用于先进气氛烧结和真空CVD应用的高温双温区开启式管式炉

管式炉

用于先进气氛烧结和真空CVD应用的高温双温区开启式管式炉

货号: TU-GS15

最高温度: 1400°C 加热区: 双区(独立控制) 温度精度: ±1°C
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产品概述

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该高性能热处理系统代表了实验室热处理技术的标杆,专为先进材料研究和工业研发而设计。通过在开启式铰链结构内采用双温区加热配置,该设备可实现精确的温度曲线设定和快速冷却,是高温气氛烧结、CVD实验和真空退火不可或缺的资产。其核心价值在于能够保持极其均匀的温度场,同时提供独立控制不同加热温区的灵活性。

该系统专为严苛的实验室环境而设计,常用于材料科学研究所、航空航天研究设施和半导体开发实验室。无论是进行复杂的化学气相沉积还是简单的气氛还原,该设备都能确保高重现性和高精度。双层外壳结构有助于高效风冷,确保在内腔达到极端温度时,外表面仍可安全触摸,体现了对性能和操作员安全的双重承诺。

工程师和采购团队可以信赖该装置的坚固结构和优质热组件。从进口日本多晶氧化铝纤维绝缘材料到碳化硅(SiC)加热元件,每一个细节都针对长寿命和高能效进行了优化。该系统为合成新材料或进行严格的热应力测试提供了稳定、可控的环境,确保您的研究成果即使在最苛刻的实验条件下也能保持一致。

主要特点

  • 双温区独立控制: 该系统具有两个独立的加热区,每个区域都配有专用的控制器和热电偶,允许用户创建特定的温度梯度或保持较长的均匀恒温区。
  • 精密PID温度管理: 设备采用先进的40段数字控制器,提供专业级的精度,并针对低、中、高温范围专门调整了6个PID参数,以防止超调。
  • 卓越的隔热性能: 炉膛由高纯度多晶氧化铝纤维制成,具有优异的保温性、高反射率以及抗热胀冷缩能力,显著降低了能耗。
  • 高性能SiC加热元件: 碳化硅元件经战略性布局,即使在频繁的高温循环下,也能确保温度场均匀并延长使用寿命。
  • 集成安全保护系统: 该装置配备了行程限位开关,可在开盖时自动切断电源,并具有超温和过流保护功能,确保故障安全运行。
  • 真空和气氛多功能性: 炉管采用不锈钢双环密封法兰,配合分子泵可达到10⁻⁴ Pa的真空度,并支持多种气体流量配置,用于受控气氛加工。
  • 带液压支撑的开启式炉膛设计: 分体式炉体可通过液压升降机轻松打开,便于炉管快速冷却或方便地进行样品放置和维护。
  • 先进的数据通信: 集成的485通信接口允许将设备连接到计算机,通过专用软件进行实时监控、数据记录和加热曲线生成。
  • 可靠的电力电子器件: 系统采用优质组件构建,包括德国制造的晶闸管和移相触发器,确保电流输送稳定,并保护加热元件免受电涌影响。

应用领域

应用 描述 主要优势
化学气相沉积 (CVD) 通过加热管内的气态前驱体反应生长薄膜和纳米材料。 精确的温区控制确保薄膜厚度均匀。
热解研究 在惰性气氛中对废轮胎或生物质等有机材料进行热分解。 双温区防止局部碳化并优化油/气产率。
气氛烧结 在还原性或惰性气体下烧结陶瓷或金属粉末,以防止氧化。 可靠的法兰密封保持高气氛纯度。
真空退火 在低压环境下对金属部件或晶圆进行应力消除。 高真空能力防止表面污染。
催化剂测试 评估催化材料在特定温度梯度下的效率。 独立温区允许在一次通过中实现不同的反应阶段。
陶瓷共烧 对需要复杂升温/保温循环的多层陶瓷组件进行同时烧制。 40段编程允许复杂的温度曲线设置。
半导体掺杂 在高温下将掺杂剂扩散到半导体晶圆中。 工艺管内极佳的温度均匀性。

技术规格

参数 TU-GS15-I TU-GS15-II TU-GS15-III
炉管外径 60 mm 80 mm 100 mm
炉管长度 1000 mm 1000 mm 1000 mm
最高工作温度 1400°C 1400°C 1400°C
连续工作温度 1350°C 1350°C 1350°C
加热温区 2区 (每区260mm) 2区 (每区260mm) 2区 (每区260mm)
恒温区长度 每区100mm 每区100mm 每区100mm
升温速率 ≤30°C / 分钟 ≤30°C / 分钟 ≤30°C / 分钟
控温精度 +/- 1°C +/- 1°C +/- 1°C
热电偶类型 S型 S型 S型
加热元件 碳化硅 (SiC) 碳化硅 (SiC) 碳化硅 (SiC)
温度控制器 Shimaden FP93 (40段) Shimaden FP93 (40段) Shimaden FP93 (40段)
炉管材质 氧化铝陶瓷 氧化铝陶瓷 氧化铝陶瓷
炉膛材质 多晶98%氧化铝纤维 多晶98%氧化铝纤维 多晶98%氧化铝纤维
触发器 移相触发 移相触发 移相触发
整体尺寸 1420 x 490 x 855 mm 1420 x 490 x 855 mm 1420 x 490 x 855 mm
真空度 10⁻¹ 至 10⁻⁴ Pa (取决于泵) 10⁻¹ 至 10⁻⁴ Pa (取决于泵) 10⁻¹ 至 10⁻⁴ Pa (取决于泵)

为何选择此款管式炉

  • 无与伦比的热精度: 双温区配置结合日本进口PID控制器,为敏感材料合成提供了世界级的稳定性和精度。
  • 工业级耐用性: 该装置采用SiC元件和高密度氧化铝纤维制造,专为高通量工业和学术实验室的连续运行而设计。
  • 先进的安全协议: 从机械限位开关到电子漏电保护,设备经过精心设计,可保护用户和您的设施免受操作风险。
  • 可定制的气氛控制: 高真空法兰和可选的数字流量计,无论是在氢气、氩气还是真空环境下工作,都能实现高度定制化的环境。
  • 专家工程支持: 我们提供全面的文档、控制软件和技术支持,确保该设备能无缝集成到您的工作流程中。

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