带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

产品概述

这套高温热处理系统是实验室工程领域的杰出之作，专为在六个独立控制的加热温区内以卓越精度实现最高1700°C的温度而设计。通过将分体式铰链炉体与高纯氧化铝加工管相结合，该设备可实现样品的便捷装载以及对反应腔体的快速访问。这种双用途设计使其成为科研环境中不可或缺的工具，既适用于极端高温需求，也适用于模块化管式结构的灵活性，确保复杂实验配置能够轻松高效地进行管理。

该设备主要用于材料科学部门、工业研发中心和半导体制造实验室，擅长化学气相沉积（CVD）、晶体生长和先进陶瓷烧结等精密热处理工艺。系统能够保持1400 mm加热长度，适合高通量处理或形成精确的热梯度。其坚固结构专为航空航天、储能和电子等严苛行业量身打造，在这些领域中，材料纯度和热稳定性对最终产品的成功至关重要。

该系统专为严苛工况下的长期可靠运行而设计，采用高品质MoSi2加热元件和双层低碳钢外壳。集成冷却风扇可确保外表面维持在安全工作温度，保护操作人员及周边实验室设施。配备六个独立PID控制器对热曲线进行精细管理，设备使研究人员有信心每次都能以可重复、高保真的结果执行最敏感的工艺。

主要特点

• 六个独立加热温区： 炉体配备六个不同的加热区（200、200、300、300、200 和 200 mm），每个温区均由独立PID单元控制，可形成最高达10°C/cm的精确热梯度。
• 先进分体式炉体设计： 分体式腔体结构便于插入和取出加工管，这对于预先组装的实验装置或工艺周期之间的快速冷却尤为重要。
• 高纯氧化铝加工管： Ø60 mm × 1800 mm氧化铝管在极端温度下具有优异的耐化学性和结构完整性，为敏感材料合成提供洁净环境。
• MoSi2加热元件： 采用1800°C等级的二硅化钼元件，系统可实现快速升温并保持高温性能，不会像较低等级加热组件那样容易劣化。
• 水冷真空法兰： 系统配备完整的一套水冷法兰，即使在最高工作温度下也能保持密封完整性，便于实现薄膜沉积所需的高真空工艺。
• 精密PID温度控制： 六个控制器各提供50段可编程程序，分辨率为0.3°C，精度为±1°C，满足最严格的实验室标准。
• 增强安全联锁： 内置过热和热电偶断路报警可提供自动关机功能，保护设备和工艺管免受热失控或硬件故障影响。
• 集成数据采集： 通过RS485串行通信和基于LabVIEW的软件，用户可远程监控温度曲线、记录数据，并在中央工作站管理复杂工艺配方。
• 高效热设计： 双层钢制机箱配合强制风冷，使外壳温度保持在70°C以下，最大限度降低实验室环境热负荷并提高能效。
• 卓越均匀性： 当所有温区同步时，设备可提供1000 mm的均温区，温差为±5°C，非常适合大批量处理或长样品烧结。

应用领域

技术参数

为什么选择1700C高温六温区分体式管式炉

• 卓越的热处理灵活性： 1700°C峰值性能与六温区独立控制相结合，使研究人员能够在单台设备上无缝切换均匀加热和复杂梯度曲线。
• 经过验证的可靠性与制造质量： 采用高等级MoSi2元件和双壳体冷却设计，该系统可满足工业研发和制造中所需的高强度循环运行。
• 以精度驱动结果： 凭借行业领先的控制精度和集成LabVIEW软件，用户可自动化复杂热工艺并确保关键研究文档的数据完整性。
• 模块化且可定制： 我们的工程团队提供广泛的定制选项，从特殊法兰配置到多种电源标准，确保系统与您现有的实验室基础设施完美集成。
• 全面合规与支持： 每台设备均通过CE认证，并可选配UL和CSA标准认证，同时由响应迅速的技术支持团队提供保障，确保最大运行时间和操作安全。

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