双区管式炉1100℃，配11英寸石英管与真空法兰，用于8英寸晶圆加工

产品概述

这款高性能双区管式炉是一款先进的热加工系统，专为先进材料研究和工业研发设计。设备配备外径达11英寸的超大熔融石英管，可提供宽敞的加热环境，适合处理大尺寸样品和直径最大8英寸的半导体晶圆。双区配置可实现精确的温度梯度或更宽的恒温区，为研究人员管理复杂热处理工艺提供了无与伦比的灵活性。通过集成高纯氧化铝纤维保温材料，该系统可实现最高的能源效率和快速热响应。

该设备专为高纯应用设计，包括新材料样品烧结、真空或可控气氛下的半导体晶圆退火。目标行业涵盖半导体制造、冶金、纳米技术到可再生能源研究。大直径加工腔可实现更高产能，还可容纳特种坩埚和舟皿，是实验室从小规模实验转向中试开发的理想选择。其出色的真空能力和气体处理功能，可在关键加工阶段精确控制化学环境。

可靠性和稳定性是这款设备设计的核心亮点。该系统可耐受严苛的工业条件，采用高精度数字控制器和耐用的NiCrAl电阻丝加热元件，可在长时间运行中保持稳定性能。水冷不锈钢法兰可保护真空密封的完整性，即使在高温循环过程中也能确保无泄漏环境。对卓越工艺的坚持确保，从基础煅烧到先进化学气相沉积，每一道工序都能获得专业研究人员可信赖的可重复、高精度结果。

核心特性

• 精准双区控温：系统配备两个独立控温加热区，每个加热区长度300mm，由高精度PID数字控制器控制。可建立稳定温度梯度，或组合形成300mm恒温区，精度达±1℃，对TMD纳米带生长等工艺至关重要。
• 超大11英寸石英腔：配备外径279mm的超大熔融石英管，可容纳大尺寸样品，包括标准8英寸半导体晶圆。高纯石英材料具有出色的抗热震性和化学惰性，可确保无污染环境。
• 先进铰链式真空法兰：不锈钢真空法兰采用铰链设计，装卸样品轻松便捷。双层法兰结构集成水冷通道，可有效保护O型密封圈，在1100℃持续运行过程中保持真空完整性。
• 高效保温：采用高纯氧化铝纤维保温材料，可最大限度减少热损失，降低能耗。这种轻质高性能保温材料还可实现更快的升降温速率，优化实验室处理的整体循环时间。
• 耐用加热元件与安全设计：长寿命NiCrAl电阻丝加热元件可提供均匀稳定的发热。为保障操作人员和设备安全，配备二次温度监测器，可防止超温和热电偶损坏，无人值守运行也可安心无忧。
• 集成气路与真空接口：系统配备机械真空计、两个不锈钢针阀和一个KF25真空接口。这套完整的配件可实现精确的气氛管理，搭配机械泵可实现10⁻²托真空，搭配涡轮分子泵系统可实现10⁻⁴托真空。
• 可编程热处理工艺：两款温度控制器都支持30段可编程，用户可自动化完成复杂的升温、保温和降温流程。确保多批次加工的高重复性，对标准化研究和工业质量控制至关重要。
• 电脑接口与数据记录：设备兼容基于Labview的专业控制软件，研究人员可在电脑上编辑温度曲线、管理工艺配方并记录实时数据，用于完整的工艺后分析和记录。

应用领域

技术规格

为什么选择我们

• 工业级可靠性：采用高耐用电阻丝和先进纤维保温材料设计，系统可在苛刻研究环境中长期稳定运行。
• 大尺寸加工能力：11英寸直径管在实验室级管式炉中十分少见，无需工业级设备即可提供8英寸晶圆加工和大材料批次所需的容积。
• 精准热管理：独立双区控制为复杂化学气相沉积和纳米结构生长提供了所需的热灵活性，确保最高水平的实验控制。
• 完善的安全防护：内置二次温度监测和水冷法兰系统可保护您的实验室设备，确保高真空密封的使用寿命。
• 全面集成能力：从Labview软件兼容性到可定制的混气和真空站选项，这款管式炉可作为完整、可扩展的平台，满足您的热加工需求。