1200mm） |
| 炉管可选材质 | 石英、不锈钢或定制耐火管（Φ30-100mm） |
| 耐压范围 | ≤ 0.1MPa（真空/正压） |
| 真空性能 | 机械泵：5×10⁻² Pa；分子泵：5×10⁻⁴ Pa |
| 密封接口 | 双O型氟橡胶（耐250℃）+ KF25法兰 |
| 气控系统 | 双路质量流量计（0-500sccm）；精度±1% |
| 电源配置 | 支持220V/380V电压定制 |
| 结构设计 | 立式双层不锈钢外壳，集成风冷 |
| 安全防护 | 超温断电、断偶保护、水/气压报警、漏电保护开关 |
| 外形尺寸 | 立式占地，带移动轮与水平调节脚 |
为什么选择我们
- 久经验证的长期可靠性：采用工业级元件与双层炉壳打造，可在高要求研究环境中长期连续运行，性能不衰减。
- 出色的热精度：三区域独立补偿技术可实现出色的温度均匀度与稳定性，对敏感CVD与烧结工艺的成功至关重要。
- 无与伦比的模块化灵活性：无论您需要高真空、特种气路还是旋转样品台，系统的模块化接口设计可跟随您的研究需求持续扩展。
- 严格的安全标准：从氢气处理到高压泄压，系统配备冗余安全机制，为您的实验室人员与高价值材料提供保护。
- 精密制造：每台设备都经过严格校准与真空漏率测试，确保符合我们对工业坚固性与技术卓越性的严格标准。
立即联系我们的技术销售团队，获取详细报价，或讨论针对您特定材料加工需求定制的解决方案。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
1100°C 多位置管式炉，适用于实验室材料研究与先进工业热处理
这款多位置管式炉提供 1100°C 精密加热，具备垂直和水平放置的灵活性。专为先进材料研究设计，配备 30 段 PID 控制器和高纯度纤维绝缘材料，确保卓越的热稳定性和可靠的工业实验室性能。
1700℃高温立式管式炉，用于粉末球化和材料烧结
该1700℃立式管式炉系统优化了电池电极和3D打印的粉末球化工艺。该设备配备自动进料器和双温区控制，确保在真空或受控气氛下进行高纯度处理，适用于卓越的工业材料研究应用。
十区多取向实验室管式炉，用于1200℃高温梯度热处理
这款十区炉针对复杂热剖面分析优化，可在水平和垂直取向下实现精准1200℃控温。对于需要大尺寸温度梯度、并在1470mm加热长度系统上进行可靠气氛控制工艺的材料研发而言，是理想选择。
1200°C 高温 4 英寸管式炉，带用于 CVD 系统的滑动法兰
这款 1200°C 高温 4 英寸管式炉配有可滑动法兰，可快速装载样品并兼容高真空。它专为精密 CVD 工艺和先进材料研究而设计，在严苛的实验室环境中提供卓越可靠的性能。
1700°C 高温氧化铝管式炉，配备 18 英寸加热区及真空密封法兰
这款专业级 1700°C 管式炉拥有 18 英寸加热区和高纯度氧化铝管，专为先进材料研究设计。该设备针对真空及受控气氛环境进行了优化，为严苛的工业实验室流程提供了卓越的热稳定性和可靠性。
用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉
这款 1200 °C 自动化管式炉具备精确的真空控制、高纯度石英处理能力以及远程集成功能，旨在加速材料合成，助力高通量 AI 研究及各类严苛工业材料科学与先进研发工作流中的自主实验室应用。
1500°C高温管式炉，带滑动法兰和50mm外径，适用于快速热处理，加热冷却迅速
这款最高温度1500°C的管式炉配备手动滑动法兰，可实现加速加热和冷却，助您实现快速热处理。专为材料科学研究设计，这套高精度系统提供卓越的真空性能和双控制器监控，满足严苛的实验室应用需求。
1700°C高温管式炉，配4英寸外径氧化铝管及真空密封法兰
高性能1700°C管式炉，配备4英寸外径氧化铝管和精密硅钼棒（MoSi2）加热元件。适用于材料研究、化学烧结及真空热处理，具备先进的PID控制和强大的气氛密封能力，是工业研发的理想选择。
1700°C 立式真空及气氛管式炉（配 80mm 刚玉管）
这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰，能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。
1700°C高温管式炉，配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器
这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器，为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。
用于高真空贵金属熔炼与材料研究的 1100°C 高温紧凑型顶装式立式真空管式炉
这款 1100°C 紧凑型顶装式立式真空管式炉为贵金属熔炼和材料研究提供了高真空环境。它配备了精确的 PID 控制和重型加热元件，可在严苛的实验室研发及工业热处理应用中提供可靠、一致的性能。
1200°C 5英寸立式石英管式炉（带不锈钢真空法兰）
高性能1200°C立式石英管式炉，配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。
1100°C管式炉，配备真空法兰及可编程温度控制器，适用于材料科学与工业热处理
这款多功能1100°C管式炉配备可编程PID控制器和高真空法兰，旨在优化您的实验室热处理流程。专为精密材料合成和工业研发设计，提供双向操作灵活性及高度的温度均匀性，满足严苛的应用需求。
1800°C 高温紧凑型真空管式炉，配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件
这款 1800°C 高温紧凑型真空管式炉采用优质 Kanthal 加热元件和 60mm 外径氧化铝管。专为材料研究和烧结设计，可在真空或受控气氛条件下为实验室研发提供精密的热处理。
1200°C高温分体式管式炉，配铰链式真空法兰及4英寸石英管，适用于实验室研究
这款1200°C分体式管式炉配备铰链式真空法兰和4英寸石英管，旨在简化样品装载流程。专为精密热处理设计，为先进材料科学和工业研发应用提供卓越的温度均匀性和真空性能。
适用于1英寸和2英寸处理管的高温立式分体管式炉，配备PID温度控制器
专为材料科学研究和催化剂开发设计的精密1100°C立式分体管式炉。具有先进的PID控制、便于更换管子的分体盖设计以及卓越的隔热性能，确保为实验室和工业研发应用提供高性能加热解决方案。
带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉
这款1200°C混合马弗炉与管式炉为精密材料处理提供了多功能的二合一解决方案。它配备6x6x7英寸腔体及石英管选项，支持真空或大气环境下的研发工作，为高温实验室热处理设备提供了卓越的可靠性。
500C真空立式管式炉 84mm外径样品旋转升降系统
这款卓越的真空立式管式炉具备高温处理能力，并配有84mm外径莫来石管、样品旋转与手动升降系统，可确保先进材料研究和工业热处理过程中的均匀烧结。精湛的工程设计带来可靠性能。
用于 DIY 管式反应器的 1100°C 立式实验室炉，配备 PID 温度控制器
这款 1100°C 立式炉专为定制 DIY 管式反应器设计，配备先进的 PID 控制和 2 英寸直径容量，助您最大化研究效率。该高精度热系统可确保材料科学和工业研发获得稳定、可靠的结果。
单温区管式炉 5英寸石英管 36英寸加热区 真空法兰
专业级 1200°C 单温区管式炉，配备 5 英寸石英管和 36 英寸加热长度。是先进材料科学研究和工业研发应用中进行高纯度真空退火、扩散和烧结的理想选择。