产品概述
这款高温立式开启式管式炉代表了先进材料科学和工业研发领域热工程的巅峰。该系统设计工作温度高达1700°C，为精确加热、淬火和晶体生长应用提供了一个多功能的平台。通过采用立式结构和可开启的铰链式设计，研究人员可以轻松接触反应区，并集成复杂的运动机构（如升降或淬火系统），而无需干扰敏感的样品设置。
该设备主要用于冶金、陶瓷和半导体研究，在需要严格气氛控制或高真空条件的环境中表现出色。立式配置特别优化了热对流或重力辅助淬火对材料性能至关重要的应用场景。无论是进行相变研究还是合成新型电子元件，该系统都能提供稳定且可重复的热环境，满足工业实验室和学术研究机构的严格标准。
可靠性是该工程设计的核心。设备采用优质高纯氧化铝纤维隔热材料和双层钢壳结构，确保了卓越的能源效率和安全的外壳工作温度。该设备专为1600°C下的连续运行而设计，可为严苛的工业流程提供高负载循环性能。先进的PID控制和稳健的安全联锁装置的集成，保证了热处理过程的一致性，保护了样品的完整性和加热元件的使用寿命。
主要特点
- 精密开启式铰链设计：炉膛采用立式开启结构，操作人员可沿纵向打开设备。此功能便于快速装卸工艺管，并简化了复杂的内部监测传感器或样品架的设置。
- 先进的隔热性能：加热腔体采用高纯度氧化铝纤维材料，最大限度地减少了热量损失并提高了能源效率。这种高级隔热材料允许快速升温，同时在400mm的加热区内保持极佳的温度均匀性。
- 精密的双层外壳：坚固的双层外壳结构集成主动风冷系统，确保外表面触感凉爽。这种设计不仅提高了操作安全性，还稳定了内部电子元件，防止受热漂移。
- 真空与气氛多功能性：系统配备高质量不锈钢真空密封法兰，带有集成阀门和真空计。配合适当的泵送系统，可在惰性气体流动或低至10^-5 torr的高真空环境下无缝运行。
- 高精度PID调节：集成的温度控制器提供30个可编程段，可对加热速率、保温时间和冷却曲线进行精细控制。±1°C的精度确保了最高水平的工艺可重复性。
- 自动化安全联锁系统：内置的过热和热电偶故障保护功能，使系统能够自信地进行无人值守操作。超温报警和自动关机功能降低了长时间热处理循环中的风险。
- 优化的立式动力学：立式方向专为适配淬火机构和单晶生长设置（布里奇曼法或柴可拉斯基法）而设计，比水平配置更有效地利用重力和热梯度。
- 高性能加热元件：采用B型双铂铑热电偶和专用加热元件，设备在1700°C阈值下保持卓越的稳定性，确保在氧化或中性气氛中实现长期高性能运行。
应用领域
| 应用 | 描述 | 主要优势 |
|---|---|---|
| 单晶生长 | 利用垂直热梯度进行半导体和光学晶体的高温合成。 | 精确的梯度控制，实现无缺陷晶体结构。 |
| 快速淬火 | 受控加热后通过重力瞬间落入淬火介质，用于相变研究。 | 以极高精度捕获高温微观结构。 |
| 相变研究 | 研究合金和陶瓷在高达1700°C温度下的结构变化。 | 稳定的保温时间，实现完全的热力学平衡。 |
| CVD/PECVD | 用于薄膜涂层和碳纳米管合成的化学气相沉积工艺。 | 纯净的真空环境和精确的气流管理。 |
| 烧结与退火 | 在受控气氛下对先进陶瓷和难熔金属进行高温处理。 | 最大限度减少氧化并确保样品密度均匀。 |
| 材料疲劳测试 | 与加载框架垂直集成，测试航空合金的热机械性能。 | 真实模拟高应力热环境。 |
技术规格
| 参数 | TU-C20 规格详情 |
|---|---|
| 型号标识 | TU-C20 |
| 最高温度 | 1700°C（短期） |
| 连续工作温度 | 1600°C |
| 额定功率 | 7.0 KW |
| 工作电压 | AC 220V，单相，50/60Hz（需配40A断路器） |
| 加热区长度 | 400 mm |
| 工艺管尺寸 | 60 mm 外径 x 54 mm 内径 x 1000 mm 长 |
| 升温速率 (0-1400°C) | ≤ 10°C/min |
| 升温速率 (1400-1600°C) | ≤ 5°C/min |
| 温度精度 | ± 1°C |
| 温度控制器 | PID自动控制，带30个可编程段 |
| 热电偶类型 | B型双铂铑 |
| 真空度 (机械泵) | 10^-2 torr |
| 真空度 (分子泵) | 10^-5 torr |
| 冷却系统 | 强制风冷双层外壳 |
| 通讯接口 | DB9端口（可选配PC控制模块） |
| 法兰类型 | 不锈钢真空密封，带KF接口和针阀 |
为何选择1700立式开启式管式炉
- 工业级耐用性：专注于长期热稳定性的工程设计意味着该系统可在数百次循环中保持1700°C的性能，对于高利用率的研发中心而言，是一项卓越的投资。
- 精密制造：每台设备均使用优质组件构建，从B型铂铑热电偶到精密加工的不锈钢法兰，确保了无泄漏的真空性能和精确的温度反馈。
- 定制化与可扩展性：立式开启设计具有固有的模块化特性，允许集成定制的淬火机构、电机驱动升降系统或基于PC的远程监控，以适应特定的研究协议。
- 全面的安全架构：通过冗余的超温保护和热电偶断裂检测，该设备最大限度地降低了关键无人值守实验中的操作风险。
- 专家技术支持：THERMUNITS为每个系统提供深厚的技术专长，协助进行安装、软件集成和特定应用配置，确保高效达成您的研究目标。
立即联系我们的技术销售团队获取正式报价，或探讨针对您特定材料处理要求的定制立式热处理解决方案。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统
面向工业研发和材料科学应用的先进 1700°C 三温区加热分体式立式管式炉。该高精度系统具备独立温控、高真空能力以及高效节能隔热，可实现稳定的高温处理和快速样品淬冷结果。
带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉
专为材料研究和工业气相沉积应用而设计的精密1700C六温区分体式管式炉。该多功能系统提供独立的温区温度控制和可直接进行真空操作的法兰，满足稳定热处理和先进材料开发需求，确保卓越性能。
带真空法兰阀门和60mm氧化铝管的1700°C高温分体式管式炉
这款1700°C高温分体式管式炉配备60mm氧化铝管和真空法兰，可实现高精度材料处理。非常适用于需要精确气氛控制、先进PID编程以及在严苛实验室环境中进行可靠高纯度热处理的研发应用。
适用于1英寸和2英寸处理管的高温立式分体管式炉，配备PID温度控制器
专为材料科学研究和催化剂开发设计的精密1100°C立式分体管式炉。具有先进的PID控制、便于更换管子的分体盖设计以及卓越的隔热性能，确保为实验室和工业研发应用提供高性能加热解决方案。
1500℃高温开启式管式炉，用于材料研究、真空及气氛热处理
这款1500℃高温开启式管式炉为先进材料研究和工业烧结应用提供精确的热处理方案，采用双层壳体结构、集成PID控制及真空不锈钢法兰，在严苛的实验室环境下表现可靠。
1700°C 立式真空及气氛管式炉（配 80mm 刚玉管）
这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰，能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。
紧凑型立式对开式石英管式炉，配不锈钢真空法兰，适用于快速热淬火及受控气氛材料处理
专为高精度研究设计，这款紧凑型立式对开式石英管式炉可提供高达 1100°C 的快速加热。配备不锈钢真空法兰及 30 段可编程控制，是材料科学和工业淬火应用的必备工具。性能可靠。
1100°C 分体式立式管式炉，配备80mm石英管及不锈钢真空法兰
这款高性能1100°C分体式立式管式炉配备80mm石英管、不锈钢真空法兰以及精确的30段PID控制系统。专为专业工业实验室的材料研发、快速淬火及气氛控制热处理工艺而设计。
1200°C 十温区开启式管式炉，支持水平与垂直安装，适用于多温区热梯度及大直径材料加工
先进的1200°C十温区开启式管式炉系统，通过十个独立的加热区提供无与伦比的热梯度控制，支持水平或垂直灵活安装。专为精确的工业模拟、材料合成及高性能实验室研发热处理应用而设计，具有卓越的可靠性。
1200℃对开式立式管式炉，配备石英管与不锈钢真空法兰，适用于快速热处理
这款1200℃对开式立式管式炉配备5英寸石英管与精密PID控制，可用于快速淬火、真空处理与先进材料合成，满足高要求工业实验室环境需求，最大化提升研究效率。
1200°C高温分体式管式炉，配铰链式真空法兰及4英寸石英管，适用于实验室研究
这款1200°C分体式管式炉配备铰链式真空法兰和4英寸石英管，旨在简化样品装载流程。专为精密热处理设计，为先进材料科学和工业研发应用提供卓越的温度均匀性和真空性能。
六温区开启式管式炉 1.8米石英管 1200°C高温加热系统
这款六温区高温开启式管式炉提供灵活的热梯度和1.8米加热区。该系统具备1200°C最高温度、真空兼容性以及六个PID控制器，适用于先进材料研究和工业热处理应用。
高温 1600°C 分体式管式炉，可选配真空法兰及阀门，支持 60mm/80mm 刚玉管
高性能 1600°C 分体式管式炉，配备真空法兰、阀门及精密 PID 控制系统。该工业级设备支持 60mm 或 80mm 刚玉管，适用于先进材料研发中的气氛控制热处理及高真空处理环境。
六温区开启式管式炉（带氧化铝管及真空法兰），适用于1500°C高温热处理及CVD工艺
这款1500°C六温区开启式管式炉为专业实验室研究和高温CVD应用提供了卓越的热控性能。设备配备1800mm氧化铝管及精确的30段PID控制器，确保材料处理和退火结果的一致性。
用于HPCVD和晶体生长研究的1200°C高温分体式管式炉（带内部移动机构）
这款1200°C分体式管式炉配备了集成的内部移动机构，可在HPCVD和晶体生长过程中实现精确的样品定位。专为快速热处理设计，为先进材料科学研究提供了卓越的温度均匀性和真空稳定性。
高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管
这款高性能三温区开启式管式炉配备 35.4 英寸加热区和 8 英寸直径炉管，适用于先进的热处理工艺。通过独立的温区管理，可在真空或气体环境下实现 1200℃ 的峰值温度，并提供卓越的温度均匀性。
1250℃分体式管式炉，配备3英寸莫来石管与真空密封法兰，用于精密热处理
这款1250℃分体式管式炉配备3英寸莫来石管和真空密封法兰，适用于高端研发场景。专为材料科学设计，可提供精准PID控制、高纯隔热性能，以及在真空或可控气氛环境下的可靠运行表现，属于专业级设备。
用于先进气氛烧结和真空CVD应用的高温双温区开启式管式炉
利用这款高精度1400°C双温区开启式管式炉提升您的材料研究水平。它具有独立的温度控制、气氛烧结能力和卓越的热稳定性，是先进CVD实验和工业热处理项目的理想解决方案。
1200°C 高温开启式管式炉，可选配多种石英管尺寸及真空密封法兰，适用于材料科学研究
这款 1200°C 开启式管式炉配备可选石英管尺寸及精密 PID 控制系统，适用于气氛或真空处理，助力您的先进实验室研究。专为严苛的工业及研发环境设计，确保耐用性与高纯度材料合成需求。
五区分体式立式管式炉，最高1200°C，配4英寸石英管和不锈钢真空法兰
这款高性能1200°C五区分体式立式管式炉配备五个独立加热区和一根4英寸石英管，可为先进材料研究和工业热处理提供卓越的温度均匀性和快速淬火能力。