1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

RTP 炉

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

货号: TU-RT03

最高温度: 1500°C 加热区长度: 152 毫米(6英寸) 真空能力: 配涡轮分子泵可达10E-5 Torr
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产品概述

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这款高温热处理系统专门设计,旨在弥合传统管式炉与快速热处理(RTP)设备之间的差距。通过将手动滑动导轨机构与高性能1500°C加热腔体相结合,该设备允许研究人员将处理管瞬间移入和移出热区。对于材料科学应用而言,这一能力至关重要,因为微观结构控制依赖于精确的加热和冷却速率,这超出了静态热系统的能力范围。其价值主张在于,能够以远低于自动化RTP系统的成本实现极端热梯度,为先进材料合成提供了一种多功能工具。

该设备的主要应用场景包括固态电解质开发、半导体退火以及先进陶瓷相变研究。目标行业涵盖航空航天、储能、微电子和工业研发实验室。该单元的设计优先考虑灵活性,支持莫来石管和石英管,以适应不同的气氛和温度要求。通过实现快速插入预加热腔体或立即取出进行强制风冷,该系统为迭代实验流程提供了所需的操作灵活性。

对该设备的信心源于其坚固的结构和优质组件。采用1500°C级碳化硅(SiC)加热元件和双S型热电偶,确保设备在严苛的热循环下性能稳定。包含镀铬钢双滑动导轨,保证了长期运行中的平稳可靠移动。无论是在高真空还是惰性气体环境下运行,这款炉子都能提供高风险工业研究和质量敏感材料生产所需的精度和可靠性。

主要特点

  • 快速热处理能力:集成的滑动导轨允许手动将处理管移入预加热炉中实现近瞬时加热,或移出以加速冷却,显著缩短循环时间。
  • 双控制器温度管理:两个独立的30段可编程数字温度控制器管理炉温并监控样品的实时温度曲线,确保过程透明度最大化。
  • 精密SiC加热元件:配备四根1500°C级优质碳化硅棒,炉子为高达1400°C的连续运行和1500°C的间歇使用提供可靠稳定的热能。
  • 先进真空密封技术:采用带内置数字真空计的不锈钢真空法兰,当与分子泵配对时,系统可实现低至10E-5托的真空度,非常适合对氧敏感的处理过程。
  • 可互换处理管:设备包含美国制造的莫来石管和高纯度石英管,允许用户根据其特定的温度和化学兼容性需求选择最佳材料。
  • 实时热反馈:内部S型热电偶辅以直接插入管内的辅助探头,提供样品实际热环境的精确1:1读数。
  • 工业级滑动导轨:350mm镀铬钢双导轨系统为高速热转换期间的手动移动管子提供了稳定平滑的机械界面。
  • 计算机化控制接口:集成的RS485端口允许与实验室软件进行全系统集成,实现复杂热工艺配方的自动化数据记录和远程管理。
  • 增强的安全架构:内置超温报警和自动保护电路,使系统无需持续监督即可安全运行,保护设备和样品。
  • 优化的恒温区:加热区的工程设计提供了100mm的稳定区域,温度波动在±1°C以内,确保整个样品长度上的热量分布均匀。

应用领域

应用 描述 主要优势
固态电解质 使用快速冷却技术制备LPS固态电解质粉末。 通过在冷却过程中控制结晶相,提高离子电导率。
半导体退火 在受控气氛下对硅或化合物半导体晶圆进行快速热退火。 最小化掺杂剂扩散,同时有效激活离子注入物质。
陶瓷烧结 先进技术陶瓷的快速循环烧结,以限制晶粒生长。 生产具有优异机械性能的高密度陶瓷部件。
相变研究 研究快速淬火对金属和合金微观结构的影响。 通过高冷却速率捕获亚稳相。
CVD / PECVD研究 作为化学气相沉积实验的热基座。 为精确薄膜生长提供稳定、高真空的环境。
纳米材料生长 合成需要精确升温速率的碳纳米管或纳米线。 高升温速率有助于更好地控制成核和生长动力学。
催化剂测试 在高速循环下测试催化剂的热稳定性和活性。 通过缩短热阶段之间的时间来加速老化测试。

技术规格

特性 TU-RT03 规格详情
型号 TU-RT03
炉体结构 右侧单滑动法兰;手动导轨用于管子移动;集成数字真空计
真空性能 10E-5 托(涡轮分子泵);10E-2 托(机械泵)
额定功率 2.5 千瓦(需要20A断路器)
输入电压 单相交流 208-240V,50/60 Hz
最高温度 1500°C
连续工作温度 1400°C(使用莫来石管)
温度精度 ± 1°C
加热区长度 6英寸(152 毫米)
恒温区 100 毫米(±1°C),在 800 - 1500°C 范围内
加热元件 4根1500°C级SiC棒
热电偶 双S型(一个用于炉温控制,一个用于样品监控)
温度控制器 双30段可编程数字控制器,带RS485端口
莫来石管规格 外径50mm x 内径44mm x 长304.8mm;最高1500°C(空气)/ 1300°C(真空)
石英管规格 外径50mm x 内径44mm x 长304.8mm;最高1200°C(空气)/ 1000°C(真空)
滑动导轨类型 镀铬钢双导轨;滑动长度350mm
加热速率(莫来石管) 10°C/秒(室温-800°C);7°C/秒(800-1000°C);1.5°C/秒(1200-1300°C)
冷却速率(莫来石管) 14°C/秒(1350-1000°C);7°C/秒(1000-800°C);2.5°C/秒(500-400°C)
加热速率(石英管) 30°C/秒(室温-500°C);12°C/秒(500-800°C);1°C/秒(1000-1100°C)
冷却速率(石英管) 16°C/秒(1100-800°C);9°C/秒(800-600°C);2.5°C/秒(400-300°C)
合规认证 CE认证;可根据要求提供NRTL/CSA认证

为何选择我们

  • 卓越的热处理灵活性:手动滑动设计提供了昂贵自动化RTP系统的经济高效替代方案,冷却速率高达16°C/秒,加热速率高达30°C/秒,适用于快速材料筛选。
  • 精密工程与监控:凭借双S型热电偶和独立控制器,该系统通过提供炉内环境和管内条件的实时数据,消除了猜测。
  • 高真空与洁净处理:不锈钢密封技术和数字监控允许进行低至10E-5托的超洁净处理,这对于高纯度半导体和电解质研究至关重要。
  • 耐用的工业结构:采用镀铬钢导轨和优质SiC元件制造,该系统专为在密集的24/7研发环境中实现长久寿命和稳定性能而设计。
  • 广泛的材料兼容性:同时包含高温莫来石管和高纯度石英管,确保系统开箱即用,适用于广泛的化学和热要求。

投资此快速热处理系统,可确保您的实验室拥有下一代材料开发所需的速度和精度。立即联系我们的技术销售团队,获取详细报价或讨论根据您特定研究参数定制的配置方案。

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