用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

真空炉

用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

货号: TU-ZK02

极限真空度: <1e-6 托 最高工作温度: 1400°C 加热元件材料: 钼 (Mo) 线圈
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 2

这款先进的热处理系统专为在严格定义的超洁净环境中对小规模样品进行高真空热处理而设计。通过采用冷壁设计,该设备确保即使在内部热区达到最高热阈值时,外壳仍能保持在安全的操作温度。对于消除碳污染和保持材料完整性至关重要的专业研发应用,这种配置至关重要。该系统为实验冶金、陶瓷键合和电子元件制造提供了一个稳健的平台。

该设备的主要应用场景涉及材料科学研究,特别是在对真空度和温度均匀性有严格要求的行业。从航空航天部件到半导体基板加工,该系统旨在处理对大气气体反应敏感的特殊合金和先进陶瓷。该装置为烧结、退火和钎焊等工艺提供了一个受控、可重复的环境,既适用于学术实验室,也适用于工业中试生产线。

工业级的可靠性是该热处理装置的基石。系统采用优质材料制造,包括304不锈钢腔体和钼加热元件,在严苛的连续工作周期下保持高性能指标。高精度电子控制系统和水冷保护装置的集成确保了长期的运行一致性。采购团队可以确信该装置能够多年提供稳定的结果,最大限度地减少停机时间并最大化关键研究项目的产量。

主要特点

  • 冷壁不锈钢结构:真空腔体由电抛光304不锈钢制成,并集成水冷通道,确保外表面保持凉爽,防止腔体密封件发生热变形。
  • 全金属隔热层:系统采用6层金属反射屏而非碳基隔热材料,消除了碳污染风险,非常适合加工高纯度材料和氧敏感合金。
  • 高性能钼加热:该装置采用高耐用性钼加热线圈,提供快速热响应,且能承受反复的高温循环而不会产生结构退化或放气现象。
  • 卓越的真空完整性:设计使用大容量涡轮分子泵系统,可实现低于1e-6 torr的极限真空度,确保关键热处理过程处于超纯环境中。
  • 先进的PID温度调节:配备Eurotherm EPC 3000系列控制器,系统提供28个可编程段和PID自动控制回路,实现卓越的温度精度和稳定性。
  • 精确的气氛兼容性:系统完全兼容氩气、氮气和氢气,并配有VCR波纹管密封针阀,可在不同的热循环中实现精确的大气控制。
  • 增强的安全性和监控:水冷电馈通和装载锁定门等功能提供了操作安全性,而热阴极和对流规的集成则允许实时真空监控。
  • 支持数字通信:标准的RS485和MODBUS RTU接口支持远程数据记录,并可与外部实验室管理系统通信,实现工业4.0集成。

应用领域

应用 描述 主要优势
航空航天烧结 高强度、氧化敏感型镍基和钛合金的热处理。 通过维持低于1e-6 torr的环境防止脆化。
半导体研发 在无碳、高纯度气氛中对晶圆和基板材料进行退火。 消除碳氢化合物污染,提升器件性能。
真空钎焊 工业传感器异种金属或陶瓷与金属组件的连接。 清洁的表面确保无需助焊剂即可实现高完整性的接头。
核材料测试 陶瓷燃料和结构包壳材料的高温稳定性测试。 ±1°C的精确控制可模拟反应堆条件。
医疗植入物生产 生物相容性钛和钴铬骨科组件的热处理。 确保人体植入物所需的化学纯度和结构一致性。
陶瓷共烧 用于电子和结构应用的工业陶瓷高温烧制。 受控气氛允许对粘合剂烧除和致密化进行管理。

技术规格

组件 参数 TU-QF16 规格
电气 工作功率 208-240VAC, 三相, 50/60Hz; 12kW
腔体结构 材质 电抛光水冷304不锈钢
腔体尺寸 内径 Ø320 mm x 304 mm
隔热层 屏蔽类型 6层全金属热反射屏
加热区 加热元件 钼 (Mo) 线圈
样品容量 有效加热面积 Ø150 mm x 172 mm
样品容量 最大样品尺寸 Ø100 mm x 120 mm
热性能 最高工作温度 1400°C
热性能 温度均匀性 样品区内 ±8°C
热性能 最大升温速率 <10°C/分钟
真空系统 极限真空度 <1e-6 torr (通过300L/s涡轮泵)
真空系统 最大工作压力 <1.5 bar
真空接口 端口 DN100CF (真空), DN40KF (离子规), DN16KF (对流规)
气体管理 进/出气阀 两个1/4"波纹管密封针阀 (VCR)
温度控制 控制器型号 Eurotherm EPC 3000系列,带RS485/MODBUS
温度控制 精度 ±1°C
热电偶 传感器类型 K型
可选冷水机 冷却能力 26,826 Btu/h (3.5kW电源)
可选冷水机 泵流量 最大75L/min
可选泵 A 涡轮分子泵 260L/s Pfeiffer真空涡轮泵
可选泵 B 前级泵 240L/min旋片泵或200L/min干式涡旋泵
合规性 认证 CE认证 (可应要求提供NRTL/CSA)

为何选择1400°C高温冷壁高真空腔体炉

  • 无与伦比的纯度标准:全金属设计(钼和不锈钢)消除了石墨基系统相关的放气和污染风险,使其成为材料科学研发的首选。
  • 卓越的热管理:水冷冷壁设计保护了真空密封件和周围实验室环境的完整性,确保高温操作不会损害安全性或设备寿命。
  • 可重复性的精确控制:通过利用世界领先的Eurotherm控制系统,研究人员可以实现高度可重复的热曲线,这对于验证新材料工艺和实验数据至关重要。
  • 稳健的工程结构:从电抛光304不锈钢腔体到DN100CF金属密封法兰,每个组件的选择都基于其在严苛高真空环境下的表现能力。
  • 可扩展且可定制:该系统提供多种可选的真空泵和冷水机,允许根据特定的预算和性能要求量身定制解决方案。

我们的技术销售团队随时准备为您提供关于如何将此先进真空系统集成到您当前研究工作流中的详细咨询。立即联系我们进行技术评估并获取全面报价。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

用于先进材料烧结与退火的1600°C高温冷壁真空炉,加热区200x200x300mm

用于先进材料烧结与退火的1600°C高温冷壁真空炉,加热区200x200x300mm

这款高温冷壁真空炉可在洁净的金属加热区内实现1600°C的热处理。它配备集成式冷水机和精密Eurotherm控制器,为先进冶金和材料科学研究提供无污染的实验环境。

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

这款1000°C真空炉配备8英寸内径腔体,可实现卓越的热处理效果,适用于精密烧结和钎焊。该双区系统提供超高真空度,并配备Eurotherm PID控制器,满足严苛的工业研发材料科学应用需求。

1600°C 冷壁高真空腔体炉,配备钼加热器与400mm立方体工作区

1600°C 冷壁高真空腔体炉,配备钼加热器与400mm立方体工作区

这款1600°C冷壁高真空腔体炉助您实现卓越的材料纯度。其拥有64升金属加热区和超高真空度,专为当今先进的冶金、晶体生长及专业半导体研究应用而设计。

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

这款1100°C真空坩埚炉配备石英腔体,可实现精密热处理。专为在真空或惰性气氛下进行烧结和热处理而设计,为材料科学研究、工业工程和专业研发实验室的质量应用提供稳定可靠的结果。

1100C立式真空炉 高温8英寸石英腔体 水冷法兰系统

1100C立式真空炉 高温8英寸石英腔体 水冷法兰系统

先进的1100C立式真空炉配备8英寸石英腔体和水冷法兰,适用于半导体晶圆加工。如今即可实现高真空水平和精密温控,满足严苛的材料研究、工业退火和煅烧应用需求。

紧凑型高真空箱式炉 1050°C 最高温 6.2L 陶瓷炉膛 不锈钢外壳 可编程温控器 适用于材料科学研究

紧凑型高真空箱式炉 1050°C 最高温 6.2L 陶瓷炉膛 不锈钢外壳 可编程温控器 适用于材料科学研究

这款 1050°C 真空箱式炉配备 6.2L 陶瓷炉膛,真空度可达 10-4 托,助您优化实验室热处理流程。非常适合在受控气氛或精密真空环境下进行烧结、退火及热处理,满足高水平工业研究应用需求。

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

精密 3000ºC 感应加热真空炉,专为高纯度石墨化和陶瓷烧结而设计。这套多用途热系统采用先进的感应技术,并可选配熔盐电解功能,满足当今最严苛的工业研发和材料科学应用需求。

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

这款 1200°C 高真空紧凑型管式炉配备集成涡轮泵系统,可达到 10^-5 torr。非常适用于材料科学研发,具有精确的 PID 控制、8 英寸加热区以及坚固的石英管结构,适合加工处理。

超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

这款800°C真空压力室炉为研发工作提供了3.5巴的环境。它采用310S不锈钢结构和多区加热设计,为苛刻工业应用中的超导材料处理和先进烧结工艺提供了高精度保障。

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

这款1100°C石英管式炉配备8英寸外径和7.6升处理空间,旨在提升您的实验室能力。该系统专为真空及受控气氛环境设计,为先进材料研究和半导体制造提供精密的热处理方案。

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

高性能 1750°C 真空管式炉,采用 Kanthal Super-1800 加热元件和高纯度氧化铝管。该系统是精密材料研究的理想选择,具有 ±1°C 的控温精度和 30 段可编程控制,适用于严苛的实验室热处理和气氛控制烧结。

1200°C 底装式真空炉,带快速气体冷却和8.6英寸直径石英腔体

1200°C 底装式真空炉,带快速气体冷却和8.6英寸直径石英腔体

专为精密材料研究设计的高级1200°C底装式真空炉,具备快速气体淬火和双区PID控制功能。这款工业级系统为苛刻的研发环境和高纯度处理应用提供了卓越的热均匀性和真空完整性。

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

这款 1800°C 高温紧凑型真空管式炉采用优质 Kanthal 加热元件和 60mm 外径氧化铝管。专为材料研究和烧结设计,可在真空或受控气氛条件下为实验室研发提供精密的热处理。

用于高真空贵金属熔炼与材料研究的 1100°C 高温紧凑型顶装式立式真空管式炉

用于高真空贵金属熔炼与材料研究的 1100°C 高温紧凑型顶装式立式真空管式炉

这款 1100°C 紧凑型顶装式立式真空管式炉为贵金属熔炼和材料研究提供了高真空环境。它配备了精确的 PID 控制和重型加热元件,可在严苛的实验室研发及工业热处理应用中提供可靠、一致的性能。

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器,为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

高性能 1700℃ 气氛控制马弗炉,80L 容量,适用于先进材料研究。配备 MoSi2 加热元件和精确 PID 控制,适用于工业研发和中试生产加工中的惰性气体、真空及氧气环境。

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

利用这款高精度双温区真空管式炉提升您的实验室能力。它专为先进材料研究和 CVD 工艺设计,具备独立温控、快速升温以及稳健的真空密封性能,可确保获得一致的工业级热处理结果。

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

这款高性能紧凑型开启式管式炉集成了真空系统和精密温度校准仪,旨在提升材料研究水平。它能提供高达 1200°C 的卓越热均匀性,满足严苛的实验室应用和先进的工业热处理工艺需求,确保实验精准度。

立式可开启管式炉 0-1700℃高温CVD与真空热处理实验室系统

立式可开启管式炉 0-1700℃高温CVD与真空热处理实验室系统

这款1700℃立式可开启管式炉专为先进材料研究打造,具备精准三区域加热与快速淬火能力。非常适用于CVD工艺与真空退火处理,可在要求严苛的研发环境中提供工业级可靠性、氛围控制能力与模块化灵活性。

500C真空立式管式炉 84mm外径样品旋转升降系统

500C真空立式管式炉 84mm外径样品旋转升降系统

这款卓越的真空立式管式炉具备高温处理能力,并配有84mm外径莫来石管、样品旋转与手动升降系统,可确保先进材料研究和工业热处理过程中的均匀烧结。精湛的工程设计带来可靠性能。