1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

真空炉

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

货号: TU-ZK05

极限真空: ≤ 7E-7 托 (不锈钢腔体) 温度精度: ±0.1°C 最高工作温度: 1000°C (石英) / 800°C (不锈钢)
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产品概述

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这款高性能顶部装料真空炉专为材料科学领域的科研人员和工业工程师设计,旨在促进先进的热处理工艺。通过将大直径加热腔体与先进的真空技术相结合,该系统为对大气污染敏感的工艺提供了必要的受控环境。设备设计可在不锈钢和石英反应容器之间无缝切换,使操作人员能够根据具体项目要求,优先选择超高真空度或更高的工作温度。其核心价值在于能够在长时间加热循环中保持卓越的热稳定性和真空完整性,使其成为实验室和中试规模生产的基石。

该系统主要应用于半导体制造、航空航天工程和先进冶金等领域。它在需要真空退火、异种金属钎焊以及高纯度陶瓷烧结的应用中表现出色。通过采用双加热区配置,该装置确保样品处于均匀的热场中,从而减少内部应力并提高加工材料的结构完整性。这使得该设备特别适用于新型合金、电子元件和高性能复合材料的开发,在这些领域中,精度和可重复性是不可妥协的。

可靠性是其设计理念的核心。该系统采用优质组件构建,包括Eurotherm温度控制器和高效加热元件,能够承受严苛的工业研究环境。冷却系统和坚固的法兰设计确保了即使在最高温度下也能保持操作安全,让用户有信心进行复杂的多段热处理曲线实验。无论是用于常规热处理还是前沿材料合成,该装置都能提供推动现代制造和研发边界所需的持续性能。

主要特点

  • 多功能双材质腔体选项:用户可选择高耐用性SS310不锈钢腔体(适用于超高真空应用,最高可达7E-7 torr),或高纯度石英腔体(适用于最高1000°C的温度需求),为实验设计提供了无与伦比的灵活性。
  • 先进的双区加热架构:系统结合了底部和侧面加热元件,创造了一个3D热环境,确保整个有效加热区域具有卓越的温度均匀性,这对大型或复杂几何形状的样品至关重要。
  • 精密Eurotherm PID控制:配备双EPC3004 Eurotherm控制器,炉体提供±0.1°C的精度和分辨率。这种高保真控制支持28个可编程段,能够以极高的可重复性执行复杂的升温和保温曲线。
  • 超高真空兼容性:设备配有专用的DN63接口,设计用于直接连接涡轮分子泵。这种优化的流路使系统能够达到低至7E-7 torr的极限真空度,有效消除氧化和残余气体污染。
  • 集成水冷系统:高温操作由法兰的推入式水冷回路支持。这一保护措施可防止真空密封件受到热损伤,并确保外部触感安全,从而延长设备的使用寿命。
  • 增强型隔热设计:采用高纯度石英热块,创造了一个清洁、定义明确的退火环境。这种设计选择最大限度地减少了热量损失,并防止污染物从隔热材料迁移到加工区。
  • 强大的安全与监控:系统包括集成热电偶(K型)和用于远程数据记录与监控的RS485通信端口。设计严格遵守真空和常压操作的安全协议,确保容器绝不会意外过压。
  • 大容量加工腔体:内径为200mm(约8英寸),高度为350mm,该炉可容纳较大尺寸的样品,适用于小批量工业生产和多样化的学术研究项目。

应用领域

应用 描述 主要优势
真空退火 在无氧环境中消除金属部件的内部应力。 防止表面氧化和结垢。
扩散钎焊 利用热量和真空连接高性能合金和异种材料。 无需焊剂即可形成高强度、防漏的接头。
陶瓷烧结 将陶瓷粉末固结成高密度结构部件。 实现均匀的密度和卓越的机械性能。
半导体加工 在洁净室兼容的设置中对晶圆和基板材料进行热处理。 确保高纯度并消除微量污染物。
除气与脱气 在真空下加热材料以去除夹带的气体或水分。 提高航空航天和真空应用中材料的稳定性。
金属注射成型 (MIM) MIM零件的后处理,以达到最终密度和结构细化。 提供一致的收缩率和零件几何形状。
CVD预处理 在化学气相沉积前清洁和准备基板表面。 增强涂层附着力和薄膜均匀性。
核研究 在严格受控的热条件下处理特殊材料和同位素。 提供高精度密封和热控制。

技术规格

参数 不锈钢腔体版 (TU-ZK05-SS) 石英腔体版 (TU-ZK05-Q)
产品编号 TU-ZK05-SS TU-ZK05-Q
反应容器材质 310不锈钢 (SS310) 高纯石英
容器尺寸 Ø216 × Ø206 × 600H mm Ø216 × Ø206 × 600H mm
最高工作温度 800 °C 1000 °C
极限真空度 ≤ 7E-7 torr (配备涡轮泵) ≤ 7E-6 torr (配备涡轮泵)
真空法兰类型 DN200 CF DN200 ISO-K
加热区 双区 (侧面和底部) 双区 (侧面和底部)
加热区域尺寸 内径 250 × 高 350 mm 内径 250 × 高 350 mm
有效加热区 Ø200 × 高 350 mm Ø200 × 高 350 mm
输入功率 208 - 240 VAC, 50/60 Hz, 8 kW 208 - 240 VAC, 50/60 Hz, 8 kW
加热元件 NiCrAl: Mo NiCrAl: Mo
加热速率 ≤ 10 °C/ min ≤ 10 °C/ min
温度控制器 2x Eurotherm EPC3004 PID 2x Eurotherm EPC3004 PID
温度精度 ± 0.1 °C ± 0.1 °C
热电偶 K型 K型
真空接口 DN63 (支持涡轮泵) DN63 (支持涡轮泵)
水冷需求 5-15 L/min; 1500-2500 btu/h 5-15 L/min; 1500-2500 btu/h
冷却连接 两个 Ø12 mm 推入式接口 两个 Ø12 mm 推入式接口
热块 石英 Ø204 × 158 mm 石英 Ø204 × 158 mm
合规性 CE认证 CE认证

为何选择此款真空炉

  • 工业级精度:通过使用Eurotherm EPC3004控制器,该系统提供了超越标准实验室要求的温度稳定性(±0.1°C),确保研究数据准确且生产批次一致。
  • 双区热管理:与单区设备不同,该炉通过从底部和侧面同时加热来解决热梯度挑战,提供均匀的温度场,保护敏感样品免受不均匀膨胀或局部过热的影响。
  • 极致真空性能:该设计与涡轮分子泵的兼容性以及CF/ISO-K法兰的选择,使用户能够达到氧敏感材料和高纯度冶金工艺所需的深真空水平。
  • 专为长效运行而打造:从保护密封件的水冷法兰到掺钼的NiCrAl加热元件,每个组件的选择都基于其在工业环境下反复热循环中可靠运行的能力。
  • 全面的定制与支持:我们提供灵活的腔体选项,并可提供NRTL或CSA认证以满足特定的区域安全标准,确保设备完美融入您设施的操作流程。

我们的工程团队随时准备为您提供技术咨询,或为您量身定制符合您特定热处理需求的系统报价;立即联系我们讨论您的应用需求。

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