产品概述


这套混合式热处理系统是高温实验室工程领域的一项多功能进步,将箱式炉和管式炉的功能无缝集成到单一的高性能装置中。该设备专为满足材料科学及工业研发的严苛要求而设计,为需要开放式环境或严格受控气氛的热处理工艺提供了灵活的平台。通过允许研究人员在宽敞的腔室批量处理和局部真空密封管式处理之间切换,该系统无需多台专用设备,从而优化了实验室空间并提高了预算效率。
该设备的主要应用场景包括先进陶瓷开发、半导体研究和固体氧化物燃料电池(SOFC)测试。其双路径加热配置——利用主加热腔室和垂直集成的氧化铝处理管——使其成为专注于冶金、催化剂研究和高温氧化研究的机构的必备工具。它能够保持高达1700°C的稳定温度,确保其能够处理现代航空航天和能源领域中使用的最难熔材料。
该装置的每个组件都经过精心设计,以确保可靠性。从确保峰值运行期间外壳温度较低的双层钢外壳,到精密触发的硅控整流器(SCR)功率控制系统,该设备专为长期运行的一致性而打造。它提供工业级的热稳定性,使采购团队和首席科学家能够放心投资,确信该系统能在严苛的循环条件下提供可重复的结果。稳固的制造质量确保了即使在热量上限,该装置也能保持其结构和操作的完整性。
主要特点
- 创新混合配置:该系统具有独特的设计,一根直径2英寸的氧化铝处理管穿过6x6x6英寸加热腔室的顶部。这允许同时或独立使用管式炉进行真空/气氛受控处理,以及使用周围的腔室配合小型坩埚进行空气环境下的热处理。
- 优质1800级MoSi2加热元件:配备四个高性能U型二硅化钼元件,使炉体能够实现快速加热,并在极端温度下表现出卓越的耐用性。这些元件因其能够在1700°C环境的氧化应力下保持性能而不降解而被特别选中。
- 先进的高纯度纤维绝缘材料:腔室衬有1800级纤维氧化铝绝缘材料,最大限度地减少了热量损失并提高了能源效率。与传统的重型耐火砖相比,这种低热质量绝缘材料允许更快的升温速率和更好的温度均匀性。
- 精密SCR功率调节:与标准的固态继电器不同,该装置使用带有相位角触发和限流功能的SCR(硅控整流器)。这允许对功率输出进行更精细的控制,从而实现±1°C的温度精度,并防止电流浪涌对元件造成损坏。
- 30段可编程PID控制器:集成的数字控制器允许用户编程复杂的热曲线,包括多个加热阶段、保温时间和受控冷却速率。这种自动化水平确保了精细的材料转变过程能够以极高的可重复性进行管理。
- 集成真空和气氛控制:该装置标配一对不锈钢真空密封法兰、双硅胶O型圈、针阀和指针式真空计。该组件使系统能够通过标准机械泵达到低至50 mTorr的真空度,或在配合涡轮分子泵系统时达到更高的真空度。
- 双层安全外壳:炉体外壳采用双壁钢结构和集成冷却风扇构建。这种设计形成了一个气流缓冲层,即使在长时间的高温保温期间,外壳表面也能保持安全触碰,从而增强了实验室安全性。
- 专用SOFC测试端口:垂直管式布局专门针对SOFC纽扣电池测试进行了优化,提供了稳定的热环境和便捷的气体连接,便于进行电化学性能分析。
- 自动化保护系统:内置的超温报警和自动断电协议允许炉体在无人值守的环境下安全运行,保护样品和设备免受热失控的影响。
应用领域
| 应用 | 描述 | 主要优势 |
|---|---|---|
| SOFC纽扣电池测试 | 垂直方向允许气体流经管内,同时将纽扣电池保持在精确的电化学工作温度。 | 针对衰减研究和效率指标具有高精度。 |
| 先进陶瓷烧结 | 在6英寸箱式腔室内对氧化锆、氧化铝及其他技术陶瓷进行高温处理。 | 通过稳定的PID调节实现卓越的密度和晶粒尺寸控制。 |
| 气氛受控退火 | 通过密封的氧化铝管在惰性氩气或氮气环境中处理金属合金或半导体晶圆。 | 防止关键循环过程中的氧化和表面污染。 |
| 催化剂表征 | 在管式环境内将催化剂基底暴露于反应气体中进行高温处理。 | 评估催化剂热稳定性的可重复环境。 |
| 真空热处理 | 在50 mTorr真空下去除挥发性杂质或对特殊材料进行除气。 | 为高纯度材料合成提供清洁的处理环境。 |
| 氧化测试 | 在箱式腔室内将航空航天合金长期暴露于高达1700°C的空气中。 | 为材料验证提供极端操作环境的可靠模拟。 |
| 粉末冶金 | 在受控压力或气氛下对金属粉末进行烧结。 | 精确控制冷却速率以决定冶金相的形成。 |
技术规格
| 参数 | TU-HC10规格详情 |
|---|---|
| 型号 | TU-HC10 |
| 最高温度 | 1700 °C(持续时间 < 1小时) |
| 连续工作温度 | 800 °C – 1600 °C |
| 加热腔尺寸 | 150 mm x 150 mm x 150 mm (6" x 6" x 6") |
| 加热元件 | 4支U型1800级MoSi2 |
| 处理管材质 | 99.5%高纯度Al2O3陶瓷 |
| 处理管尺寸 | 外径:50 mm;内径:40 mm;长度:1000 mm |
| 温度控制器 | 通过SCR(硅控整流器)功率控制的PID调节 |
| 编程容量 | 30段加热/冷却/保温曲线 |
| 温度精度 | ± 1 ºC |
| 升温/降温速率 | ≤ 5 ºC/min (>1200ºC);≤ 10 ºC/min (<1200ºC) |
| 功耗 | 最大 4 KW |
| 输入电压 | 单相,220V AC,50/60 Hz |
| 真空度 | 50 mTorr(机械泵);10^-5 Torr(分子泵) |
| 密封法兰 | 不锈钢,配双硅胶高温O型圈 |
| 接口端口 | 带针阀的标准1/4"倒钩接头 |
| 数据接口 | RS485通讯端口(可选配PC控制模块) |
| 标准配件 | 4个氧化铝坩埚(15x15mm),2个陶瓷管堵,真空计 |
为何选择这款混合式炉
- 卓越的操作多功能性:双重功能设计将两台独立炉具的效用合二为一,使实验室无需额外资本支出即可在批量箱式处理和真空管式实验之间转换。
- 精密工程热控制:通过使用SCR功率调节而非标准继电器,该系统提供了更平滑的功率转换和更高的精度,这对敏感材料的合成和研发的可重复性至关重要。
- 卓越的组件寿命:从1800级MoSi2元件到高纯度氧化铝管,每种材料的选择都旨在实现热量上限下的最大寿命和性能,从而确保更低的总体拥有成本。
- 可扩展的数字集成:内置RS485端口和可选的基于PC的控制模块,该设备已准备好集成到现代实验室数据采集系统中,实现自动监测和记录。
- 可靠的支持与品质:作为一家致力于工业级热处理解决方案制造商的产品,该系统拥有严格的质量控制和技术专长支持,确保在严苛的研究环境中表现一致。
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