1700°C高温管式炉，配4英寸外径氧化铝管及真空密封法兰

产品概述

这款高温台式炉系统为需要高达1700°C极端热处理的材料科学和化学研究实验室提供了通用且坚固的解决方案。该设备专为精度和稳定性而设计，旨在促进在各种气氛条件（包括高真空和惰性气体环境）下对先进材料样品进行烧结。其紧凑的占地面积和高性能的加热曲线，使其成为专注于陶瓷、冶金和半导体开发的机构及工业研发中心不可或缺的工具。

该系统的主要应用场景涉及对气氛纯度要求极高的精密热处理。通过将高纯度氧化铝处理管与精密的密封组件相结合，该装置使研究人员能够探索相变、晶体生长和化学气相沉积工艺。炉体结构针对快速热循环和长期温度保持进行了优化，确保高要求的实验方案能够以可重复的精度执行。

可靠性是该热处理装置设计的核心。设备采用双层钢壳结构和先进的风冷技术，即使在峰值运行期间也能保持安全的接触温度。集成1800级二硅化钼（MoSi2）加热元件，确保了在高热负荷下的长寿命和一致的性能。采购团队可以信赖该系统的工业级组件及其承受持续高温科学研究严苛要求的能力。

主要特点

• 先进的1800级MoSi2加热元件： 炉体采用八根高规格二硅化钼元件，能够承受超过系统工作极限的温度，确保在1700°C循环期间具有较大的安全裕度和更长的组件寿命。
• 精密氧化铝耐火炉膛： 内部加热区采用高纯度氧化铝纤维隔热材料，可最大限度地减少热量损失，提高热均匀性，并防止在处理过程中污染敏感样品。
• 带主动冷却的双层外壳： 重型钢制外壳配有集成冷却风扇，可将外表面温度保持在60°C以下，在保护实验室人员和周围设备的同时，增强了内部电子元件的寿命。
• 先进的PID温度控制： 该系统配备可编程数字控制器，提供±1°C的精度。用户可配置多达30个工艺段，用于复杂的升温、保温和降温方案，并由移相触发的SCR功率控制器支持。
• 集成真空密封法兰套件： 设备包含一套完整的不锈钢密封组件，配有KF25真空接口和1/4英寸气体管道适配器，可实现真空、惰性气体和环境气氛之间的即时切换。
• 安全监控与超温保护： 内置超温报警和自动断电机制，允许无人值守操作，在长时间烧结或退火过程中提供安心保障。
• 高纯度美国制造氧化铝管： 对于100mm外径型号，系统采用了耐化学腐蚀的氧化铝管，专为在极端高温下提供卓越的抗热震性和化学惰性而设计。
• 多功能气氛控制： 利用两个不锈钢针阀和一个刻度真空表，系统可对气体输入和真空度进行精细控制，这对敏感的化学气相沉积（CVD）工作流程至关重要。
• 移相触发SCR技术： 与标准固态继电器不同，可控硅（SCR）功率控制为加热元件提供了更平稳的功率输出，减少了热应力并提高了温度精度。
• 可扩展的数字通信： 该装置配备RS485通信端口，允许基于PC的监控和数据记录，有助于严格的质量控制合规性和实验文档记录。

应用领域

技术规格

核心炉体参数 (型号: TU-73)

处理管与密封 (TU-73 系列)

控制器与安全合规

为什么选择1700°C高温管式炉

• 无与伦比的热精度： 通过采用Super 1800ºC级MoSi2元件和移相触发SCR控制，该系统提供了超越行业标准的温度稳定性，确保敏感的研究成果不会因温度波动而受损。
• 强大的真空工程： 与许多标准管式炉不同，我们的密封组件标配双硅胶O型圈和集成针阀，为在高真空或严格受控气氛下工作的研究人员提供了交钥匙解决方案。
• 增强的操作安全性： 主动冷却风扇、双层外壳和内置超温报警器的结合，营造了一个安全的实验室环境，使高温工艺可以与其他分析活动同时进行，而无风险。
• 卓越的材料完整性： 我们使用99.8%高纯度氧化铝管和耐火炉膛，确保在1700°C下不会有污染物渗入样品，这是高纯度化学和半导体研究的关键要求。
• 模块化与可扩展设计： 凭借PC控制集成、质量流量计供气站和高真空分子泵组等选项，该设备可随您的研究需求共同演进，保护您的长期资本投资。

我们的工程团队随时准备讨论您的具体工艺要求，无论是需要定制法兰配置还是专业的控制软件集成。立即联系我们，获取技术咨询或实验室升级的正式报价。