1700°C 高温摇摆管式炉 配备精密振荡氧化铝加工管用于材料合成

回转炉

1700°C 高温摇摆管式炉 配备精密振荡氧化铝加工管用于材料合成

货号: TU-X19

最高温度: 1700°C 摇摆范围: +/- 45° 可调 工艺管: 外径60mm × 长度800mm 氧化铝材质
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

产品图片 3

产品图片 4

这款高温摇摆管式炉代表了热处理工程的巅峰之作,专为需要卓越成分均匀性的材料科学研究人员和工业实验室而设计。通过将最高1700°C的工作温度与精密控制的机械摇摆机构相结合,该设备便于在可控气氛下处理粉末、颗粒和异质混合物。该系统的核心价值在于能够通过持续的物理搅动防止材料结块和烧结,确保每个颗粒在整个循环过程中都暴露在相同的热条件和气体条件下。

该设备针对严苛的研发环境进行了优化,常用于先进陶瓷、电池电极和催化剂材料的开发。可调节至+/- 45度的摇摆运动在氧化铝加工管内产生类似流体的运动,这对于获得真正均匀的产品至关重要。这种机械作用,结合高纯度氧化铝绝缘材料和坚固的加热阵列,可在包括航空航天、可再生能源和冶金在内的各种高科技领域的复杂固态反应和煅烧过程中实现可重复的结果。

可靠性是设计的核心。该炉采用工业级组件和双层冷却结构建造,确保在长时间热循环期间性能稳定。1800级二硅化钼(MoSi2)加热元件的集成提供了快速升温和稳定保温所需的热功率,而保护外壳则维持了安全的外部环境。采购团队和首席研究员可以在最关键的材料开发阶段依赖该设备进行一致、高纯度的加工。

主要特点

  • 精密摇摆机构: 集成的150W直流齿轮电机可实现炉体+/- 45度的受控摆动,促进机械混合,防止加热循环期间出现局部热点或材料团聚。
  • 高性能MoSi2加热元件: 采用1800级二硅化钼元件,系统可稳定达到1700°C,为先进材料合成和烧结过程提供所需的热能。
  • 先进的PID温度控制: 30段可编程控制器提供+/- 1°C的精度,允许以极高的精度和可重复性执行复杂的升温、保温和冷却曲线。
  • 双层风冷外壳: 重型钢制外壳内置风冷通道,可将表面温度维持在60°C以下,确保操作员安全和电子元件的长期结构完整性。
  • 高纯度氧化铝加工环境: 该设备包含一个60mm外径的高纯度氧化铝管和纤维陶瓷块,为加工高纯度粉末和化合物提供惰性且热稳定的环境。
  • 多功能气氛控制: 配备双不锈钢真空法兰和1/4"宝塔接头,系统同时支持高真空操作和用于氧化敏感材料的受控气体吹扫。
  • 动态速度和频率调节: 用户可将摇摆频率从每分钟0.1次精细调节至1次,并可调节内部驱动速度,从而根据材料密度和颗粒尺寸优化搅动效果。
  • 全面的安全系统: 内置的超温和热电偶故障警报会自动切断加热元件的电源,保护设备和加工材料免受意外热偏移的影响。
  • 可扩展的控制器选项: 虽然标准PID控制器功能强大,但系统可以升级为Eurotherm 3000系列控制器,以满足需要+/- 0.1°C精度和高级数据记录功能的研究人员。
  • 坚固的真空完整性: 精密加工的KF25真空接口和高质量密封件使系统能够使用标准机械泵达到低至50毫托的真空度,或使用可选涡轮分子系统达到10^-5托的真空度。

应用领域

应用领域 描述 主要优势
电池材料合成 用于锂离子电池和固态电池的正负极粉末煅烧。 通过均匀的颗粒尺寸和成分提高离子电导率。
催化剂开发 在特定气体气氛下对催化基底进行热活化和还原。 由于材料的持续运动,实现了最大化的表面积和活性位点分布。
技术陶瓷 在高达1700°C的温度下烧结高性能陶瓷粉末和前驱体。 消除加工材料批次内的密度梯度。
粉末冶金 用于增材制造和特种合金的金属粉末热处理和还原。 防止高温处理阶段的颗粒熔合。
固态反应 通过长时间高温保温合成复杂氧化物和荧光粉。 通过机械搅拌实现更快的反应动力学和更高的相纯度。
碳纳米管生长 化学气相沉积(CVD)过程,其中摇摆有助于分散催化剂。 更高的产率和更一致的基底上管状形态。
荧光粉生产 用于照明和显示技术的稀土掺杂材料的高温烧制。 通过均匀掺杂实现卓越的颜色均匀性和发光性能。
宝石处理 用于增强矿物和宝石特性的受控加热和气氛循环。 精确控制氧化态和热梯度,以获得高价值结果。

技术规格

规格类别 参数详情 数值 (TU-X19)
型号标识 产品货号 TU-X19
热性能 最高工作温度 1700°C (< 2 小时)
连续工作温度 1600°C
推荐升温速率 ≤ 10°C / 分钟
加热结构 加热元件 1800 级 MoSi2 元件
加热区长度 300 mm (12")
恒温区 80 mm (+/- 1°C)
摇摆参数 摇摆角度 可调节至 +/- 45°
摇摆频率 0.1 - 1 次/分钟
驱动电机 150W 齿轮直流电机
可调速度范围 10 - 70 RPM (内部驱动)
摇摆定时器 1 - 1199 分钟 或 连续
加工管 材料 高纯度氧化铝 (>99.5%)
尺寸 54 mm (内径) x 60 mm (外径) x 800 mm (长度)
辐射防护 包含纤维陶瓷管块
控制系统 控制器型号 FA-YD518P-AG (Eurotherm 可选)
编程 30 段 (升温,降温,保温)
温度精度 +/- 1°C (标准) / +/- 0.1°C (升级)
通讯接口 RS485 PC 端口,附带软件
气氛与真空 法兰类型 不锈钢,带真空计和阀门
接口配件 1/4" 宝塔接头;KF25 真空接口
可达到真空度 50 毫托 (机械泵);10^-5 托 (涡轮分子泵)
电气数据 电源 交流 208 - 240V,50/60Hz,单相
额定功率 3.0 kW (需要 20A 断路器)
物理结构 冷却系统 双层钢制外壳,风冷
外部安全 外壳温度保持 < 60°C
合规性 CE 认证;NRTL/CSA 可选

为何选择高温摇摆管式炉

  • 无与伦比的材料均匀性: 精密摇摆机构旨在消除静态管式炉中常见的热梯度和浓度梯度,为粉末加工和固态合成提供显著优势。
  • 工业级可靠性: 从1800级MoSi2元件到双层冷却钢制外壳,该系统的每个组件都因其能够承受24/7工业研发环境的严苛考验而被选中。
  • 精密控制基础设施: 能够编程30个独立段,并可选择升级至+/- 0.1°C的Eurotherm控制器,使研究人员能够完全掌控最敏感的热曲线。
  • 可定制的加工环境: 无论您需要特定的管长、定制的热块还是专用的法兰配件,我们的工程团队都可以调整系统以满足您确切的实验要求。
  • 经过验证的安全性和合规性: CE认证以及NRTL或CSA测试选项确保该设备满足实验室和工业安装的最高全球安全标准。

投资一款将机械搅拌与极端高温精度相结合的热处理解决方案。立即联系我们,讨论您的具体应用需求,或为您的设施索取定制报价。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

十六通道摇摆管式炉,用于高通量热处理和材料科学研究,单通道温度控制最高可达 1100°C

十六通道摇摆管式炉,用于高通量热处理和材料科学研究,单通道温度控制最高可达 1100°C

这款十六通道摇摆管式炉提供独立的温度控制和动态搅拌功能,适用于最高 1100°C 的高通量材料合成,是合金研究、陶瓷开发和先进催化剂优化的理想选择,并集成在紧凑且兼容真空的工业实验室热处理设备中。

1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,用于材料合成

1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,用于材料合成

先进的 1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,可在压力下进行高温合成。该系统专为工业研发设计,提供精确的热控制、自动摇摆运动以及强大的安全保障,适用于复杂的材料处理应用。

用于材料合成的带石英管和真空法兰高温摇摆管式炉

用于材料合成的带石英管和真空法兰高温摇摆管式炉

这款精密摇摆管式炉配备高纯石英管和真空法兰,可提升您的材料研究水平。它专为均匀热处理而设计,提供持续一致的样品搅拌,有助于实现更优异的热电材料合成和先进的二维晶体生长。

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

这款最高温度1500°C的管式炉配备手动滑动法兰,可实现加速加热和冷却,助您实现快速热处理。专为材料科学研究设计,这套高精度系统提供卓越的真空性能和双控制器监控,满足严苛的实验室应用需求。

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

这款多功能1100°C管式炉配备可编程PID控制器和高真空法兰,旨在优化您的实验室热处理流程。专为精密材料合成和工业研发设计,提供双向操作灵活性及高度的温度均匀性,满足严苛的应用需求。

1500°C高温双温区旋转管式炉,采用碳化硅加热技术,助力先进材料合成

1500°C高温双温区旋转管式炉,采用碳化硅加热技术,助力先进材料合成

这款高精度双温区旋转管式炉可优化热处理工艺。它具备1500°C最高温度和先进的碳化硅(SiC)加热元件,确保工业研发、化学气相沉积及全球实验室中复杂材料科学应用的一致性结果。

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

这款十区炉针对复杂热剖面分析优化,可在水平和垂直取向下实现精准1200℃控温。对于需要大尺寸温度梯度、并在1470mm加热长度系统上进行可靠气氛控制工艺的材料研发而言,是理想选择。

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

这款多位置管式炉提供 1100°C 精密加热,具备垂直和水平放置的灵活性。专为先进材料研究设计,配备 30 段 PID 控制器和高纯度纤维绝缘材料,确保卓越的热稳定性和可靠的工业实验室性能。

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

这款 1200 °C 自动化管式炉具备精确的真空控制、高纯度石英处理能力以及远程集成功能,旨在加速材料合成,助力高通量 AI 研究及各类严苛工业材料科学与先进研发工作流中的自主实验室应用。

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

利用这款三温区旋转管式炉提升您的热处理工艺。该设备采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件,支持0-40度倾斜角,为工业研发部门在真空或受控气氛条件下进行粉末烧结和高纯材料研究提供了卓越的温度均匀性。

1700°C高温双温区旋转管式炉,配60mm氧化铝管与精密旋转控制

1700°C高温双温区旋转管式炉,配60mm氧化铝管与精密旋转控制

这款高性能1700°C双温区旋转管式炉为材料合成提供卓越的热均匀性。采用独立PID控制和高纯度氧化铝管,专为稳定的粉体处理以及当今先进的锂离子电池研究应用而优化,助力实现工业级卓越性能。

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统,旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀,适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。

高温倾斜式旋转管式炉(集成质量流量控制与多区加热)

高温倾斜式旋转管式炉(集成质量流量控制与多区加热)

这款高性能倾斜式旋转管式炉可实现连续材料处理,具备精确的温度控制和多通道气体集成功能。专为工业研发设计,确保先进材料合成和大规模冶金测试应用中的热处理均匀性。

1200°C 最高温双滑动管式炉,配 50 mm CVD 管法兰

1200°C 最高温双滑动管式炉,配 50 mm CVD 管法兰

这款 1200°C 双滑动管式炉配备了专为高精度 CVD 工艺设计的 50mm 石英管法兰。通过滑动实现快速加热和冷却,加速工业研发进程,确保卓越的材料合成效果、一致的实验结果以及顶尖的薄膜沉积性能。

适用于高温材料合成的1500ºC最高温双温区旋转管式炉,配备60毫米外径氧化铝管

适用于高温材料合成的1500ºC最高温双温区旋转管式炉,配备60毫米外径氧化铝管

这款专业的1500°C双温区旋转管式炉配备60毫米氧化铝管和精密控制系统,适用于先进材料合成。专为无机化合物生产设计,提供卓越的热均匀性、可调倾斜角度和高真空处理能力。

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

高性能1200°C立式石英管式炉,配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。

1200°C 滑动管式炉,适用于快速热处理及 CVD 石墨烯生长(支持 100mm 外径)

1200°C 滑动管式炉,适用于快速热处理及 CVD 石墨烯生长(支持 100mm 外径)

这款 1200°C 滑动管式炉专为快速热处理(RTP)和 CVD 应用而设计,旨在加速您的研究进程。配备高精度 PLC 控制系统和电动滑轨,可实现超快速加热和冷却循环,是先进材料科学和工业研发实验室的理想选择。

用于高温粉末加工与材料研究的三温区旋转管式炉

用于高温粉末加工与材料研究的三温区旋转管式炉

这款先进的三温区旋转管式炉可为散装粉末材料提供均匀的热处理。专为材料研究和工业研发设计,具备精确的温度控制、可调节的倾斜角度以及动态混合功能,确保整个批次质量的一致性。

用于先进粉末烧结与材料加工的高温旋转倾斜管式炉

用于先进粉末烧结与材料加工的高温旋转倾斜管式炉

专为均匀粉末烧结和材料加工而设计的先进高温旋转倾斜管式炉。该专业系统具备动态旋转、精密 PID 控制和自动倾斜功能,可确保为严苛的工业应用和材料科学研发实验室提供均匀的热处理。

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

1100°C 高温石英管式炉,8英寸外径,7.6升容量,具备真空及气氛控制功能

这款1100°C石英管式炉配备8英寸外径和7.6升处理空间,旨在提升您的实验室能力。该系统专为真空及受控气氛环境设计,为先进材料研究和半导体制造提供精密的热处理方案。