1200°C最高四区分体管式炉,带可选大直径石英管

管式炉

1200°C最高四区分体管式炉,带可选大直径石英管

货号: TU-46

最高温度: 1200°C 加热区: 4个独立区域(总长47英寸) 腔体直径: 可选8英寸、10英寸或14英寸内径石英管
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 3

这套高性能热处理系统专为满足工业研发和先进材料科学的严苛需求而设计。作为一款大型可分体四区炉,它为需要精确温度梯度或超长均匀温区的研究人员和生产工程师提供了卓越的灵活性。分体式炉盖结构使反应腔体易于接触,便于快速装卸样品,或在无需拆解整套炉管的情况下集成复杂的内部组件。通过将 1200°C 的最高工作温度与专用的大直径石英管选项相结合,该系统能够处理标准实验室炉无法容纳的大批量工艺和大尺寸基板。

该设备尤其适用于受控气氛和高真空环境下的应用。无论是先进陶瓷合成、半导体晶圆退火,还是金属粉末烧结,这台设备都能提供实现可重复结果所需的热稳定性。其四区配置可优化形成长达 36 英寸的均匀温度区,这对于将实验室工艺放大至中试规模至关重要。目标行业包括半导体制造、航空航天材料开发、储能研究以及高纯化学加工等,对一致性和可靠性的要求极高。

该系统采用重型工业部件制造,体现了对长期稳定运行的承诺。机架采用双层钢结构,并集成双冷却风扇,以在高温循环期间保持安全、低接触表面温度。高纯纤维氧化铝保温材料进一步增强了可靠性,可最大限度减少热量损失并提高能源效率。对于采购团队和实验室管理者而言,这款炉体代表了对热工基础设施的高端投资,在兼顾高通量能力的同时,保留了高端实验仪器的精度。

主要特点

  • 独立控制的四区设计: 设备配备四个独立加热区,总长度达 47 英寸,可在 ±5°C 范围内形成精确温度梯度,或实现长达 36 英寸的超长均匀温区。这种控制水平对于复杂 CVD 工艺和长样品退火至关重要。
  • 气动分体上盖操作: 为确保易用性和操作安全,上盖由两个重型气缸驱动。这种机械助力可实现分体炉的平稳开合,即使在高吞吐环境中也能快速冷却并轻松更换炉管。
  • 大规模腔体兼容性: 该系统支持可选的高纯石英管,内径可为 8、10 或 14 英寸。这种灵活性使其能够在单次热循环中处理大尺寸晶圆、笨重部件或大量小样品。
  • 精密 PID 温度调节: 设备配备四个可编程数字控制器,提供 30 段程序,用于管理升温速率、降温速率和保温时间。±1°C 的精度确保即使是最敏感的材料也能在严格公差内加工。
  • 工业级冷却与保温: 双层钢制外壳配合双冷却风扇,确保外表面接触安全。高纯纤维氧化铝保温材料具有出色的热保持能力,同时显著降低长时间运行时的功耗。
  • 先进真空密封技术: 该设备配有一对不锈钢 304 真空法兰,配备双高温硅胶 O 形圈和集成水冷夹套。即使在系统上限温度下运行,也能确保密封完整性和长寿命。
  • 全面安全系统: 内置过热和热电偶断裂保护,以及超温报警,可实现放心的无人值守运行。系统在发生热失控时会安全关机,保护设备和内部珍贵样品。
  • 高性能加热元件: 掺钼的 Fe-Cr-Al 合金加热元件可提供快速升温和优异的抗氧化能力。这些元件经过优化布置,可在整个工艺管周向上提供均衡的辐射热。
  • 即装即用的数字通信: 标配 RS485 通讯端口和专用软件。用户可通过笔记本电脑监控和控制炉体,实现数据记录和远程配方管理,适用于标准化工业流程。
  • 优化的热缓冲块: 配备缓冲型石英圆盘热块,以保持腔体内部清洁,并防止热辐射损坏法兰密封,从而进一步延长易耗部件的使用寿命。

应用领域

应用 描述 主要优势
半导体晶圆退火 对硅或 SiC 晶圆进行高温处理,以修复晶体缺陷并激活掺杂剂。 较大的 14 英寸内径可同时批量处理多片晶圆。
化学气相沉积(CVD) 作为热反应器,用于合成二维材料、碳纳米管或薄膜涂层。 四区控制可精确调节前驱体蒸发和沉积温度梯度。
工程陶瓷烧结 对陶瓷粉末进行高温处理,制造用于航空航天和医疗用途的高致密、高强度部件。 36 英寸范围内卓越的热均匀性(±5°C)可防止翘曲和内部应力。
气氛扩散 在氩气、氮气或氢气等受控气体环境下向固体材料中引入掺杂元素。 双硅胶 O 形圈法兰可确保整个过程中的高真空或高纯气氛完整性。
航空航天合金时效 对用于涡轮叶片和结构机身部件的特种合金进行精确热处理。 气动分体上盖可实现快速淬冷或在循环结束后立即接触样品。
储能研究 对下一代锂离子电池和固态电池的正极/负极材料进行煅烧和烧结。 坚固且可接入 PLC 的软件集成便于记录关键生产数据。
大尺寸玻璃应力消除 对大型玻璃或石英部件进行退火,以消除制造或焊接后产生的内部应力。 47 英寸的总加热长度可轻松容纳超大工业玻璃工件。

技术参数

特性 规格详情(型号 TU-46)
加热区长度 总长:1200mm(47 英寸);4 个区域,每个 300mm(11.8 英寸)
均匀温区 914mm(36 英寸),±5ºC
最高工作温度 1200°C(≤ 1 小时)
连续工作温度 1100°C
真空温度上限 < 1000°C(高真空条件下)
最高升温速率 10°C / 分钟
炉管选项(内径 x 外径 x 长度) 8.1" 内径 x 8.5" 外径 x 60" 长度(206 x 216 x 1524 mm)
10.6" 内径 x 11.0" 外径 x 51" 长度(269 x 279 x 1295 mm)
14.6" 内径 x 15.0" 外径 x 73" 长度(371 x 381 x 1860 mm)
电源要求 AC 208-240V 三相,50/60 Hz(需 50A 断路器)
最大功耗 24 KW
真空度 10^-2 Torr(机械泵);10^-5 Torr(涡轮分子泵)
密封系统 SS 304 法兰,带水冷夹套和双硅胶 O 形圈
控制界面 4 套 30 段 PID 数字控制器(通过 MET/CE 认证)
精度 ±1ºC(标准 PID);可选 Eurotherm ±0.1ºC
气体管理 法兰上安装两个针阀和真空压力表
合规性 通过 CE 认证;可按需提供 NRTL(UL61010)或 CSA

为何选择 TU-46

投资这款四区系统,意味着您的实验室或生产设施将配备一款专为最高级别热精度和长期运行而设计的设备。与标准单区炉不同,四区架构提供了消除大面积样品“冷点”所需的精细控制,即使在 14 英寸直径规模下工作,也能保持批次一致性。这一能力对于减少材料浪费和提高高价值工业工艺的产率至关重要。

该设备的工程设计在强调坚固性的同时,没有牺牲材料研究所需的精细度。从可减轻操作员疲劳的气动升降系统,到可保护敏感密封件的水冷真空法兰,每个组件都经过精心选型,以承受严苛环境下的持续使用。我们的制造流程符合严格的 CE 和 MET 标准,为采购团队提供现代工业设施所需的文档和安全保障。

此外,我们理解每个研究过程都有独特需求。我们为这款炉体提供广泛定制选项,包括集成 Eurotherm 高精度控制器、用于多气体混合的质量流量控制器,以及从机械泵到涡轮分子泵的多种真空泵配置。这种灵活性确保设备能够随着您的研究目标不断演进。

选择这款炉体,意味着与一个致力于技术卓越和及时支持的品牌合作。我们的团队可提供安装、维护和工艺优化方面的全面指导,确保您实现热处理目标。欢迎立即联系我们,讨论您的特定大直径炉管需求,或索取定制配置的详细报价。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

1200℃四温区可开启式管式炉,配备触摸屏控制、高纯度石英管及真空密封法兰

1200℃四温区可开启式管式炉,配备触摸屏控制、高纯度石英管及真空密封法兰

这款1200℃四温区可开启式管式炉配备先进的触摸屏控制器、高纯度石英管和灵活的真空密封法兰,可为您的材料科学研究赋能,实现精确的热梯度控制和跨工业应用的一致高温处理。

四区管式炉 1100C,带 600mm 大直径石英管和真空法兰

四区管式炉 1100C,带 600mm 大直径石英管和真空法兰

先进的四区管式炉,配备 24 英寸石英管和精确的 1100C 热控制。该高性能系统专为大规模材料加工、烧结和 CVD 应用而设计,可提供卓越的温度均匀性和可靠的真空密封,满足苛刻的研发环境需求。

四温区1200℃多温区可拆分管式炉,配备独立数字温控器,适用于1英寸或2英寸工艺管

四温区1200℃多温区可拆分管式炉,配备独立数字温控器,适用于1英寸或2英寸工艺管

专为CVD和PVD应用设计的精密四温区1200℃多温区可拆分管式炉,提供四个加热区的独立温度控制,可为先进材料研究和工业开发创建精确的热梯度或均匀的工艺环境。

1200°C 十温区开启式管式炉,支持水平与垂直安装,适用于多温区热梯度及大直径材料加工

1200°C 十温区开启式管式炉,支持水平与垂直安装,适用于多温区热梯度及大直径材料加工

先进的1200°C十温区开启式管式炉系统,通过十个独立的加热区提供无与伦比的热梯度控制,支持水平或垂直灵活安装。专为精确的工业模拟、材料合成及高性能实验室研发热处理应用而设计,具有卓越的可靠性。

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

这款1500℃高温开启式管式炉为先进材料研究和工业烧结应用提供精确的热处理方案,采用双层壳体结构、集成PID控制及真空不锈钢法兰,在严苛的实验室环境下表现可靠。

1250℃分体式管式炉,配备3英寸莫来石管与真空密封法兰,用于精密热处理

1250℃分体式管式炉,配备3英寸莫来石管与真空密封法兰,用于精密热处理

这款1250℃分体式管式炉配备3英寸莫来石管和真空密封法兰,适用于高端研发场景。专为材料科学设计,可提供精准PID控制、高纯隔热性能,以及在真空或可控气氛环境下的可靠运行表现,属于专业级设备。

高温七温区开启式管式炉,最高工作温度 1200°C,配备大直径石英管

高温七温区开启式管式炉,最高工作温度 1200°C,配备大直径石英管

这款高性能七温区开启式管式炉拥有 82.6 英寸的超长加热长度和 8 英寸石英管。专为精密材料研究而设计,提供卓越的温度均匀性和先进的气氛控制,适用于工业研发及严苛的制造应用。

1200°C 高温 5 英寸分体式真空管式炉,配有 12 英寸加热区及分离式 PID 控制器

1200°C 高温 5 英寸分体式真空管式炉,配有 12 英寸加热区及分离式 PID 控制器

这款高性能 1200°C 分体式真空管式炉可实现精密热处理。系统配备 5 英寸大口径石英管、12 英寸加热区及分离式 PID 控制器,并获得 NRTL 认证,可为先进材料研究及工业研发应用提供可靠的实验结果。

12温区超长开启式管式炉,配20英尺石英管,最高温度1100°C

12温区超长开启式管式炉,配20英尺石英管,最高温度1100°C

这款高精度12温区开启式管式炉提供6米加热长度和1100°C最高温度,专为长尺寸样品设计。配备独立PID控制和真空法兰,为先进工业材料科学及研发应用提供卓越的温度均匀性。

配备 3 英寸石英管的高通量 1200C 四通道管式炉,适用于多区域退火和材料研究

配备 3 英寸石英管的高通量 1200C 四通道管式炉,适用于多区域退火和材料研究

借助我们先进的 1200C 四通道管式炉加速材料研究,该设备为每根 3 英寸石英管提供独立控制。这套高通量系统为工业和学术研发实验室中的退火和相图研究提供无与伦比的效率。

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

这款1500°C六温区开启式管式炉为专业实验室研究和高温CVD应用提供了卓越的热控性能。设备配备1800mm氧化铝管及精确的30段PID控制器,确保材料处理和退火结果的一致性。

高温 1600°C 分体式管式炉,可选配真空法兰及阀门,支持 60mm/80mm 刚玉管

高温 1600°C 分体式管式炉,可选配真空法兰及阀门,支持 60mm/80mm 刚玉管

高性能 1600°C 分体式管式炉,配备真空法兰、阀门及精密 PID 控制系统。该工业级设备支持 60mm 或 80mm 刚玉管,适用于先进材料研发中的气氛控制热处理及高真空处理环境。

六温区开启式管式炉 1.8米石英管 1200°C高温加热系统

六温区开启式管式炉 1.8米石英管 1200°C高温加热系统

这款六温区高温开启式管式炉提供灵活的热梯度和1.8米加热区。该系统具备1200°C最高温度、真空兼容性以及六个PID控制器,适用于先进材料研究和工业热处理应用。

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

专为材料研究和工业气相沉积应用而设计的精密1700C六温区分体式管式炉。该多功能系统提供独立的温区温度控制和可直接进行真空操作的法兰,满足稳定热处理和先进材料开发需求,确保卓越性能。

1200°C 双温区开启式管式炉,配熔融石英管及真空法兰,提供 60mm、80mm 和 100mm 直径可选

1200°C 双温区开启式管式炉,配熔融石英管及真空法兰,提供 60mm、80mm 和 100mm 直径可选

这款 1200°C 双温区开启式管式炉具备独立的温度控制功能,可实现精确的热梯度,助力材料研究。配备熔融石英管和真空密封法兰,是先进 CVD(化学气相沉积)和纳米材料合成的理想解决方案。

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

这款高性能三温区开启式管式炉配备 35.4 英寸加热区和 8 英寸直径炉管,适用于先进的热处理工艺。通过独立的温区管理,可在真空或气体环境下实现 1200℃ 的峰值温度,并提供卓越的温度均匀性。

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰,能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

高性能1200°C立式石英管式炉,配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。

五区分体式立式管式炉,最高1200°C,配4英寸石英管和不锈钢真空法兰

五区分体式立式管式炉,最高1200°C,配4英寸石英管和不锈钢真空法兰

这款高性能1200°C五区分体式立式管式炉配备五个独立加热区和一根4英寸石英管,可为先进材料研究和工业热处理提供卓越的温度均匀性和快速淬火能力。

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰

使用这款1200°C三温区可开启式管式炉优化热处理工艺。其具备18英寸加热长度和精确的PID控制,为全球实验室设施中的先进材料研究、退火、烧结和专业工业研发应用提供卓越的温度均匀性。