产品概述
这套高性能立式热处理系统专为先进材料科学研究和需要精确气氛控制及快速温度转换的工业研发应用而设计。通过将五区加热配置与分体式铰链炉体相结合，该设备为立式淬火测试、纳米粉体合成和化学气相沉积提供了无与伦比的灵活性。立式结构便于借助重力进行样品操作，并高效管理对流，是专注于高纯材料开发实验室的必备工具。
本设备专为严苛的实验室环境设计，配备大尺寸4英寸直径高纯石英管和不锈钢真空法兰，确保洁净且可控的反应环境。五个独立加热区使研究人员能够构建长而均匀的热场，或形成复杂的温度梯度，特别适用于多阶段化学反应或晶体生长工艺。凭借这种适应性，该系统可在不同实验方案之间无缝切换，无需重新配置硬件。
可靠性与安全性是本炉设计的核心。双层钢结构与主动风冷系统相结合，确保外壳即使在长时间高温运行中也保持安全可触。凭借精密工程组件和符合国际安全标准的设计，该系统在高要求研究环境中提供可重复结果所需的一致性。工业级加热元件和先进隔热材料确保其在严苛工作循环下仍具备热效率和长期耐用性。
主要特点
- 五个独立加热区：该炉配有五个200mm加热区（总长度1000mm），每个加热区均由独立热电偶和PID回路控制。这可实现长达650mm的超长恒温区，或形成精确热梯度，以满足复杂多区化学反应的需求。
- 立式分体式铰链设计：分体式炉体结构允许炉子在静止状态下开启，便于快速冷却（淬火），并可轻松接触石英管，用于装样、清洁和更换管体，无需拆卸整套设备。
- 高纯石英反应管：配备直径100mm（4英寸）的石英管，系统具有优异的化学惰性和抗热震性能，可对样品进行可视化监测，并支持高达1000°C的高真空运行。
- 先进PID温度控制：MET认证控制器提供30段可编程程序，可精确管理升温速率、保温时间和降温速率。集成自动整定功能和过热保护，确保无人值守运行时的工艺稳定性和设备安全。
- 坚固的真空密封系统：随附两个不锈钢真空法兰，集成针阀和真空表。顶部法兰上焊接有定制挂环，专为悬挂坩埚或样品而设计，适用于特殊的立式热处理。
- 增强安全与冷却：双层钢制外壳配合风冷风扇，使外部温度保持在65°C以下，在内部腔体升至1200°C时仍能保护操作人员。
- 可扩展通信接口：配备RS485端口，系统可用于远程数据记录和软件集成，使研究人员能够记录并绘制热数据，用于完整的记录保存和分析。
- 耐用的Fe-Cr-Al合金加热元件：加热元件采用钼掺杂，以增强高温下的抗氧化性和使用寿命，确保在数千小时运行中保持稳定性能。
应用领域
| 应用 | 说明 | 主要优势 |
|---|---|---|
| 立式淬火 | 通过立式管体结构，将样品从高温区快速下移到冷却介质中。 | 卓越的微观组织控制和相稳定性。 |
| 纳米粉体合成 | 利用五区均匀性将前驱体材料加工成超细粉末。 | 通过均匀热场实现精确的粒径分布。 |
| CVD / PECVD | 在高温下利用受控气流生长薄膜和纳米管。 | 多区控制可实现定制化前驱体汽化与反应。 |
| 陶瓷烧结 | 在受控真空或惰性气体中对先进氧化物或氮化物陶瓷进行热处理。 | 高纯环境可防止敏感材料受污染。 |
| 气氛退火 | 在流动氮气或氩气中处理金属合金或半导体。 | 在保持精确温度保温时间的同时防止氧化。 |
| 晶体生长 | 通过五个温区形成温度梯度，促进定向凝固。 | 生长速率高度可控，晶体质量更佳。 |
| 电池材料研发 | 在真空密封环境中对正极或负极活性材料进行热处理。 | 由于温区一致性高，研究结果更具可扩展性。 |
技术规格
| 参数 | TU-C11 详情 |
|---|---|
| 型号 | TU-C11 |
| 炉体结构 | 双层钢制外壳，风冷；外壳温度< 65°C |
| 额定功率 | 6 KW |
| 工作电压 | AC 208-240V 单相，50/60 Hz |
| 最高温度 | 1200°C（持续时间< 1小时） |
| 连续工作温度 | 1100°C |
| 最高升温速率 | ≤ 20°C/分钟 |
| 标准管尺寸 | 外径：100mm；内径：94mm；长度：1400mm |
| 标准管材质 | 高纯熔融石英 |
| 可选管径 | 1英寸、2英寸、3英寸、80mm 和 5英寸（同价可选） |
| 加热区配置 | 五个温区，每个200mm（总长1000mm） |
| 恒温区 | 当所有温区设为相同温度时，长度650mm（±1°C） |
| 温控器 | MET认证；30段可编程；PID自动整定；精度±1°C |
| 热电偶 | 五个K型热电偶（每个独立温区一个） |
| 真空密封 | 两个不锈钢法兰，带真空表、针阀和样品挂钩 |
| 气体接口 | 标准1/4’’倒刺接头（可选Swagelok®和KF25） |
| 真空性能 | 0.1 torr（机械泵）；配分子泵和KF25可达10-4 torr |
| 加热元件材料 | Mo掺杂Fe-Cr-Al合金 |
| 数据接口 | RS485通信端口（可选笔记本电脑/软件） |
| 通讯软件 | 基于Labview的温控系统（MTS01）- 可选 |
| 合规性 | CE认证；电气元件（>24V）通过UL/MET/CSA认证 |
| 尺寸（标准） | 针对实验室工作台立式布局进行了优化 |
为何选择 TU-C11
- 卓越的热精度：凭借五个独立PID控制温区，该系统提供1000mm的总加热长度和巨大的650mm均匀温区，为最敏感的材料合成提供所需的工艺稳定性。
- 多用途运行模式：无论您的工艺需要高真空环境、流动惰性气体还是快速立式淬火，这款设备的灵活设计都能满足您的特定实验需求，而无需额外硬件投入。
- 工业级安全合规：所有关键电气元件均通过UL、MET或CSA认证，整机获得CE标识，为采购团队和安全管理人员的机构部署提供信心保障。
- 优质工程与支持：采用高等级钢材和先进的钼掺杂加热元件制造，系统经久耐用。我们的技术团队提供全面定制支持，包括可选KF25高真空转接头和专用数字表。
- 面向未来的扩展性：配备RS485端口并兼容基于Labview的软件，可将独立炉体升级为数据驱动的研究平台。
立即联系 THERMUNITS，获取技术咨询或根据您的具体真空与热处理需求定制正式报价。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
1200℃对开式立式管式炉，配备石英管与不锈钢真空法兰，适用于快速热处理
这款1200℃对开式立式管式炉配备5英寸石英管与精密PID控制，可用于快速淬火、真空处理与先进材料合成，满足高要求工业实验室环境需求，最大化提升研究效率。
带触摸屏控制器和多种石英管选项的五温区 1200°C 高温分体式管式炉
高性能五温区 1200°C 管式炉，专为精确温度梯度与气氛控制而设计。该系统提供直观的触摸屏编程和真空密封能力，便于在精密烧结、退火和材料合成流程中实现稳定一致的结果。
紧凑型立式对开式石英管式炉，配不锈钢真空法兰，适用于快速热淬火及受控气氛材料处理
专为高精度研究设计，这款紧凑型立式对开式石英管式炉可提供高达 1100°C 的快速加热。配备不锈钢真空法兰及 30 段可编程控制，是材料科学和工业淬火应用的必备工具。性能可靠。
1100°C 分体式立式管式炉，配备80mm石英管及不锈钢真空法兰
这款高性能1100°C分体式立式管式炉配备80mm石英管、不锈钢真空法兰以及精确的30段PID控制系统。专为专业工业实验室的材料研发、快速淬火及气氛控制热处理工艺而设计。
1200°C 5英寸立式石英管式炉（带不锈钢真空法兰）
高性能1200°C立式石英管式炉，配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。
1500°C 五温区开启式管式炉（配84mm莫来石管及真空法兰）
这款1500°C高性能五温区开启式管式炉配备84mm外径莫来石管，并采用独立PID控制，可实现精确的热梯度处理。它是先进材料科学、相变研究及专业重结晶应用的理想选择。
配备 3 英寸石英管的高通量 1200C 四通道管式炉，适用于多区域退火和材料研究
借助我们先进的 1200C 四通道管式炉加速材料研究，该设备为每根 3 英寸石英管提供独立控制。这套高通量系统为工业和学术研发实验室中的退火和相图研究提供无与伦比的效率。
12温区超长开启式管式炉，配20英尺石英管，最高温度1100°C
这款高精度12温区开启式管式炉提供6米加热长度和1100°C最高温度，专为长尺寸样品设计。配备独立PID控制和真空法兰，为先进工业材料科学及研发应用提供卓越的温度均匀性。
六温区开启式管式炉 1.8米石英管 1200°C高温加热系统
这款六温区高温开启式管式炉提供灵活的热梯度和1.8米加热区。该系统具备1200°C最高温度、真空兼容性以及六个PID控制器，适用于先进材料研究和工业热处理应用。
高温七温区开启式管式炉，最高工作温度 1200°C，配备大直径石英管
这款高性能七温区开启式管式炉拥有 82.6 英寸的超长加热长度和 8 英寸石英管。专为精密材料研究而设计，提供卓越的温度均匀性和先进的气氛控制，适用于工业研发及严苛的制造应用。
1100°C 双温区立式开启型管式炉（配4英寸石英管及真空密封法兰）
这款1100°C双温区立式开启型管式炉配备四英寸石英管和真空密封法兰。该高精度系统专为CVD和PVD应用而设计，可为实验室研发提供卓越的热均匀性。
1200°C 十温区开启式管式炉，支持水平与垂直安装，适用于多温区热梯度及大直径材料加工
先进的1200°C十温区开启式管式炉系统，通过十个独立的加热区提供无与伦比的热梯度控制，支持水平或垂直灵活安装。专为精确的工业模拟、材料合成及高性能实验室研发热处理应用而设计，具有卓越的可靠性。
1700°C 立式真空及气氛管式炉（配 80mm 刚玉管）
这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰，能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。
1200°C最高四区分体管式炉，带可选大直径石英管
使用这款 1200°C 四区分体管式炉加速材料研究，该设备提供可选 14 英寸直径炉管和高纯度保温材料。它可在宽加热区内实现精密热均匀性，非常适合大规模烧结、退火以及先进的工业气相沉积工艺。
1200°C 双温区开启式管式炉，配熔融石英管及真空法兰，提供 60mm、80mm 和 100mm 直径可选
这款 1200°C 双温区开启式管式炉具备独立的温度控制功能，可实现精确的热梯度，助力材料研究。配备熔融石英管和真空密封法兰，是先进 CVD（化学气相沉积）和纳米材料合成的理想解决方案。
三温区管式炉，配备11英寸或15英寸石英管与铰链法兰，用于真空气氛热处理
这款三温区管式炉配备11英寸或15英寸石英管，可实现出色的热均匀性，适用于精确真空控制下的大规模晶圆退火和材料合成，搭配电动炉盖开合，满足工业实验室安全要求。
带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉
专为材料研究和工业气相沉积应用而设计的精密1700C六温区分体式管式炉。该多功能系统提供独立的温区温度控制和可直接进行真空操作的法兰，满足稳定热处理和先进材料开发需求，确保卓越性能。
七温区 1200°C 开合式管式炉，配备精密温度控制器及快速法兰真空系统
一款专为材料研究设计的专业级七温区 1200°C 开合式管式炉，配备 5 英寸石英管、精密 PID 控制器及快速法兰，适用于真空或受控气氛环境下的快速热处理。高性能研发热处理解决方案。
1200℃四温区可开启式管式炉，配备触摸屏控制、高纯度石英管及真空密封法兰
这款1200℃四温区可开启式管式炉配备先进的触摸屏控制器、高纯度石英管和灵活的真空密封法兰，可为您的材料科学研究赋能，实现精确的热梯度控制和跨工业应用的一致高温处理。
带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉，适用于高温材料合成
采用这款高端24英寸三温区分体管式炉，加速您的材料研究。它具备独立温控、兼容石英管以及真空密封法兰，可在高达1200°C的条件下提供精确热处理，满足严苛的实验室和工业研发应用需求。