用于直接蒸发沉积和快速热处理的内置磁性样品滑动机构1200℃管式炉

RTP 炉

用于直接蒸发沉积和快速热处理的内置磁性样品滑动机构1200℃管式炉

货号: TU-RT02

最高温度: 1200°C 控温精度: ±1°C 样品移动机构: 内置磁力手动滑动
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

这款高精度热处理系统专为先进材料科学研究开发,精准契合直接蒸发沉积(DVD)与快速热处理(RTP)的复杂工艺要求。设备集成手动磁性样品滑动机构,可在不破坏工艺真空或气氛完整性的前提下,实现样品在加热区内的精确定位。该功能对研究二维材料、薄膜沉积和热退火的科研人员至关重要,这类工艺需要对过渡温度阶段实现极高精度的控制。

设备最高工作温度可达1200℃,为高温合成与工业研发提供了稳定可靠的平台。其紧凑的2英寸管式设计,非常适合在空间有限的实验室环境中实现高性能运行。目标应用行业包括半导体制造、纳米技术和先进陶瓷,在这些领域,样品在稳定热梯度中的位置调控是获得可重复实验结果的关键因素。

本设备采用工业级组件制造,专注于长期可靠性,可在严苛工况下保持稳定性能。高传导性氧化铝样品座、NIST认证温度监测器与先进PID控制系统的组合,为操作人员开展敏感材料生长实验提供了充分保障。无论是在可控气氛还是高真空环境中开展合成实验,该系统都能满足现代材料表征和生产流程所需的热稳定性与机械精度。

核心特点

  • 创新磁性样品移动机构:系统采用外磁驱动内部移动机构,可带动样品座在加热区内平稳移动,无需破坏真空密封即可精确控制沉积速率和热暴露时间。
  • 高传导性氧化铝样品座:设备配备扁平样品座,优化了热接触性能,确保集成K型热电偶监测的温度能够高保真反映样品的实际温度状态。
  • 精准NIST认证监测:每台设备均配备经NIST认证的精密温度监测器,通过独立真空穿通件连接,为关键研究与合规要求提供额外一层精度验证。
  • 先进30段可编程PID控制:温度控制器支持编写复杂热曲线,包括升温、保温和降温程序,内置过温保护和热电偶故障保护,保障设备安全运行。
  • 双区气氛灵活性:系统支持真空或低压气氛环境,可兼容多种工艺气体,可灵活适用于CVD、DVD及其他化学气相工艺。
  • 耐用加热元件材质:加热元件采用掺钼高品质铁铬铝合金,专为高温长寿命和快速响应设计,最高可稳定维持1200℃工作温度。
  • 优化隔热结构:采用高纯纤维陶瓷管块减少真空法兰处的热辐射,保护密封件,同时确保工作区内温度曲线稳定。
  • 模块化真空集成:标准KF25真空接口和1/4英寸倒钩接头可快速连接机械泵或分子泵,实现快速抽真空,保障洁净的工艺环境。

应用领域

应用场景 说明 核心优势
二维材料生长 采用可控气相沉积法合成石墨烯、二硫化钼及其他过渡金属二硫属化物 精确的样品移动可控制成核过程与生长速率
快速热处理 对半导体晶圆进行快速加热冷却循环,实现掺杂剂激活或薄膜性能改性 磁驱动滑动可实现样品在热区冷区间快速转移
直接蒸发沉积 高温蒸发固体前驱体,使其沉积到位于冷梯度区的衬底上 样品在热梯度中的准确定位可优化薄膜质量
薄膜退火 对沉积完成的薄膜进行后热处理,改善结晶度与电学性能 稳定的PID控制确保衬底上晶体结构均匀一致
催化剂研究 在不同气氛和高温环境下测试并活化催化材料 高真空与气氛控制可提供洁净、可重复的反应环境
陶瓷烧结 对小型陶瓷部件或粉体进行高温处理 稳定的1200℃工作能力可提供致密材料成型所需的温度

技术参数

参数类别 TU-RT02 详细参数
型号 TU-RT02
电源 110VAC 或 208-240 VAC,50/60Hz,1.5 KW
最高温度 1200°C(持续时间小于1小时)
连续工作温度 1100°C
升温速率 ≤ 20°C/分钟
加热区长度 8英寸(200mm)单温区
恒温区 2.3英寸(60mm),1000℃下温差±1℃
温度控制器 PID自动控制,30步可编程,固态继电器驱动
温度精度 ± 1°C
加热元件 钼掺杂铁铬铝合金
工艺管 高纯石英管;外径50mm × 内径44mm × 长度1000mm
样品座 氧化铝扁平样品座(长2英寸 × 宽1英寸),配K型热电偶
移动机构 磁性手动滑动机构,内外磁耦合传动
真空法兰 2英寸不锈钢法兰,带KF25接口、1/4英寸倒钩接头和1/4英寸穿通件
真空度 配标准机械泵可达10^-2 Torr
合规认证 CE认证,可应要求提供NRTL/CSA认证
尺寸与安全 内置过温保护和热电偶故障报警

为什么选择我们

选购这款热处理系统,可为您的实验室配备一款满足现代纳米技术和材料合成严苛要求的专业设备。内置移动机构的核心优势在于,样品平移过程中无需破坏真空,大幅提升实验通量,同时避免样品污染。我们的工程团队将热精度作为优先设计目标,采用NIST认证组件,确保您采集的数据准确且满足发表要求。

除技术参数外,这款管式炉还拥有出色的使用寿命。高品质石英管、掺钼合金加热元件与坚固不锈钢法兰的组合,确保系统经多年连续运行仍能保持性能。此外,真空与气路接口的模块化设计支持未来升级扩容,无论是添加多通道气体混合器还是先进的PC控制模块都可轻松实现。选择本设备,就是选择一位科研路上的合作伙伴,我们承诺提供卓越技术支持与及时响应的客户服务。

立即联系我们的技术销售团队,获取完整报价,或沟通定制化解决方案,满足您特定工艺需求。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

这款十区炉针对复杂热剖面分析优化,可在水平和垂直取向下实现精准1200℃控温。对于需要大尺寸温度梯度、并在1470mm加热长度系统上进行可靠气氛控制工艺的材料研发而言,是理想选择。

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)

这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统,旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀,适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。

1200°C高温分体式管式炉,配铰链式真空法兰及4英寸石英管,适用于实验室研究

1200°C高温分体式管式炉,配铰链式真空法兰及4英寸石英管,适用于实验室研究

这款1200°C分体式管式炉配备铰链式真空法兰和4英寸石英管,旨在简化样品装载流程。专为精密热处理设计,为先进材料科学和工业研发应用提供卓越的温度均匀性和真空性能。

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

这款 1200 °C 自动化管式炉具备精确的真空控制、高纯度石英处理能力以及远程集成功能,旨在加速材料合成,助力高通量 AI 研究及各类严苛工业材料科学与先进研发工作流中的自主实验室应用。

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

高性能1200°C立式石英管式炉,配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。

1200°C 高温开启式管式炉,可选配多种石英管尺寸及真空密封法兰,适用于材料科学研究

1200°C 高温开启式管式炉,可选配多种石英管尺寸及真空密封法兰,适用于材料科学研究

这款 1200°C 开启式管式炉配备可选石英管尺寸及精密 PID 控制系统,适用于气氛或真空处理,助力您的先进实验室研究。专为严苛的工业及研发环境设计,确保耐用性与高纯度材料合成需求。

1200°C 混合型马弗炉与管式炉(带双气氛控制石英管,用于材料研究)

1200°C 混合型马弗炉与管式炉(带双气氛控制石英管,用于材料研究)

这款高性能 1200°C 混合型炉配有 7.2L 马弗腔和双 2 英寸石英管,可进行多种真空或惰性气氛处理,助力您的材料研究。体验卓越的温度控制和出色的热效率,满足工业研发需求。

用于CVD研究和真空气氛热处理的高温1200℃开启式管式炉

用于CVD研究和真空气氛热处理的高温1200℃开启式管式炉

高性能1200℃开启式管式炉,专为精密CVD、气氛烧结和真空退火设计。配备先进的PID控制系统、节能的日本氧化铝纤维隔热材料,以及用于工业研发和先进材料实验室的快速冷却开启式设计。

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

这款最高温度1500°C的管式炉配备手动滑动法兰,可实现加速加热和冷却,助您实现快速热处理。专为材料科学研究设计,这套高精度系统提供卓越的真空性能和双控制器监控,满足严苛的实验室应用需求。

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

这款多位置管式炉提供 1100°C 精密加热,具备垂直和水平放置的灵活性。专为先进材料研究设计,配备 30 段 PID 控制器和高纯度纤维绝缘材料,确保卓越的热稳定性和可靠的工业实验室性能。

1200°C 最高温双滑动管式炉,配 50 mm CVD 管法兰

1200°C 最高温双滑动管式炉,配 50 mm CVD 管法兰

这款 1200°C 双滑动管式炉配备了专为高精度 CVD 工艺设计的 50mm 石英管法兰。通过滑动实现快速加热和冷却,加速工业研发进程,确保卓越的材料合成效果、一致的实验结果以及顶尖的薄膜沉积性能。

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

1500℃高温开启式管式炉,用于材料研究、真空及气氛热处理

这款1500℃高温开启式管式炉为先进材料研究和工业烧结应用提供精确的热处理方案,采用双层壳体结构、集成PID控制及真空不锈钢法兰,在严苛的实验室环境下表现可靠。

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

这款1500°C六温区开启式管式炉为专业实验室研究和高温CVD应用提供了卓越的热控性能。设备配备1800mm氧化铝管及精确的30段PID控制器,确保材料处理和退火结果的一致性。

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

这款多功能1100°C管式炉配备可编程PID控制器和高真空法兰,旨在优化您的实验室热处理流程。专为精密材料合成和工业研发设计,提供双向操作灵活性及高度的温度均匀性,满足严苛的应用需求。

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器,为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

这款1800°C高温管式炉配备1900级硅钼棒(MoSi2)加热元件和岛电(Shimaden)PID控制器,可实现精确的热处理。专为先进材料科学研究或工业研发实验室的CVD实验、真空退火和气氛烧结而设计。

带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉

带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉

这款1200°C混合马弗炉与管式炉为精密材料处理提供了多功能的二合一解决方案。它配备6x6x7英寸腔体及石英管选项,支持真空或大气环境下的研发工作,为高温实验室热处理设备提供了卓越的可靠性。

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

这款 1700°C 高温管式炉配备 5 英寸加热区和氧化铝管,适用于先进材料研究。可实现精确的气氛控制,并将真空度降至 50 mTorr,用于烧结、退火和化学气相沉积。

1200°C 高温马弗炉 19L 腔体,配备 50 段可编程控制器

1200°C 高温马弗炉 19L 腔体,配备 50 段可编程控制器

精密设计的 1200°C 马弗炉,配备 19 升腔体和 50 段可编程 PID 控制器。该高性能系统为全球材料科学、工业研发及复杂热处理应用提供卓越的温度均匀性和能源效率,现已面向全球采购。

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

这款专业级 1700°C 管式炉拥有 18 英寸加热区和高纯度氧化铝管,专为先进材料研究设计。该设备针对真空及受控气氛环境进行了优化,为严苛的工业实验室流程提供了卓越的热稳定性和可靠性。