1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

管式炉

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

货号: TU-83

最高加热温度: 1700°C (1600°C 连续) 真空能力: 极限压力 <1E-8 mbar (Pfeiffer 泵) 气体控制系统: 2-4 通道数字式质量流量控制器 (MFC),带触摸屏
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 3

该高性能热处理系统专为需要极端温度和超纯大气条件的先进材料科学及工业研究应用而设计。通过将1700°C氧化铝管式炉与高性能涡轮分子真空站及精密质量流量气体输送模块集成,该设备为复杂的化学气相沉积 (CVD)、扩散和烧结工艺提供了交钥匙解决方案。稳固的设计确保研究人员在低至 10^-5 Torr 的真空度下,既能保持敏感样品的完整性,又能获得高度可重复的实验结果。

该设备面向半导体制造、航空航天开发和先进陶瓷工程领域,架起了实验室实验与中试生产之间的桥梁。其多功能架构允许对多种气体进行精确控制,使其成为制造薄膜、纳米线和复杂二维材料的重要工具。整个系统安装在移动式重型推车上,便于搬迁,无需复杂的永久性安装即可无缝集成到现有的洁净室或实验室工作空间中。

可靠性是该炉设计的核心。系统采用优质二硅化钼 (MoSi2) 加热元件和高纯度氧化铝耐火炉膛,旨在承受工业研发所需的严苛热循环。双层钢制外壳配合集成风冷系统,确保即使在高温运行期间,外部表面温度也能保持在操作人员的安全范围内。这种对安全性的重视,结合高精度 PID 控制和德国制造的真空组件,为专业采购团队和首席研究员提供了长期运行的一致性保障。

主要特点

  • 卓越的温度范围:该系统最高加热温度可达 1650°C,连续工作温度为 1600°C,由八个专门布置以实现最佳热均匀性的高等级 MoSi2 加热元件驱动。
  • 超高真空集成:配备原装 Pfeiffer 涡轮分子泵,系统极限压力可达 <1E-7 mbar,为高纯度材料合成和对污染敏感的工艺提供了至关重要的无氧环境。
  • 精密质量流量控制:集成气体混合站配有 2 至 4 通道数字质量流量控制器 (MFC),可通过数字触摸屏监控,精确、高重复性地输送氮气、氦气或氢气等工艺气体。
  • 先进的 PID 控制逻辑:温度控制器采用限流移相触发电阻系统,具有 30 个可编程段,在整个加热斜坡过程中保持 ±1°C 的精度。
  • 稳固的炉膛工程:炉体采用 60mm 外径的高纯度氧化铝处理管和高纯度氧化铝耐火炉膛,以最大限度地减少热损失并防止高温循环过程中的化学交叉污染。
  • 智能真空管理:高真空站具有隔膜泵和涡轮泵的一键操作功能,系统控制的旋转速度可根据真空度和泄漏率自动调节。
  • 增强的安全协议:内置自我保护机制可监控过热和过流状况,如果泄漏率超过安全操作阈值,系统会自动减速或停止涡轮,以防止泵损坏。
  • 灵活的接口选项:系统包含一个 RS485 通信端口,并兼容用于 PC 远程控制、LabVIEW 集成和质量保证审计的全面数据记录的高级软件包。

应用领域

应用 描述 核心优势
化学气相沉积 (CVD) 利用受控气体前驱体合成石墨烯或碳纳米管等薄膜和纳米材料。 精确的气体比例化学计量控制,确保薄膜均匀性和高质量晶格结构。
半导体掺杂 在高温下将杂质引入半导体晶圆以改变其电学性能。 高真空完整性可防止半导体基底发生意外氧化或污染。
陶瓷烧结 在高达 1600°C 的温度下将陶瓷粉末压块固结成致密、高强度的结构件。 稳定的温区和高纯度氧化铝管可防止杂质削弱陶瓷基体。
航空航天合金测试 在真空下将先进合金置于极端热环境中,以模拟高空或太空条件。 精确的升温和真空稳定性模拟了轨道飞行中遇到的严酷环境。
粉末冶金 对金属粉末进行热处理,在不达到熔点的情况下通过固态键合制造复杂零件。 真空环境消除了导致活性金属脆化或表面氧化的空气成分。
光学退火 通过缓慢、受控的冷却阶段消除特种光学玻璃或晶体中的内应力。 30 段可编程 PID 控制器允许进行极其精细的冷却速率调节,以防止热冲击。

技术规格

核心炉体规格 (TU-83)

参数 技术细节
加热元件 8 支 1800°C 级二硅化钼 (MoSi2)
最高温度 1650°C
连续工作温度 1600°C
标准处理管 高纯氧化铝,60mm 外径 x 1000mm 长
加热区长度 457 mm (18")
恒温区 150 mm (6"),精度 ±1°C
升温速率 ≤ 5°C/min
温度精度 ±1°C
热电偶类型 B 型 (铂铑)
功耗 6.0 kW
输入电压 AC 208-240V 单相,50/60Hz
炉体尺寸 550 x 380 x 520 mm

高真空站规格

参数 技术细节
泵制造商 Pfeiffer Vacuum (德国)
氮气抽速 33 L/s
极限压力 <1E-8 mbar (无泄漏状态)
工作范围 1000 mbar 至 <1E-7 mbar
控制界面 LCD 数字显示,带一键启动/停止功能
保护系统 过热和过流自我保护
推车尺寸 600(长) x 600(宽) x 700(高) mm
真空计 带实时压力监测的数字传感器

质量流量气体控制 (MFC) 系统

参数 技术细节
通道数量 2 通道 (标准),最多 4 通道 (可选)
阀体材质 316 不锈钢
混合罐尺寸 Φ80 x 120 mm
流量限制 < 200 SCCM (标准配置)
控制界面 6 英寸彩色触摸屏,带 PC 远程切换模式
安全阀 包含精密针阀和机械压力表

为何选择此高温系统

这一集成解决方案代表了对实验室能力的重大投资,提供了单机组件无法比拟的精度和可靠性。通过将炉体、真空站和气体混合单元安置在单一的工程化移动平台上,该系统消除了多供应商设置中常见的复杂故障排除问题。使用德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和高等级 MoSi2 加热元件等优质组件,确保了系统在工业研发环境中经过多年高强度使用后仍能保持运行的一致性。

此外,该系统的设计充分考虑了可扩展性和定制化需求。无论您是需要为复杂的多种前驱体 CVD 添加额外的气体通道,还是需要升级 Eurotherm 温度控制器以实现 LabVIEW 兼容性,该架构都能适应您的特定研究需求。CE 认证设计以及可选的 NRTL/UL/CSA 认证,为采购团队提供了该设备符合最高国际安全和质量标准的信心。这不仅仅是一台炉子,更是一个专为最具挑战性的材料科学课题而设计的完整热处理环境。

请立即联系我们的技术销售团队获取详细报价,或讨论根据您的具体研究需求定制的配置方案。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

这款 1700°C 高温管式炉配备 5 英寸加热区和氧化铝管,适用于先进材料研究。可实现精确的气氛控制,并将真空度降至 50 mTorr,用于烧结、退火和化学气相沉积。

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

这款专业级 1700°C 管式炉拥有 18 英寸加热区和高纯度氧化铝管,专为先进材料研究设计。该设备针对真空及受控气氛环境进行了优化,为严苛的工业实验室流程提供了卓越的热稳定性和可靠性。

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

该1700℃立式管式炉系统优化了电池电极和3D打印的粉末球化工艺。该设备配备自动进料器和双温区控制,确保在真空或受控气氛下进行高纯度处理,适用于卓越的工业材料研究应用。

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

专为材料研究和工业气相沉积应用而设计的精密1700C六温区分体式管式炉。该多功能系统提供独立的温区温度控制和可直接进行真空操作的法兰,满足稳定热处理和先进材料开发需求,确保卓越性能。

立式可开启管式炉 0-1700℃高温CVD与真空热处理实验室系统

立式可开启管式炉 0-1700℃高温CVD与真空热处理实验室系统

这款1700℃立式可开启管式炉专为先进材料研究打造,具备精准三区域加热与快速淬火能力。非常适用于CVD工艺与真空退火处理,可在要求严苛的研发环境中提供工业级可靠性、氛围控制能力与模块化灵活性。

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

这款1800°C高温管式炉配备1900级硅钼棒(MoSi2)加热元件和岛电(Shimaden)PID控制器,可实现精确的热处理。专为先进材料科学研究或工业研发实验室的CVD实验、真空退火和气氛烧结而设计。

1700°C 高温混合式马弗炉与管式炉,带真空法兰和氧化铝处理管的可编程 PID 控制箱式系统

1700°C 高温混合式马弗炉与管式炉,带真空法兰和氧化铝处理管的可编程 PID 控制箱式系统

这款多功能的 1700°C 混合式炉集箱式炉与管式炉功能于一体,可有效优化您的实验室空间。具备 30 段可编程控制和高真空兼容性,是严苛材料科学研发环境中进行精密热处理的理想解决方案。

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰,能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。

用于材料淬火和单晶生长的高温1700°C立式开启式管式炉

用于材料淬火和单晶生长的高温1700°C立式开启式管式炉

这款先进的1700°C立式开启式管式炉为材料淬火和单晶生长提供精确的热处理方案。该系统专为卓越的研发需求而设计,具备真空兼容性和PID控制功能,可在严苛的工业研究实验室环境中实现可靠、可重复的实验结果。

带真空法兰阀门和60mm氧化铝管的1700°C高温分体式管式炉

带真空法兰阀门和60mm氧化铝管的1700°C高温分体式管式炉

这款1700°C高温分体式管式炉配备60mm氧化铝管和真空法兰,可实现高精度材料处理。非常适用于需要精确气氛控制、先进PID编程以及在严苛实验室环境中进行可靠高纯度热处理的研发应用。

1700°C 高温三温区管式炉(配氧化铝管及水冷法兰)

1700°C 高温三温区管式炉(配氧化铝管及水冷法兰)

这款先进的高温三温区管式炉提供精确的 1700°C 热处理及气氛控制。该系统是半导体研究、先进冶金和陶瓷烧结的理想选择,通过独立的 PID 温度控制器提供卓越的温度均匀性。

1200°C 高温 4 英寸管式炉,带用于 CVD 系统的滑动法兰

1200°C 高温 4 英寸管式炉,带用于 CVD 系统的滑动法兰

这款 1200°C 高温 4 英寸管式炉配有可滑动法兰,可快速装载样品并兼容高真空。它专为精密 CVD 工艺和先进材料研究而设计,在严苛的实验室环境中提供卓越可靠的性能。

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

高性能 1750°C 真空管式炉,采用 Kanthal Super-1800 加热元件和高纯度氧化铝管。该系统是精密材料研究的理想选择,具有 ±1°C 的控温精度和 30 段可编程控制,适用于严苛的实验室热处理和气氛控制烧结。

1500°C高温双温区旋转管式炉,采用碳化硅加热技术,助力先进材料合成

1500°C高温双温区旋转管式炉,采用碳化硅加热技术,助力先进材料合成

这款高精度双温区旋转管式炉可优化热处理工艺。它具备1500°C最高温度和先进的碳化硅(SiC)加热元件,确保工业研发、化学气相沉积及全球实验室中复杂材料科学应用的一致性结果。

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

这款 1800°C 高温紧凑型真空管式炉采用优质 Kanthal 加热元件和 60mm 外径氧化铝管。专为材料研究和烧结设计,可在真空或受控气氛条件下为实验室研发提供精密的热处理。

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

利用这款高精度双温区真空管式炉提升您的实验室能力。它专为先进材料研究和 CVD 工艺设计,具备独立温控、快速升温以及稳健的真空密封性能,可确保获得一致的工业级热处理结果。

用于先进材料研究的 1700°C 高温立式气氛控制炉(带自动底部装料功能)

用于先进材料研究的 1700°C 高温立式气氛控制炉(带自动底部装料功能)

先进的 1700°C 立式气氛炉,配备自动电动底部装料系统和真空功能。该高纯度系统专为精密烧结和退火而设计,包含水冷腔体和 Eurotherm PID 控制系统,适用于要求严苛的工业研发领域。

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

这款1500℃高温开启式管式炉为先进材料研究和工业烧结应用提供精确的热处理方案,采用双层壳体结构、集成PID控制及真空不锈钢法兰,在严苛的实验室环境下表现可靠。

紧凑型1600°C高温管式炉,配备50mm氧化铝管及真空法兰,适用于材料烧结

紧凑型1600°C高温管式炉,配备50mm氧化铝管及真空法兰,适用于材料烧结

这款紧凑型1600°C高温管式炉配备50mm氧化铝管和真空法兰,可显著提升您的实验室能力。它非常适合材料烧结和化学研究,为工业研发应用提供精确的热处理和卓越的可靠性。

1100°C大口径石英管式炉,配24英寸加热区及水冷法兰

1100°C大口径石英管式炉,配24英寸加热区及水冷法兰

这款1100°C大口径石英管式炉配备24英寸加热区和水冷法兰,专为精确的CVD工艺设计。它是材料研究和工业研发的理想选择,具有卓越的热稳定性和强大的热性能。

相关文章