1200°C 气氛可控自动底部装料炉(配 6 英寸石英管)

管式炉

1200°C 气氛可控自动底部装料炉(配 6 英寸石英管)

货号: TU-C32

最高温度: 1200°C (≤ 30 分钟) 工艺管尺寸: 150 mm 外径 x 600 mm 长 石英管 加热区: 双温区 (总长 350 mm)
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产品概述

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该高温热处理系统代表了实验室设备的重大进步,专为需要绝对控制气氛和热曲线的研究人员及工业工程师而设计。通过采用精密驱动的底部装料机构,该设备最大限度地减少了操作员受到的热冲击,并确保了精密样品在加热腔内的稳定放置。这种配置对于样品取向和气氛纯度对实验成功至关重要的精密材料合成尤为有利。

该系统专为多功能和高通量研发而设计,为各种气体环境下的严苛热处理工艺提供了稳健的平台。无论是在真空还是受控正压下运行,该装置都能通过其集成的冷却和密封系统保持卓越的稳定性。这使其成为先进材料科学、半导体开发和航空航天冶金领域的理想选择,在这些领域,可靠性和可重复的性能是成功的基准要求。

该系统注重长期运行的一致性,采用优质组件构建,从高纯度石英管到专用加热元件均经过精心挑选。垂直方向和自动化平台使其能够无缝集成到现代实验室工作流程中,包括那些需要 24/7 自主运行的工作流程。专业人员可以信赖该装置提供精确的热梯度和洁净环境,确保每一批次都符合工业研发的严格标准。

主要特点

  • 自动化底部装料系统:精密设计的垂直升降机构可实现平稳、无振动的样品装卸。这种自动化平台不仅通过让用户远离高温区来提高操作安全性,还确保了样品放置的一致性,从而在多个批次中获得可重复的结果。

  • 高纯度六英寸石英管:该系统使用外径 150 毫米的熔融石英管作为处理腔。石英具有出色的抗热震性和化学惰性,可防止在敏感的高温反应过程中产生污染。其透明度还允许在热循环期间对样品进行目视监控。

  • 双区温度控制:该装置具有两个独立控制的加热区(每个 175 毫米),在管理热梯度方面提供了卓越的灵活性。这种设置对于需要特定温度曲线或长达 120 毫米、精度为 ±2°C 的均匀高温区的应用至关重要。

  • 先进的触摸屏界面:集中的 PLC 触摸屏面板允许操作员编程复杂的热循环,包括加热/冷却速率、停留时间和气体压力参数。一键执行简化了操作,同时降低了手动编程错误的风险。

  • 水冷密封法兰:高等级 SS304 不锈钢法兰配备了集成水冷套。此功能可保护硅胶 O 型圈免受热降解,即使在炉体以 1200°C 的最高温度运行时,也能保持高完整性的真空密封。

  • 集成质量流量控制器 (MFC):该炉标配高精度质量流量控制器 (1-1000 sccm)。这允许对工艺气体进行精确计量,确保石英管内的气氛在整个处理过程中保持一致且受控。

  • 自动化与 PC 集成:该系统配备默认的 DB9 PC 端口和专用软件,可实现远程操作和数据记录。对于高级工业应用,该装置可以与机械臂集成,以创建完全自主的 24/7 处理单元。

  • 稳健的加热元件:加热元件采用优质 FeCrAlMo 丝,专为长寿命和快速热响应而设计。这些元件可在高达 1200°C 的温度下提供可靠的热量产生,并且耐氧化,确保在严苛的实验室环境中具有较长的使用寿命。

  • 全面的安全与监控:上法兰配有数字真空计、机械压力表和辅助热电偶。这种多层监控系统提供内部环境的实时反馈,如果参数偏离设定点,可以立即进行调整。

应用领域

应用 描述 主要优势
先进陶瓷烧结 将陶瓷粉末高温固结成致密的结构部件。 精确的气氛控制可防止氧化并保持材料纯度。
化学气相沉积 (CVD) 通过气相反应在各种基底上生长薄膜和纳米材料。 均匀的加热区确保了大批量生产中薄膜厚度和质量的一致性。
半导体退火 对硅片或化合物半导体进行热处理以改变电学性能。 快速冷却能力和高纯度环境可防止不必要的掺杂剂迁移。
冶金与合金化 在保护性氮气或氩气气氛下熔炼和热处理特种金属合金。 底部装料最大限度地减少了热冲击,并便于处理重型坩埚。
电池材料研究 用于下一代储能的正极或负极材料的煅烧和合成。 24/7 自主运行能力显著提高了研究通量。
牙科与生物材料 牙科陶瓷和生物相容性植入物的专业热处理。 透明石英管允许对材料的物理状态进行目视检查。
真空钎焊 在高真空或惰性环境中,使用填充金属连接金属部件。 高完整性密封法兰配合可选泵可维持低至 10⁻⁵ Torr 的真空度。

技术规格

类别 参数 TU-C32 规格
型号识别 产品编号 TU-C32
电源 电压 220VAC +/- 10%, 50/60Hz, 单相
额定功率 最大 6.0 kW
热性能 最高工作温度 1200°C(≤ 30 分钟持续时间)
长期使用温度 1100°C 连续
升温速率 10°C / 分钟(推荐)
温度精度 ±1°C(标准);可选升级至 ±0.1°C
加热配置 加热元件 高性能 FeCrAlMo 丝
加热区 双区 (175 mm + 175 mm)
总加热长度 350 mm
恒温区 120 mm (在 ±2°C 范围内)
控制系统 界面 触摸屏 PLC 可编程面板
控制器 两个 50 段温度控制器
热电偶 两个 K 型传感器
PC 连接 DB9 端口,附带远程操作软件
腔体结构 管材 高纯度熔融石英
管尺寸 外径 150 mm x 内径 144 mm x 长度 600 mm
样品台 直径 130 mm 石英板(可定制)
密封与气体 法兰材质 SS304 不锈钢(水冷)
气体控制 标配 1-1000 sccm 质量流量控制器 (MFC)
压力监控 数字真空计及机械压力表
进气口 G1/4 双卡套入口;KF 25 真空接口
冷却与真空 冷水机 标配 16L/分钟循环冷水机
真空度(可选) 10⁻² Torr (机械泵) / 10⁻⁵ Torr (分子泵)
安全认证 认证选项 提供 NRTL 认证真空泵

为什么选择 TU-C32

投资该炉系统可为您的设施提供一种多功能且高性能的复杂热处理解决方案。双区加热与自动底部装料的结合,实现了标准管式炉难以达到的精度和可重复性。稳健的工程设计确保设备能够应对持续工业研究的严苛要求,通过减少停机时间和提供高质量输出来实现可靠的投资回报。

此外,该系统的设计考虑了可扩展性。它与外部计算机和机器人系统连接的能力意味着它可以随着实验室需求的发展而成长,从单机研究工具转变为高通量自主生产线的一部分。开箱即用的专用冷水机和质量流量控制器,反映了我们致力于提供一套完整的、即用型解决方案,并优先考虑组件寿命和工艺稳定性。

我们对卓越的承诺不仅限于硬件;我们提供全面的支持以及定制组件(如样品台或供气装置)的能力,以满足您的特定应用要求。无论您是在处理敏感的半导体还是先进的冶金合金,该系统都能提供尖端创新所需的热性能和气氛纯度。立即联系我们,讨论您的具体工艺要求,或为您的设施索取定制报价。

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