底装式真空炉 1200°C 快速冷却气氛控制石英腔体

管式炉

底装式真空炉 1200°C 快速冷却气氛控制石英腔体

货号: TU-C31

最高温度: 1200°C(惰性气体)/ 1000°C(真空) 有效加热容积: 8.6 升(8.5英寸内径 x 8.5英寸深度) 真空能力: 10-4 托(标准)/ 10-5 托(可选涡轮泵)
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产品概述

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这款高温热处理系统代表了人体工程学设计与工程效率的巅峰,专为严苛的材料科学和工业研发环境量身定制。通过采用电机驱动的底装式机构,该设备能够无缝处理精密或重型样品,确保操作人员能够以最高精度装卸材料,并将对炉内结构的干扰风险降至最低。其核心价值在于将高真空能力与集成式快速冷却系统相结合,显著缩短了循环周期,并实现了在标准马弗炉或管式炉中通常无法完成的淬火工艺。

该系统针对先进冶金、陶瓷烧结和半导体研究,在创造受控环境方面表现出色。无论是在高真空下运行,还是使用惰性气体在特定气氛下运行,该设备都能保持严格的气氛完整性。高纯石英加热腔体与水冷真空法兰的结合,确保了加工环境不受污染,同时保护装置的结构部件免受高温操作应力的影响。

可靠性融入了该炉的每一个部件。从保持外部表面低温的双层钢外壳,到重型铁铬铝(Fe-Cr-Al)加热元件,该系统专为专业实验室环境中的持续、可重复性能而构建。该装置提供了高负荷循环操作所需的稳健制造质量,使研究人员和生产工程师能够确信他们的热曲线能够一次又一次地以绝对的一致性执行。

主要特点

  • 电机驱动底装式样品台: 精密升降系统允许样品受控、无振动地进入加热区。这种人体工程学设计对于处理易碎基板或大批量样品至关重要,减少了人工操作失误的可能性,并提高了工作场所的安全性。
  • 惰性气体快速淬火系统: 系统配备四个位置精确的气体吹扫管和一个集成冷却室,可以快速降低样品温度。此功能对于需要特定冷却曲线的冶金工艺,或通过缩短循环之间的等待时间来提高企业产量至关重要。
  • 电动辐射屏蔽门: 当样品台下降时,专门的滑动门可将热量保留在腔体内。这种热屏障可防止热量散失,保护内部组件免受热冲击,并确保操作人员在卸料阶段免受红外辐射的影响。
  • 双通道温度监测: 系统包含两个独立的 30 段可编程控制器。一个以高精度 PID 逻辑管理炉内加热元件,第二个监测实际样品台温度,提供所加工材料热历史的实时数据。
  • 高纯石英热处理腔体: 8.5 英寸内径的石英腔体为真空或气氛处理提供了超净环境。石英的透明度允许在设置过程中进行目视检查,材料出色的抗热震性确保了在快速温度波动下的长期耐用性。
  • 水冷结构完整性: 高性能不锈钢真空法兰具有集成水冷通道。这防止了在 1200°C 操作期间 O 型密封圈的降解,保持了可靠的真空密封,并显著延长了硬件的使用寿命。
  • 全面的真空管理: 系统随附双级旋片泵和可测量低至 10-4 托的皮拉尼(Pirani)真空计。这种完整的集成允许立即部署在真空钎焊或除气应用中,无需额外的外部组件。
  • 先进的安全性和合规性: 该炉符合 CE 标准,包括自动 PID 自整定、过热保护和热电偶断路保护。带有集成空气冷却的双层外壳确保即使在峰值工作温度下,外表面也保持触碰安全。

应用领域

应用 描述 主要优势
真空钎焊 在无氧环境下,在高达 1000°C 的温度下连接专用金属组件。 高强度、无氧化接头,变形极小。
高纯陶瓷烧结 在高纯石英腔体内固结陶瓷粉末,以避免污染。 提高成品材料密度和结构完整性。
惰性气体淬火 使用高速惰性气体流快速冷却金属样品,以改变晶粒结构。 对合金硬度和机械性能的精确控制。
真空退火 精密加工组件或薄膜的热应力消除,且无表面氧化。 保持光亮表面,消除二次抛光步骤。
薄膜处理 在受控环境压力和特定气体流量下对涂层基板进行热处理。 一致的薄膜附着力和优化的电子性能。
材料表征 研究新合金或复合材料在高达 1200°C 温度下的行为。 高度可重复的热曲线,用于准确的研发数据收集。

技术规格

参数 描述 / TU-C31 数值
材料标识符 TU-C31
输入功率 208-240 VAC,单相,50/60 Hz
最大功耗 3600 W(需要 20A 专用电路)
最高工作温度 ≤ 1200°C(惰性气体)/ ≤ 1000°C(真空/连续)
加热速率 最高每分钟 20°C
加热元件 掺钼铁铬铝(Fe-Cr-Al)
温度精度 整个工作范围内 ± 1.0°C
标准温度均匀性 900°C 时有效加热区内 ± 5.0°C
温度控制器 双 30 段可编程 PID 控制器,带 RS485 通讯
石英腔体尺寸 9" 外径 x 8.5" 内径 x 13.4" 长 (230 x 218 x 340 mm)
有效加热区 8.5" 内径 x 8.5" 深度 (218 x 216 mm)
加热腔体体积 约 8.6 升
真空系统 带 KF25 接口和角阀的双级旋片泵
真空测量 包含皮拉尼规(最高 10-4 托)和机械表
可选高真空 可提供 Pfeiffer 33 L/s 分子泵(最高 10-5 托)
气氛控制 内置 5L 流量计,带 1/4" 进气/出气口
水冷却 包含 16L/min 循环水冷机,用于法兰保护
安全保护 过热、热电偶断路和自动 PID 保护
认证 CE 认证(可应要求提供 NRTL/CSA)

为什么选择 TU-C31

  • 卓越的热管理: 该系统采用独特的双监测方法进行温度控制,确保始终了解并管理炉内气氛与实际样品台之间的温差,从而获得更准确的材料科学结果。
  • 精密工程与制造质量: 从水冷 SS304 法兰到高纯石英加热腔体,每一个元件的选择都基于其承受工业研究严苛条件的能力。该设计最大限度地减少了热泄漏,并最大限度地延长了密封件和加热元件等易损件的寿命周期。
  • 以效率为中心的设计: 集成气体吹扫系统和底装式升降机不仅仅是便利功能,它们代表了操作效率的重大进步。通过实现更快的样品淬火和更简便的装载,研究人员可以在不牺牲数据质量的情况下,每班处理更多的样品。
  • 交钥匙真空解决方案: 与许多模块化系统不同,该装置作为完整的解决方案发货,包括大容量水冷机和双级真空泵。这确保了所有组件预先配置完美协作,减少了设置时间和技术摩擦。
  • 多功能研究平台: 在 1000°C 真空处理和 1200°C 惰性气体处理之间切换的能力,使其成为任何实验室的多功能资产。它提供了适应不断变化的研究目标或不断发展的工业生产需求所需的灵活性。

我们的工程团队随时准备协助满足您的特定热处理需求。请立即联系我们获取详细报价,或讨论我们如何定制此系统以满足您独特的应用参数。

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