产品概述


这款高性能双炉系统是专为二维过渡金属硫族化合物生长及其他先进材料合成需求而设计的专业热处理解决方案。通过集成两个独立的加热单元——一个固定式和一个配备自动滑动机构——该设备为研究人员提供了对化学气相沉积过程中升华和沉积阶段无与伦比的控制能力。该系统能够在主温区精确蒸发固体前驱体,同时在次温区促进快速温度转换和受控薄膜生长,解决了高端材料科学研究中固有的关键热梯度挑战。
专为要求苛刻的实验室和工业研发环境设计,该系统针对MoS2、WS2和MoSe2等单层及少层材料的合成进行了优化。其主要价值在于能够解耦前驱体升华和基底沉积的热分布。该装置确保挥发性前驱体保持在恒定、较低的温度,而沉积基底则经历快速加热或冷却,这一能力由可编程滑动组件实现。这种双区架构方法最大限度地减少了温区之间的热干扰,显著提高了晶体生长的可重复性和质量。
采用工业级组件和高纯度石英加工管构建,该系统在连续运行下提供可靠的稳定性。工程设计的重点在于精度,采用先进的PID控制器和真空密封,以保持洁净的加工环境。无论是用于基础物理研究还是下一代半导体器件的开发,该设备都能提供推动低维材料合成边界所需的一致性和灵活性。其模块化特性以及与各种气体输送系统的兼容性,使其成为任何专注于先进热处理和薄膜技术实验室的多功能核心设备。
主要特点
- 独立双炉架构: 系统由两个独立的加热腔室组成——一个用于固体前驱体升华的固定炉和一个用于沉积的滑动炉。这种配置允许每个温区具有独立的温度分布,防止不必要的热串扰,并确保对化学气相传输过程的精确控制。
- 自动滑动机制: 次级加热单元安装在精密镀铬钢直线导轨上,由可编程24VDC电机驱动。此功能使炉体能够自动移离加工区,实现约100°C/分钟的快速冷却速率,这对于淬火样品和保存特定材料相至关重要。
- 高性能加热元件: 两个炉体均采用钼掺杂的铁铬铝合金加热元件。选择这些特殊合金是因为其在高达1200°C的温度下具有优异的抗氧化性和热稳定性,即使在苛刻的研究周期中也能确保长使用寿命。
- 精密PID温度控制: 每个炉体均配备数字控制器,具有30个可编程段用于升温、保温和冷却。系统保持±1°C的温度精度,为复杂的材料转变和可重复的结果提供必要的精细控制。
- 优化的恒温区: 固定单元提供60mm的均匀加热区,而滑动单元采用双温区配置,具有70mm的均匀区。这种工程设计确保前驱体和基底暴露在稳定的热环境中,减少生长晶体中的缺陷。
- 真空就绪的加工环境: 系统包含配备不锈钢真空法兰和压力计的高纯度熔融石英管。当与分子泵配合使用时,可达到低至10E-5 torr的真空度,适用于对氧敏感的合成工艺。
- 集成安全与监控: 内置的超温和热电偶故障报警为设备和加工材料提供基本保护。包含DB9 PC通信端口,允许对热循环进行远程监控和数据记录。
- 坚固的机械结构: 双直线滑动导轨和工业级电机组件设计可承受数千次循环,确保自动冷却和加热功能在设备整个使用寿命期间保持可靠。
应用领域
| 应用领域 | 描述 | 关键优势 |
|---|---|---|
| TMD生长 (MoS2, WS2) | 通过CVD合成单层过渡金属硫族化合物。 | 精确解耦前驱体升华和沉积温度。 |
| 二维异质结构 | 在单一基底上顺序生长不同的二维材料。 | 快速冷却防止生长周期中层间相互扩散。 |
| 气相升华 | 提纯材料或为沉积制备高纯度前驱体蒸气。 | 固定炉中稳定的热分布确保恒定的蒸气压。 |
| 半导体掺杂 | 在高温下将掺杂剂引入晶体结构。 | 高真空完整性为敏感的掺杂工艺确保超纯环境。 |
| 碳纳米管合成 | 使用催化化学气相沉积生长定向或随机排列的碳纳米管。 | 快速加热和冷却允许受控的催化剂活化和生长。 |
| 退火与相研究 | 在特定气氛条件下研究材料相变。 | 可编程滑动允许快速淬火以锁定高温相。 |
| CVD研究 | 用于薄膜和涂层开发的通用化学气相沉积。 | 灵活的温区配置适应多种前驱体。 |
技术规格
| 规格类别 | 参数 | TU-RT06 详细规格 |
|---|---|---|
| 电源 | 滑动炉 (右) | 交流 110-120V 单相,50/60 Hz,1.5 kW |
| 固定炉 (左) | 交流 110-120V 单相,50/60 Hz,1.2 kW | |
| 滑动电机 | 交流 110-120V 单相,50/60 Hz,0.2 kW | |
| 标准连接器 | NEMA 5-15P (208-240 VAC 可根据要求提供) | |
| 滑动炉 (右) | 炉体型号 | 双温区配置 |
| 最高温度 | 1200°C (<1 小时);1100°C (连续);1000°C (真空) | |
| 加热区 | 200 mm + 200 mm | |
| 恒温区 | 70 mm (±2°C) | |
| 升温速率 | 最大 20°C/分钟 | |
| 滑动距离 | 300 mm | |
| 固定炉 (左) | 炉体型号 | 单温区配置 |
| 最高温度 | 1200°C (<1 小时);1100°C (连续);1000°C (真空) | |
| 加热区 | 200 mm | |
| 恒温区 | 60 mm (±1°C) | |
| 升温速率 | 最大 20°C/分钟 | |
| 加工管 | 材料 | 高纯度熔融石英 |
| 尺寸 | 外径50mm x 内径44mm x 长度1200mm | |
| 最大压力 | 0.2 bar (3 psig) | |
| 最大气体流量 | 1000 sccm | |
| 温度控制 | 控制器型号 | FA-YD518P-AG (带自整定的PID控制器) |
| 编程功能 | 30段 (升温、冷却、保温) | |
| 精度 | ±1°C (可选Eurotherm升级至±0.1°C) | |
| 热电偶 | K型 | |
| 机械与真空 | 滑动导轨 | 双直线导轨 (镀铬钢) |
| 真空法兰 | 不锈钢,带KF25接口和压力计 | |
| 真空性能 | 10E-2 torr (机械泵);10E-5 torr (分子泵) | |
| 合规性 | 认证 | CE认证 (NRTL或CSA认证需额外费用) |
选择我们的理由
- 为材料创新而设计: 与标准管式炉不同,该系统专为二维材料合成的复杂性而打造,提供了TMD生长所需的特定热动力学特性,这是单炉设置无法比拟的。
- 精密工业制造: 采用钼掺杂铁铬铝加热元件和镀铬钢滑动导轨,该单元设计用于高通量研究环境中的长寿命和一致性能。
- 卓越的热灵活性: 双温区滑动炉和单温区固定炉的组合提供了三个独立控制的加热区域,使研究人员能够高精度地创建复杂的热梯度。
- 先进的自动化与安全性: 集成的可编程滑动功能不仅加快了研究工作流程,还通过允许加热腔自动移离加工区来增强安全性,降低了意外接触高温表面的风险。
- 可扩展和可定制: 从可选的Eurotherm精密控制器到多通道气体混合模块和冷阱,该系统可以根据您实验室研究目标的具体要求进行定制。
我们对精密工程和响应迅速的技术支持的承诺,确保您对这款热处理系统的投资在未来多年都能提供可靠、高质量的结果。立即联系THERMUNITS,获取详细报价或讨论针对您特定材料科学应用的定制配置。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!
相关产品
用于二维材料生长和TCVD合成的1200°C双温区滑动管式炉
利用这款1200°C双炉系统优化先进的二维材料合成。该系统配备用于超快冷却的滑动加热区、独立的PID温度控制以及高纯度石英处理环境,专为精密热化学气相沉积(TCVD)和研发应用而设计。
用于AI材料研究的6英寸外径滑动法兰自动化1200℃管式炉
这款专为AI驱动研究设计的优质自动化管式炉,可加速材料发现。系统具备6英寸直径和双温区加热功能,支持机器人集成和24/7连续合成,适用于高通量工业及实验室研发应用。
双温区快速加热管式炉 高温真空气氛系统
这款高性能双温区快速加热管式炉最高温度可达1200℃,升温速率高达每分钟100℃,配备精密PID控制及真空气氛功能,适用于先进材料研究、烧结及化学气相沉积应用。
用于材料科学研究和专业热处理的高温双温区管式炉
先进的双温区管式炉,专为精确的材料热处理而设计,采用瑞典康泰尔(Kanthal)加热元件和先进的PID控制系统,可在严苛的工业研发和实验室应用中提供一致的实验结果。
1200°C 最高温滑动管式炉,配 80mm 外径石英管及真空法兰,适用于快速热处理及快速加热冷却
使用这款 1200°C 最高温滑动管式炉实现快速热处理。该设备配备 80mm 外径石英管和手动滑动机构,加热和冷却速率最高可达每分钟 100°C,是先进材料研究和工业研发的理想选择。
用于材料科学与工业化学气相沉积研究的 1700°C 高温双温区管式炉
这款 1700°C 高温双温区管式炉提供独立控制,可实现精确的热梯度,是先进材料研究中 CVD、PVD 和晶体生长的理想选择。它采用二硅化钼(MoSi2)加热元件,并集成坚固的真空密封氧化铝管,具备工业级的可靠性。
1700°C高温双温区旋转管式炉,配60mm氧化铝管与精密旋转控制
这款高性能1700°C双温区旋转管式炉为材料合成提供卓越的热均匀性。采用独立PID控制和高纯度氧化铝管,专为稳定的粉体处理以及当今先进的锂离子电池研究应用而优化,助力实现工业级卓越性能。
1200°C 双温区开启式管式炉,配熔融石英管及真空法兰,提供 60mm、80mm 和 100mm 直径可选
这款 1200°C 双温区开启式管式炉具备独立的温度控制功能,可实现精确的热梯度,助力材料研究。配备熔融石英管和真空密封法兰,是先进 CVD(化学气相沉积)和纳米材料合成的理想解决方案。
1200℃ 高温立式滑动炉,具备快速热处理与真空管式混合功能
这款配备快速热处理能力的1200℃立式滑动炉可最大化研究效率。该混合系统兼具箱式炉与真空管式炉的双重功能,可为先进材料科学应用提供精准的温度控制与超快升降温速率。
1500°C高温双温区旋转管式炉,采用碳化硅加热技术,助力先进材料合成
这款高精度双温区旋转管式炉可优化热处理工艺。它具备1500°C最高温度和先进的碳化硅(SiC)加热元件,确保工业研发、化学气相沉积及全球实验室中复杂材料科学应用的一致性结果。
双区管式炉1100℃,配11英寸石英管与真空法兰,用于8英寸晶圆加工
这款先进的高温双区管式炉配置11英寸石英管和24英寸加热区,可提供出色的热均匀性,适用于工业和实验室领域的8英寸晶圆退火、材料烧结以及特种化学气相沉积研究。
用于快速加热和冷却的自动化滑动管式炉,2英寸外径,最高1100°C
利用这款高性能自动化滑动管式炉优化材料研究。该系统提供每分钟100°C的超快加热和冷却速度,最高温度可达1100°C,确保为半导体、纳米技术及需要快速热循环的工业研发应用提供精确的热处理。
1200°C 滑动管式炉,适用于快速热处理及 CVD 石墨烯生长(支持 100mm 外径)
这款 1200°C 滑动管式炉专为快速热处理(RTP)和 CVD 应用而设计,旨在加速您的研究进程。配备高精度 PLC 控制系统和电动滑轨,可实现超快速加热和冷却循环,是先进材料科学和工业研发实验室的理想选择。
用于高温CVD和真空退火的双温区双盖管式炉
专业的高温双温区管式炉,采用Kanthal A1加热元件和先进的PID控制系统,适用于科研及工业应用。该系统为CVD、真空退火和材料烧结提供精确的热处理,并具备卓越的可靠性。
1200°C 双温区紧凑型开启式管式炉(可选配 1" - 2" 石英管及真空法兰)
这款 1200°C 双温区紧凑型开启式管式炉提供精确的温度梯度控制和真空处理能力。专为材料科学研发设计,配备独立 PID 控制器、不锈钢法兰和节能纤维绝缘层,确保实验室操作的一致性与高效表现。
1200°C 气氛可控自动底部装料炉(配 6 英寸石英管)
先进的 1200°C 气氛可控自动底部装料炉,配备 6 英寸石英管和双区加热功能,适用于研发实验室中对精度和全自动化集成有高要求的高通量材料研究及工业热处理应用。
用于材料研究与工业热处理的高温加长双温区管式炉
这款高性能加长双温区管式炉可助力您的材料研究。设备采用瑞典 Kanthal A1 发热元件及先进的 PID 控制技术,在 1200°C 以下可确保卓越的温度均匀性,非常适合现代工程领域中严苛的实验室及工业研发处理应用。
1500°C 双温区开启式管式炉(带真空法兰及80mm氧化铝管)
高性能1500°C双温区开启式管式炉,配备80mm氧化铝管、碳化硅(SiC)加热元件及精密PID控制系统。适用于材料研发、化学气相沉积(CVD)以及在真空和多气氛环境下的热处理,是高端工业实验室研究的理想选择。
1200°C 最高温双滑动管式炉,配 50 mm CVD 管法兰
这款 1200°C 双滑动管式炉配备了专为高精度 CVD 工艺设计的 50mm 石英管法兰。通过滑动实现快速加热和冷却,加速工业研发进程,确保卓越的材料合成效果、一致的实验结果以及顶尖的薄膜沉积性能。
双温区石英管式炉,管径80mm,最高温度1200℃,配3通道气体混合器与真空泵系统
这款先进的双温区石英管式炉配备80mm管径炉管、集成三通道气体混合装置与高性能真空系统,专为CVD实验与材料研究设计,可实现精确的1200℃热处理,具备耐腐蚀真空监测能力。