配备 3 英寸石英管的高通量 1200C 四通道管式炉，适用于多区域退火和材料研究

产品概述

这套高通量热处理系统代表了实验室效率的一项重大进步，专为需要在不同条件下同时对多个样品进行热处理的研究人员而设计。通过将四个独立加热模块整合到一个紧凑的占地空间内，该设备能够并行执行不同的温度曲线，在不增加实验室空间需求的情况下将研究产出有效提升四倍。对于专注于加速新合金、陶瓷和薄膜材料发现与表征的材料科学家而言，这款设备是首选之作，尤其适用于对并行处理和精确气氛控制要求极高的场景。

该系统的主要应用场景涵盖冶金、半导体开发和固态化学等多样化的工业与学术领域。它在相图绘制中特别有效，因为多个样品必须接受不同的热历程，以识别相变点和结构演化。一次处理四个工艺的能力使其成为催化剂高通量筛选和下一代电池材料开发的不可或缺设备。在工业研发环境中，该系统通过提供可重复、高保真的热数据，成为小规模实验室实验与中试规模生产之间的桥梁。

可靠性是这款工业级炉子的基石。其结构坚固，可承受高达 1200°C 的严苛连续工作循环，确保稳定的热均匀性和长期机械稳定性。采用高纯石英反应管和精密加工的密封法兰，可保证无污染环境，这对于保持敏感材料的完整性至关重要。每个加热通道都由先进电子系统进行监测与控制，为复杂的多日实验流程提供严谨研发工作中所需的操作信心。

主要特点

• 四通道独立控制：该系统包含四个独立加热模块，可通过集中式触摸屏界面分别编程，使四种不同的温度曲线能够在同一设备占地内同时运行。
• 精密熔融石英腔体：每个通道均采用高纯度 80 mm 外径石英管，具备卓越的耐热冲击性和化学惰性，为敏感的化学气相沉积或退火工艺提供洁净环境。
• 先进的多段编程：每个加热通道均配备 24 段可编程控制器，可实现复杂的升温-保温序列，并可根据先进材料合成的特定动力学要求进行定制。
• 集成气体与真空架构：炉体为每个通道配备独立针阀和机械真空表，并共享一个 KF25 真空接口，允许使用单一真空源对全部四根管进行精确气氛管理。
• 增强的热均匀性：每个 300 mm 加热区采用 Ni-Cr-Al 电阻丝元件设计，在 ±1°C 内提供居中的 100 mm 恒温区，确保每一批次结果都具有可重复性和准确性。
• 实时数据采集：配备 RS485 通信端口和专用 PC 控制软件，使研究人员能够从单一工作站同时监测、记录并导出四个通道的热数据。
• 工业级真空完整性：精密加工且可快速夹紧的 KF25 法兰可实现高真空水平，配合兼容的分子涡轮泵时最低可达 10^-5 torr，这对易氧化冶金尤为重要。
• 全面安全监测：系统集成了过温和热电偶故障报警，在无人值守运行期间可自动关机，保护样品完整性和设备硬件安全。
• 坚固的加热元件设计：高等级 Ni-Cr-Al 电阻丝经过优化布置，以最大限度提高向石英管的传热效率，同时在高温长期连续运行中保持高耐久性。
• 紧凑的人体工学设计：通过将四台独立炉体采用垂直或模块化水平方式堆叠，该系统在不影响样品装卸便捷性的前提下，最大化利用实验室空间。

应用

技术规格

为什么选择 TU-57

• 无与伦比的效率：这款炉子的四通道结构使实验室团队能够完成通常需要四台独立单通道炉才能完成的工作，从而显著降低单样品成本和实验室占地面积。
• 经验证的可靠性：采用专有加热元件布局和工业级石英部件设计，该设备为高风险工业研发项目提供所需的稳定热可靠性。
• 精确的多气氛控制：每个通道独立的气体和真空管理确保不同化学环境能够在不发生交叉污染的情况下保持，这对于高纯材料研究至关重要。
• 先进的用户界面：直观的触摸屏和 PC 集成软件简化了复杂热循环的编程，为研究人员提供友好的使用体验，降低学习门槛。
• 可定制配置：我们的工程团队可对该平台进行修改，以满足专业 CVD 需求或独特的气体输送要求，确保设备能够随着您的研究需求不断扩展。

凭借无与伦比的精度和高通量能力，这套四通道系统是现代材料合成和热分析的终极解决方案。立即联系我们的技术销售团队，获取全面报价，或就您的特定应用需求讨论定制配置。