产品概述

这款高性能热处理系统旨在满足现代材料科学和工业研究的严苛要求。通过结合开启式铰链设计与双温区温度控制,该设备为研究人员和工程师提供了一个多功能的平台,适用于高温气氛烧结、淬火和化学气相沉积(CVD)。其核心价值在于能够在保持极高温度均匀性的同时,提供快速冷却和即时取放管材的灵活性。该装置专为需要精确热梯度或快速热转换以实现材料最终性能的复杂热处理工艺而设计。
该系统针对科研院所、航空航天实验室和半导体制造领域,在可靠性和一致性至关重要的环境中表现出色。无论是进行真空退火还是气氛还原,该炉都能在严苛条件下确保稳定的性能。集成优质组件(包括日本制造的隔热材料和欧洲电源控制器)保证了较长的使用寿命和可重复的实验结果。该设备代表了实验室能力的重大投资,架起了小规模实验结果与工业化生产要求之间的桥梁。
对该装置的信心建立在稳健的工程设计和安全第一的设计理念之上。炉体采用双层外壳设计以保持较低的表面温度,并配备了一系列自动保护系统,为高达1200°C的高温操作提供了安全环境。其双温区配置允许在处理管的不同部分进行独立的温度设置,从而能够创建晶体生长和多级化学反应所必需的特定热梯度。对于寻求精度、速度和操作安全平衡的实验室而言,该系统是理想的选择。
主要特点
- 双温区独立控温:系统具有两个独立的加热区,可设置为不同的温度,从而创建精确的热梯度或更宽的均匀加热长度,这对复杂的CVD和淬火工艺至关重要。
- 先进的Shimaden FP93控制器:从日本进口,这款高精度40段数字控制器支持多种程序模式(4x10、2x20或1x40),并利用6组独立的PID参数,确保在低温、中温和高温范围内实现无与伦比的精度。
- 高性能Kanthal A1加热元件:配备原装Kanthal电阻丝,该炉提供稳定的加热性能和卓越的耐用性,即使在反复的高温循环后也能保持稳定的温度场。
- 精密设计的开启式炉膛:多晶氧化铝纤维炉膛分为两半,允许在操作过程中或操作后打开炉体,以便进行快速淬火、即时冷却或方便地拆卸和更换工艺管。
- 卓越的真空和气氛密封:采用带有集成气体接头、阀门和压力表的不锈钢双环密封法兰,系统可达到10⁻³ Pa的真空度,非常适合对氧气敏感的热处理工艺。
- 稳健的安全和保护系统:设备配备了过行程限位开关,在盖子打开时切断电源,同时具备超温和过流保护功能,若热电偶发生故障,系统会自动关闭。
- 日本进口多晶氧化铝纤维隔热层:从日本进口的炉膛材料具有高反射率和优异的抗热胀冷缩性能,确保了能源效率和均匀的内部温度环境。
- 集成数据通信与软件:RS485通信接口允许通过PC进行完全远程控制,使操作员能够实时监控PV/SV参数、保存加热曲线并归档数据,以满足质量控制和审计需求。
- 可靠的电源管理组件:采用德国制造的Semikron可控硅和Chint电源控制器,系统利用移相触发技术,为加热元件提供平稳、精确的功率输出。
- 液压支撑系统:炉盖配备液压升降器,确保打开和关闭沉重的开启式炉顶时平稳、安全,且操作员无需费力。
应用领域
| 应用 | 描述 | 核心优势 |
|---|---|---|
| 真空退火 | 在受控真空环境中处理金属和合金,以消除内应力。 | 防止加热循环过程中的氧化和表面污染。 |
| 淬火研究 | 从高温快速冷却材料以改变其晶体结构。 | 开启式设计允许即时暴露和快速降温。 |
| CVD / PECVD | 用于薄膜、纳米管或石墨烯生长的化学气相沉积。 | 双温区控制可创建气相传输所需的精确温度梯度。 |
| 气氛烧结 | 在氮气或氩气等特定气体环境中加热陶瓷或金属粉末。 | 集成气体接头和流量计允许精确控制气氛成分。 |
| 半导体研发 | 在高纯度条件下对硅片或电子元件进行热处理。 | 高真空能力和精确的PID控制确保高产率和可重复性。 |
| 航空航天材料 | 在极端热应力下测试耐热合金和复合材料。 | 可靠的1200°C运行,在处理区具有一致的均匀性。 |
| 气氛还原 | 使用氢气或成型气去除金属样品中的氧化物。 | 安全的法兰密封和气体管理系统确保工艺气体的安全处理。 |
| 电池研究 | 为先进储能设备煅烧和烧结正负极材料。 | 均匀加热确保样品批次间电化学性能的一致性。 |
技术规格
| 规格类别 | 参数 | TU-GS01-I | TU-GS01-II | TU-GS01-III |
|---|---|---|---|---|
| 炉膛尺寸 | 管径 x 长度 | 60mm x 1000mm | 80mm x 1000mm | 100mm x 1000mm |
| 外部尺寸 | 整体尺寸 (长x宽x高) | 1140 x 460 x 695 mm | 1140 x 460 x 695 mm | 1140 x 460 x 695 mm |
| 热性能 | 最高温度 | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| 连续工作温度 | 1100°C | 1100°C | 1100°C | |
| 升温速率 (最大) | ≤30°C / min | ≤30°C / min | ≤30°C / min | |
| 推荐升温速率 | ≤15°C / min | ≤15°C / min | ≤15°C / min | |
| 控温精度 | +/- 1°C | +/- 1°C | +/- 1°C | |
| 温区配置 | 总加热长度 | 410mm (205mm/区) | 410mm (205mm/区) | 410mm (205mm/区) |
| 恒温区长度 | 160mm (80mm/区) | 160mm (80mm/区) | 160mm (80mm/区) | |
| 电气数据 | 功率 | 2.5KW | 2.5KW | 3.5KW |
| 电压 | 220V (单相) | 220V (单相) | 220V (单相) | |
| 核心组件 | 加热元件 | Kanthal A1 电阻丝 | Kanthal A1 电阻丝 | Kanthal A1 电阻丝 |
| 温度控制器 | Shimaden FP93 | Shimaden FP93 | Shimaden FP93 | |
| 热电偶 | K型 | K型 | K型 | |
| 隔热材料 | 多晶氧化铝 | 多晶氧化铝 | 多晶氧化铝 | |
| 真空/气体 | 密封类型 | 双环法兰 | 双环法兰 | 双环法兰 |
| 真空度 (标准) | 10⁻¹ Pa | 10⁻¹ Pa | 10⁻¹ Pa | |
| 真空度 (可选) | 10⁻⁴ Pa (分子泵) | 10⁻⁴ Pa (分子泵) | 10⁻⁴ Pa (分子泵) |
标准组件与配件
- 管式炉主机:1台 (TU-GS01)
- 不锈钢真空法兰:1套(含气体接头和阀门)
- 工艺管:1根(TU-GS01系列配备高纯石英管)
- 隔热堵头:2对(氧化铝陶瓷)
- 支撑工具:1个不锈钢钩;5个氧化铝坩埚
- 安全防护:1副耐热手套
- 仪表:2个K型热电偶;2个备用保险丝
- 控制套件:RS485计算机接口、Shimaden软件及详细说明书
为何选择 TU-GS01
- 久经考验的长期可靠性:通过集成Kanthal加热元件和Shimaden控制器等世界级组件,该炉专为承受多年连续工业和实验室使用而打造,性能不会退化。
- 卓越的热精度:双温区控制结合6组PID逻辑,确保您的材料在所需的精确热条件下进行处理,消除了批次间的差异。
- 增强的操作安全性:多层保护措施——包括用于开启式铰链盖的物理限位开关和先进的电子保护装置——保护了操作员和管内珍贵的样品。
- 灵活的系统架构:无论您需要高真空度、特定的气体流量还是定制的管径,TU-GS01平台都具有极高的适应性,以满足特定的研究方案和工业工作流程。
- 优质材料制造:从日本进口的氧化铝纤维隔热层到重型不锈钢法兰,每一种材料的选择都基于其抗热冲击和保持结构完整性的能力。
投资于一套结合了精密工程与工业级耐用性的热处理解决方案,确保您的研发结果始终一致且可靠。立即联系THERMUNITS获取详细的技术咨询或针对您特定实验室要求的定制报价。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!
相关产品
1200°C 双温区开启式管式炉,配熔融石英管及真空法兰,提供 60mm、80mm 和 100mm 直径可选
这款 1200°C 双温区开启式管式炉具备独立的温度控制功能,可实现精确的热梯度,助力材料研究。配备熔融石英管和真空密封法兰,是先进 CVD(化学气相沉积)和纳米材料合成的理想解决方案。
1500°C 双温区开启式管式炉(带真空法兰及80mm氧化铝管)
高性能1500°C双温区开启式管式炉,配备80mm氧化铝管、碳化硅(SiC)加热元件及精密PID控制系统。适用于材料研发、化学气相沉积(CVD)以及在真空和多气氛环境下的热处理,是高端工业实验室研究的理想选择。
1200°C 双温区紧凑型开启式管式炉(可选配 1" - 2" 石英管及真空法兰)
这款 1200°C 双温区紧凑型开启式管式炉提供精确的温度梯度控制和真空处理能力。专为材料科学研发设计,配备独立 PID 控制器、不锈钢法兰和节能纤维绝缘层,确保实验室操作的一致性与高效表现。
用于先进气氛烧结和真空CVD应用的高温双温区开启式管式炉
利用这款高精度1400°C双温区开启式管式炉提升您的材料研究水平。它具有独立的温度控制、气氛烧结能力和卓越的热稳定性,是先进CVD实验和工业热处理项目的理想解决方案。
1100°C 双温区立式开启型管式炉(配4英寸石英管及真空密封法兰)
这款1100°C双温区立式开启型管式炉配备四英寸石英管和真空密封法兰。该高精度系统专为CVD和PVD应用而设计,可为实验室研发提供卓越的热均匀性。
双温区快速加热管式炉 高温真空气氛系统
这款高性能双温区快速加热管式炉最高温度可达1200℃,升温速率高达每分钟100℃,配备精密PID控制及真空气氛功能,适用于先进材料研究、烧结及化学气相沉积应用。
双区管式炉1100℃,配11英寸石英管与真空法兰,用于8英寸晶圆加工
这款先进的高温双区管式炉配置11英寸石英管和24英寸加热区,可提供出色的热均匀性,适用于工业和实验室领域的8英寸晶圆退火、材料烧结以及特种化学气相沉积研究。
用于高温CVD和真空退火的双温区双盖管式炉
专业的高温双温区管式炉,采用Kanthal A1加热元件和先进的PID控制系统,适用于科研及工业应用。该系统为CVD、真空退火和材料烧结提供精确的热处理,并具备卓越的可靠性。
紧凑型立式对开式石英管式炉,配不锈钢真空法兰,适用于快速热淬火及受控气氛材料处理
专为高精度研究设计,这款紧凑型立式对开式石英管式炉可提供高达 1100°C 的快速加热。配备不锈钢真空法兰及 30 段可编程控制,是材料科学和工业淬火应用的必备工具。性能可靠。
用于材料研究与工业热处理的高温加长双温区管式炉
这款高性能加长双温区管式炉可助力您的材料研究。设备采用瑞典 Kanthal A1 发热元件及先进的 PID 控制技术,在 1200°C 以下可确保卓越的温度均匀性,非常适合现代工程领域中严苛的实验室及工业研发处理应用。
双温区石英管式炉,管径80mm,最高温度1200℃,配3通道气体混合器与真空泵系统
这款先进的双温区石英管式炉配备80mm管径炉管、集成三通道气体混合装置与高性能真空系统,专为CVD实验与材料研究设计,可实现精确的1200℃热处理,具备耐腐蚀真空监测能力。
用于工业热处理和材料科学研究的加长型双温区管式炉
这款加长型双温区管式炉采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件和先进的PID控制系统,可实现精确的材料研究。该设备提供真空和气氛选项,为严苛的工业实验室热处理应用提供卓越的温度均匀性和可靠性。
1200℃对开式立式管式炉,配备石英管与不锈钢真空法兰,适用于快速热处理
这款1200℃对开式立式管式炉配备5英寸石英管与精密PID控制,可用于快速淬火、真空处理与先进材料合成,满足高要求工业实验室环境需求,最大化提升研究效率。
1250℃分体式管式炉,配备3英寸莫来石管与真空密封法兰,用于精密热处理
这款1250℃分体式管式炉配备3英寸莫来石管和真空密封法兰,适用于高端研发场景。专为材料科学设计,可提供精准PID控制、高纯隔热性能,以及在真空或可控气氛环境下的可靠运行表现,属于专业级设备。
1200°C 十温区开启式管式炉,支持水平与垂直安装,适用于多温区热梯度及大直径材料加工
先进的1200°C十温区开启式管式炉系统,通过十个独立的加热区提供无与伦比的热梯度控制,支持水平或垂直灵活安装。专为精确的工业模拟、材料合成及高性能实验室研发热处理应用而设计,具有卓越的可靠性。
六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺
这款1500°C六温区开启式管式炉为专业实验室研究和高温CVD应用提供了卓越的热控性能。设备配备1800mm氧化铝管及精确的30段PID控制器,确保材料处理和退火结果的一致性。
七温区 1200°C 开合式管式炉,配备精密温度控制器及快速法兰真空系统
一款专为材料研究设计的专业级七温区 1200°C 开合式管式炉,配备 5 英寸石英管、精密 PID 控制器及快速法兰,适用于真空或受控气氛环境下的快速热处理。高性能研发热处理解决方案。
用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉
利用这款高精度双温区真空管式炉提升您的实验室能力。它专为先进材料研究和 CVD 工艺设计,具备独立温控、快速升温以及稳健的真空密封性能,可确保获得一致的工业级热处理结果。
1200°C 高温 5 英寸分体式真空管式炉,配有 12 英寸加热区及分离式 PID 控制器
这款高性能 1200°C 分体式真空管式炉可实现精密热处理。系统配备 5 英寸大口径石英管、12 英寸加热区及分离式 PID 控制器,并获得 NRTL 认证,可为先进材料研究及工业研发应用提供可靠的实验结果。
12温区超长开启式管式炉,配20英尺石英管,最高温度1100°C
这款高精度12温区开启式管式炉提供6米加热长度和1100°C最高温度,专为长尺寸样品设计。配备独立PID控制和真空法兰,为先进工业材料科学及研发应用提供卓越的温度均匀性。