1200°C 最高温双滑动管式炉，配 50 mm CVD 管法兰

产品概述

这套高性能双温区滑动系统是先进材料研究热处理领域的一项突破。该设备专为化学气相沉积 (CVD) 和物理气相传输 (PVT) 应用而设计，具有安装在精密工程滑动导轨上的两个独立加热单元。这种配置允许对温度梯度和快速热循环进行前所未有的控制，使研究人员能够实现固定式系统无法完成的复杂合成曲线。通过移动加热区相对于处理管的位置，用户可以在保持基底沉积所需特定温度的同时，为前驱体蒸发创造局部热点。

该装置专为严苛的工业研发和半导体实验室环境打造，有助于生产高质量薄膜、二维材料和纳米结构。其核心价值在于多功能性：它既可用作受控梯度生长的双温区炉，也可用作研究相变的高速热淬火工具。目标行业包括航空航天、储能（特别是钙钛矿太阳能电池开发）和微电子，在这些领域，精度和可重复性是创新成功的基石。

系统设计注重长期可靠性，采用坚固的双层钢结构，确保外部安全和热效率。重型滑动导轨即使在高温下经过数千次循环，也能保证平稳、一致的运动。从掺钼铁铬铝合金加热元件到气密性不锈钢法兰，每一个组件都经过精心挑选，以承受高真空和腐蚀性气体环境的严苛条件。这种对工程卓越性的承诺，确保了设备能够在最具挑战性的研究场景中日复一日地提供稳定的性能。

主要特点

• 独立双温区控制：两个独立的炉体单元，每个均具有 200mm 加热区，支持独立的 PID 编程。这使得前驱体升华温度和基底生长温度的同步管理成为可能，这对复杂的 CVD 配方至关重要。
• 精密滑动导轨系统：设备安装在 1200mm 双滑动导轨系统上。操作员可以手动或（可选）自动移动炉体，移动距离达 400mm，为快速温度变化和淬火提供了物理机制。
• 先进的热动力学：通过将加热炉从样品位置移开，系统可实现高达 100°C/min 的加热和冷却速率。这种快速热处理 (RTP) 能力对于控制先进薄膜的晶粒尺寸和晶体结构至关重要。
• 高性能加热元件：配备掺钼铁铬铝合金元件，即使在连续高温运行下也能提供稳定耐用的加热性能，确保较长的使用寿命。
• 气密性真空法兰：标配带有集成压力表和重型支撑的不锈钢真空法兰。这些法兰确保了无泄漏环境，配合分子泵使用时，真空度可达 10E-5 torr。
• 可编程 PID 自动化：每个温区均由具有 30 个可编程段的自动控制器管理。这允许对升温速率、保温时间和冷却曲线进行精确控制，降低了复杂循环过程中人为错误的风险。
• 集成安全保护：系统包含内置超温报警和自动停机功能。双层钢外壳设计结合了空气冷却，确保炉体表面在运行过程中触碰安全。
• 模块化系统扩展：设备设计旨在随您的研究需求而成长。它可以轻松升级，例如添加用于精确气体输送的质量流量控制器 (MFC)、用于 PECVD 的射频等离子体发生器，或用于自动滑动循环的电动导轨套件。

应用领域

技术规格

为什么选择 TU-RT05

• 卓越的热灵活性：双滑动设计提供了固定式炉体无法比拟的工艺控制水平，特别适用于快速淬火和梯度受控的 CVD。
• 精密工程：采用优质组件制造，包括掺钼合金元件和高级不锈钢法兰，确保高真空完整性和温度稳定性。
• 面向未来的可扩展性：无论您今天需要简单的 CVD 设置，还是明天需要全自动 PECVD 系统，该装置都支持通过 MFC 和射频发生器进行无缝升级。
• 无与伦比的冷却效率：加热腔与处理管的物理分离实现了真正的快速冷却，这对冶金和半导体研究至关重要。
• 久经考验的可靠性：我们的设计在全球范围内有数千台设备在运行，是高温研究中耐用性和操作一致性的行业标准。

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