超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

真空炉

超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

货号: TU-ZK01

最高温度: 800°C 最高压力: 3.5 Bar (0.35 MPa) 可用工作空间: 500 x 500 x 500 毫米
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

Product image 2

该高性能热处理系统代表了材料科学工程的巅峰,专为弥合高真空烧结与高压气氛处理之间的差距而设计。通过将稳健的3.5巴压力能力与高达10^-5托的超高真空相结合,该设备为先进功能材料的开发和生产提供了多功能环境。其核心价值在于能够保持极高的洁净度和温度均匀性,这对于敏感的化学工艺和高纯度材料合成至关重要。

该系统主要用于高压氧环境超导材料(如钇钡铜氧,YBCO)以及其他需要精确气氛控制的特种陶瓷的热处理。其310S不锈钢腔体确保了100级洁净度,使其适用于航空航天、半导体和核能领域的洁净室集成研发。无论是用于真空烧结还是高压氧化,该装置都能在最苛刻的实验条件下提供一致、可重复的结果。

工业研发团队可以信赖该装置卓越的结构完整性和先进的监控系统。它在366升的总腔体体积内提供了125升的可用立方工作空间,既适用于小规模原型制作,也适用于中试生产。多区加热与先进PID控制的结合,确保了材料科学家能够完全掌控热梯度,而集成的安全机制则在进行高压操作时提供了安心保障。该系统是实验室突破现代材料物理学界限的基础工具。

主要特点

  • 双重功能气氛控制: 该系统可在超高真空(通过涡轮分子泵可达10^-5托)和高压环境(最高3.5巴)之间无缝切换,允许在单次工艺运行中进行复杂的多阶段热循环,且无需破坏气氛。
  • 超洁净310S不锈钢腔体: 整个内部腔体采用优质310S不锈钢制造,经过精心设计以最大限度地减少放气并保持100级洁净度标准。这对于防止敏感超导和电子材料的污染至关重要。
  • 四区精密加热: 设备采用先进的四区加热布局(包括三个圆形加热区和一个底部加热区),覆盖900mm的长度。这种配置创造了±10°C的高度均匀温度场,确保放置在500mm立方可用空间内任何位置的样品都能经历相同的热条件。
  • 高压安全系统: 为工业安全而设计,装置配备了集成压力传感器和电磁泄压阀。这些组件提供自动压力维持和超压泄放功能,在高压氧气或惰性气体处理过程中保护人员和设施的安全。
  • 先进的Eurotherm EPC3000控制器: 系统采用行业领先的Eurotherm EPC3000 PID控制器,具有24段程序控制功能。这允许通过用户友好的触摸屏界面创建复杂的加热、保温和冷却斜坡,温度精度达±5°C。
  • 全面的热监控: 为确保工艺的绝对透明度,设备包括七个K型热电偶。三个传感器监测内部腔体环境以实现样品级精度,四个外部传感器跟踪加热元件以防止过热并延长钼铁铬铝电阻丝的使用寿命。
  • 水冷门结构: 前装式炉门配有集成水冷套,可在800°C长期高温运行期间保护真空密封件和炉体的结构完整性,确保长期运行的可靠性。
  • 集成质量流量控制: 进气系统配备高精度1通道质量流量计(5L/min),能够精确调节工艺气体。这种精度对于保持超导材料合成中的化学计量平衡至关重要。
  • 数据采集与PC连接: 为了严谨的研发文档记录,控制系统允许实时监控、记录和下载压力、真空和温度数据。提供DB9端口,以便实现无缝PC通信和工艺曲线生成。
  • 坚固的加热元件: 使用优质钼铁铬铝电阻丝确保了高达5°C/min的快速加热速率,并在流动气氛和真空状态下均具有出色的耐用性,降低了维护停机时间和运营成本。

应用领域

应用 描述 主要优势
超导体处理 针对YBCO及其他高温超导材料的高压氧热处理。 精确的pO2控制确保了最佳的晶体结构和临界电流密度。
先进陶瓷 航空航天及工业耐磨部件用氧化物和非氧化物陶瓷的真空烧结。 高真空去除杂质,压力阶段消除残余孔隙。
航空航天研发 受控洁净环境下高强度合金的应力消除和热处理。 100级洁净度防止氧化并保持冶金结合的纯度。
核材料研究 在不同压力和温度循环下测试反应堆组件。 坚固的310S钢结构可承受苛刻的循环和腐蚀性气氛。
半导体退火 在特定气体环境下对碳化硅或氮化镓晶圆进行高温退火。 多区加热提供了晶圆加工所需的极端温度均匀性。
生物植入物烧结 真空下钛或氧化锆牙科及骨科植入物的热处理。 全金属内部组件确保生物相容性表面零污染。
薄膜结晶 薄膜沉积后的热处理以改善电子性能。 实时数据记录允许工艺参数与薄膜性能之间的完美关联。
气相沉积支持 作为特种化学气相工艺的高压反应室。 集成质量流量计和泄压装置提供了安全、可控的反应容器。

技术规格

参数 规格详情(型号:TU-ZK01)
电源 交流三相480V,50/60Hz;60KW
腔体材质 310S不锈钢(全金属内部组件)
腔体总尺寸 直径720mm * 深度900mm(总容积366L)
可用工作空间 500mm x 500mm x 500mm(立方空间)
最高工作温度 800°C(在流动气氛或真空中连续运行)
加热区 4个区(3个圆形+1个底部);总加热长度900mm
温度均匀性 ±10°C(在流动气氛中)
加热速率 ≤ 5°C/min
加热元件 钼铁铬铝电阻丝
最高真空度 10^-3托(机械泵);10^-5托(配选配涡轮分子泵)
最高工作压力 0.35 MPa (3.5 bar) @ 500°C; 0.25 MPa (2.5 bar) @ 750°C
压力控制范围 0.01 MPa 至 0.2 MPa(恒压控制)
温度控制器 Eurotherm EPC3000;24段PID可编程
温度精度 ±5°C
热电偶配置 7个K型(3个腔内,4个外部/元件监控)
气体管理 1通道质量流量计(5L/min);电磁针阀
排气/端口 φ12.7mm进/出气口;预留KF40高压排气口
安全特性 超压泄放阀;自动压力维持;压力传感器
冷却要求 水冷炉门;选配冷水机(3.5KW,75L/min流量)
合规性 CE认证(可应要求提供NRTL/CSA)

为什么选择TU-ZK01

  • 卓越的混合工程设计: 该系统消除了对独立真空炉和压力炉的需求,提供了一种整合解决方案,在最大化实验室空间的同时,为先进材料合成提供了卓越的工艺灵活性。
  • 超导材料的可靠性验证: 专为高压氧环境优化,是专注于YBCO及其他高温超导材料研究机构的首选,在这些领域中,气氛纯度是不容妥协的。
  • 稳健的安全与监控: 凭借7个专用热电偶和自动泄压系统,该设备优先考虑操作员安全和设备寿命,即使在高温下的高压循环中也能保持稳定。
  • 优质控制集成: 包含Eurotherm EPC3000控制器,确保您的研究得到行业标准精度的支持,从而能够轻松在不同批次间复制复杂的加热曲线。
  • 全面定制与支持: 我们提供全面的技术支持,并能定制气体流量系统、真空泵配置和冷却装置,以满足您的工业或研发应用的特定需求。

如需详细咨询或获取TU-ZK01高压真空炉的正式报价,请立即联系我们的技术销售团队,讨论您的具体工艺需求。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

这款1000°C真空炉配备8英寸内径腔体,可实现卓越的热处理效果,适用于精密烧结和钎焊。该双区系统提供超高真空度,并配备Eurotherm PID控制器,满足严苛的工业研发材料科学应用需求。

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

这款1100°C真空坩埚炉配备石英腔体,可实现精密热处理。专为在真空或惰性气氛下进行烧结和热处理而设计,为材料科学研究、工业工程和专业研发实验室的质量应用提供稳定可靠的结果。

用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

利用这款1400°C冷壁高真空腔体炉优化您的研究。它配备水冷不锈钢腔体和全金属隔热层,可实现超洁净加工,达到1e-6 torr的真空度,适用于高纯度热处理和先进材料开发。

用于先进材料烧结与退火的1600°C高温冷壁真空炉,加热区200x200x300mm

用于先进材料烧结与退火的1600°C高温冷壁真空炉,加热区200x200x300mm

这款高温冷壁真空炉可在洁净的金属加热区内实现1600°C的热处理。它配备集成式冷水机和精密Eurotherm控制器,为先进冶金和材料科学研究提供无污染的实验环境。

1100C立式真空炉 高温8英寸石英腔体 水冷法兰系统

1100C立式真空炉 高温8英寸石英腔体 水冷法兰系统

先进的1100C立式真空炉配备8英寸石英腔体和水冷法兰,适用于半导体晶圆加工。如今即可实现高真空水平和精密温控,满足严苛的材料研究、工业退火和煅烧应用需求。

紧凑型高真空箱式炉 1050°C 最高温 6.2L 陶瓷炉膛 不锈钢外壳 可编程温控器 适用于材料科学研究

紧凑型高真空箱式炉 1050°C 最高温 6.2L 陶瓷炉膛 不锈钢外壳 可编程温控器 适用于材料科学研究

这款 1050°C 真空箱式炉配备 6.2L 陶瓷炉膛,真空度可达 10-4 托,助您优化实验室热处理流程。非常适合在受控气氛或精密真空环境下进行烧结、退火及热处理,满足高水平工业研究应用需求。

用于先进材料烧结和工业热处理的1650℃高温气氛控制箱式炉,配65L炉膛

用于先进材料烧结和工业热处理的1650℃高温气氛控制箱式炉,配65L炉膛

这款1650℃气氛控制箱式炉配备65L炉膛、水冷真空密封和MoSi2加热元件,适用于在惰性气体或氧气环境下进行先进材料烧结,为工业研发和实验室应用提供精准热处理。

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

该1700℃立式管式炉系统优化了电池电极和3D打印的粉末球化工艺。该设备配备自动进料器和双温区控制,确保在真空或受控气氛下进行高纯度处理,适用于卓越的工业材料研究应用。

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

精密 3000ºC 感应加热真空炉,专为高纯度石墨化和陶瓷烧结而设计。这套多用途热系统采用先进的感应技术,并可选配熔盐电解功能,满足当今最严苛的工业研发和材料科学应用需求。

2500°C 高真空超快加热压片机(带自动化 8 样品装载系统)

2500°C 高真空超快加热压片机(带自动化 8 样品装载系统)

这款 2500°C 高真空压片机具备超快加热功能和自动化 8 样品装载系统,助您实现快速热处理。它是先进材料研究的理想选择,通过高速机器人样品处理和自动化性能,确保实验室获得精确的烧结结果。

500C真空立式管式炉 84mm外径样品旋转升降系统

500C真空立式管式炉 84mm外径样品旋转升降系统

这款卓越的真空立式管式炉具备高温处理能力,并配有84mm外径莫来石管、样品旋转与手动升降系统,可确保先进材料研究和工业热处理过程中的均匀烧结。精湛的工程设计带来可靠性能。

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器,为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。

1200°C 底装式真空炉,带快速气体冷却和8.6英寸直径石英腔体

1200°C 底装式真空炉,带快速气体冷却和8.6英寸直径石英腔体

专为精密材料研究设计的高级1200°C底装式真空炉,具备快速气体淬火和双区PID控制功能。这款工业级系统为苛刻的研发环境和高纯度处理应用提供了卓越的热均匀性和真空完整性。

用于先进材料研究的 1700°C 高温立式气氛控制炉(带自动底部装料功能)

用于先进材料研究的 1700°C 高温立式气氛控制炉(带自动底部装料功能)

先进的 1700°C 立式气氛炉,配备自动电动底部装料系统和真空功能。该高纯度系统专为精密烧结和退火而设计,包含水冷腔体和 Eurotherm PID 控制系统,适用于要求严苛的工业研发领域。

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

这款 1200°C 高真空紧凑型管式炉配备集成涡轮泵系统,可达到 10^-5 torr。非常适用于材料科学研发,具有精确的 PID 控制、8 英寸加热区以及坚固的石英管结构,适合加工处理。

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

高性能 1750°C 真空管式炉,采用 Kanthal Super-1800 加热元件和高纯度氧化铝管。该系统是精密材料研究的理想选择,具有 ±1°C 的控温精度和 30 段可编程控制,适用于严苛的实验室热处理和气氛控制烧结。

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

这款高性能紧凑型开启式管式炉集成了真空系统和精密温度校准仪,旨在提升材料研究水平。它能提供高达 1200°C 的卓越热均匀性,满足严苛的实验室应用和先进的工业热处理工艺需求,确保实验精准度。

用于高真空贵金属熔炼与材料研究的 1100°C 高温紧凑型顶装式立式真空管式炉

用于高真空贵金属熔炼与材料研究的 1100°C 高温紧凑型顶装式立式真空管式炉

这款 1100°C 紧凑型顶装式立式真空管式炉为贵金属熔炼和材料研究提供了高真空环境。它配备了精确的 PID 控制和重型加热元件,可在严苛的实验室研发及工业热处理应用中提供可靠、一致的性能。

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

高性能 1700℃ 气氛控制马弗炉,80L 容量,适用于先进材料研究。配备 MoSi2 加热元件和精确 PID 控制,适用于工业研发和中试生产加工中的惰性气体、真空及氧气环境。

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

利用这款高精度双温区真空管式炉提升您的实验室能力。它专为先进材料研究和 CVD 工艺设计,具备独立温控、快速升温以及稳健的真空密封性能,可确保获得一致的工业级热处理结果。