单温区管式炉 5英寸石英管 36英寸加热区 真空法兰

管式炉

单温区管式炉 5英寸石英管 36英寸加热区 真空法兰

货号: TU-31

最高温度: 1200°C 加热区长度: 880 mm 管径: 130 mm (5") 外径
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 1

该高性能热处理系统专为需要大直径反应腔和长且均匀加热区的先进材料研究及工业热处理应用而设计。作为一种分体式单温区炉,该设备便于操作处理管,不仅能快速装卸样品,还简化了维护流程。其核心价值在于能够在高达 1200°C 的温度下保持高度稳定的热环境,使其成为半导体加工、冶金和陶瓷工程实验室及生产设施中不可或缺的工具。

该设备专门针对高纯度工艺进行了优化,包括真空退火、气相扩散和固态烧结。通过使用 5 英寸直径的熔融石英管,与标准实验室炉相比,该系统可容纳更大的基片或更多数量的小样品。它特别适用于处理 4 英寸晶圆,为电子工业中精细的氧化和掺杂工艺提供了必要的热均匀性和气氛控制。

可靠性是该装置设计的核心。系统采用工业级组件和重型双层钢外壳,能够在严苛的环境中连续运行。先进的风冷技术集成确保了即使在高温循环期间,外壳表面仍保持在安全触碰温度,从而保护了操作人员和周围的实验室基础设施。对于优先考虑技术精度和长期运行一致性的机构而言,该装置是一项稳健的投资。

主要特点

  • 精密温度管理:系统采用经 MET 认证的数字控制器,提供 30 个可编程段。这使得加热速率、冷却速率和保温时间能够得到精确控制,确保在复杂的加热循环中获得可重复的结果。
  • 大容量石英处理腔:该装置采用 130 毫米外径的熔融石英管,为大规模实验提供了宽敞的空间。高质量石英具有出色的抗热震性和化学惰性,适用于高纯度气氛控制。
  • 先进隔热材料:采用高纯度纤维氧化铝绝缘材料以最大化能源效率。这种高级耐火材料最大限度地减少了热量损失,使系统能够以更低的功耗达到并维持峰值温度。
  • 稳健的真空密封系统:设备包含一对配备双高温硅胶 O 型圈的 304 不锈钢真空法兰。该组件可确保气密性,配合分子泵使用时,真空度可达 10^-5 托。
  • 重型加热元件:炉体由掺钼的铁铬铝合金加热元件供电。这些元件专为长寿命和持续的热辐射而设计,即使在频繁的高温循环下也能保持稳定。
  • 集成安全与监控:内置 PID 自整定功能,结合超温保护和断偶报警,可实现安全、无人值守的运行。集成压力表可实时监控管内环境。
  • 分体式炉体工程:外壳的分体铰链设计允许炉体上半部分打开,从而可以直接接触加热区和石英管。此功能对于快速冷却或内部组件的精确放置至关重要。
  • 可扩展通信端口:配备 RS485 通信端口,可集成到实验室网络中进行远程监控和数据记录,支持现代工业 4.0 的数字可追溯性标准。
  • 高效外部冷却:带有主动风冷的双层钢外壳可将外表面温度保持在 60°C 以下,确保舒适的工作环境并保护内部电子设备免受热疲劳影响。
  • 可定制的处理环境:该装置通过法兰上的针阀支持各种进气和出气口,允许研究人员在加热过程中引入氮气、氩气或成型气等保护性或反应性气体。

应用领域

应用 描述 主要优势
半导体氧化 在高温受控氧气环境下,在 4 英寸硅片上生长氧化层。 高热均匀性确保整个晶圆表面氧化层厚度一致。
真空退火 通过在高真空环境中加热金属合金或玻璃组件来消除内部应力,防止氧化。 通过卓越的气密密封防止表面变色并保持材料纯度。
CVD 研究 作为石墨烯、碳纳米管或薄膜涂层化学气相沉积的反应腔。 5 英寸大管径允许更高的前驱气体流量稳定性和更大的基片处理能力。
陶瓷烧结 在高达 1100°C 的温度下将陶瓷粉末压块固结成致密、高强度的组件。 精确的 30 段编程可防止关键冷却阶段的热冲击和开裂。
扩散掺杂 通过气相或固源扩散将掺杂杂质引入半导体材料中。 分体式炉设计允许快速淬火或精确控制扩散过程的时间。
材料煅烧 原材料的热分解,以去除挥发性成分或引发相变。 纤维氧化铝绝缘材料为长时间煅烧循环提供了所需的热稳定性。
电池材料研发 在惰性气体气氛下合成和热处理正极或负极粉末。 集成的气体处理和压力监控确保了敏感电池化学品的安全处理。
气氛烧结 在氮气或氩气环境中对特种合金进行热处理,以获得特定的冶金性能。 可靠的进/出气阀和 SS304 法兰确保了纯净、无泄漏的气氛。

技术规格

规格类别 参数详情 (型号: TU-26)
加热区配置 单温区分体式炉设计
最高工作温度 1200°C (在惰性气氛下持续时间 < 5 小时)
连续工作温度 1100°C
加热区长度 880 毫米 (约 34.6 英寸)
恒温区 240 毫米 (±1°C)
加热速率 ≤ 20°C/分钟
加热元件 掺钼铁铬铝合金
标准处理管 熔融石英: 130 毫米外径 x 120 毫米内径 x 1400 毫米长
可选管径 提供 80 毫米和 100 毫米直径
温度控制 MET 认证 PID 控制器,30 个可编程段
温度精度 ± 1°C
热电偶 K 型
功率输出 7.0 KW
输入电压 AC 208-240V 单相, 50/60 Hz
真空度 10^-2 托 (机械泵); 高达 10^-5 托 (分子泵)
真空法兰 一对 SS304 不锈钢法兰,带双硅胶 O 型圈和针阀
外壳结构 双层钢板,带风冷 (表面温度 ≤ 60°C)
绝缘材料 高纯度纤维氧化铝,带耐火涂层
通信 RS485 端口 (可选 MTS02-Y 软件和笔记本电脑套装)
安全功能 超温保护、断偶报警、PID 自整定

为什么选择 TU-26

  • 久经考验的热稳定性:该系统旨在提供 240 毫米的高度一致的恒温区,确保您的样品在整个处理周期内经历均匀的热条件。
  • 优质的制造质量:从高纯度氧化铝绝缘材料到 304 不锈钢真空法兰,每个组件的选择都基于其承受高温工业研发严苛环境的能力。
  • 多功能集成:通过滑动法兰、先进的 Eurotherm 控制器(±0.1°C 精度)和专业真空泵套件等选项,该设备可定制以满足任何材料科学实验室的特定需求。
  • 安全第一的工程设计:双层钢外壳和先进的报警系统让您高枕无忧,允许在无需持续监督的情况下进行长时间处理,从而提高设施的运行效率。
  • 可扩展的工业应用:5 英寸大石英管与强劲功率输出的结合,使得该炉既适用于初步学术研究,也适用于小批量工业生产。

如需了解更多关于 TU-26 的信息,或针对您的特定热处理需求索取定制报价,请立即联系我们的技术销售团队。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

1700°C 高温氧化铝管式炉,配备 18 英寸加热区及真空密封法兰

这款专业级 1700°C 管式炉拥有 18 英寸加热区和高纯度氧化铝管,专为先进材料研究设计。该设备针对真空及受控气氛环境进行了优化,为严苛的工业实验室流程提供了卓越的热稳定性和可靠性。

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

1800°C 高温紧凑型真空管式炉,配有 60mm 外径氧化铝管及 Kanthal 二硅化钼 (MoSi2) 加热元件

这款 1800°C 高温紧凑型真空管式炉采用优质 Kanthal 加热元件和 60mm 外径氧化铝管。专为材料研究和烧结设计,可在真空或受控气氛条件下为实验室研发提供精密的热处理。

1200°C高温分体式管式炉,配铰链式真空法兰及4英寸石英管,适用于实验室研究

1200°C高温分体式管式炉,配铰链式真空法兰及4英寸石英管,适用于实验室研究

这款1200°C分体式管式炉配备铰链式真空法兰和4英寸石英管,旨在简化样品装载流程。专为精密热处理设计,为先进材料科学和工业研发应用提供卓越的温度均匀性和真空性能。

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

紧凑型开启式管式炉(集成真空系统及精密温度校准仪)

这款高性能紧凑型开启式管式炉集成了真空系统和精密温度校准仪,旨在提升材料研究水平。它能提供高达 1200°C 的卓越热均匀性,满足严苛的实验室应用和先进的工业热处理工艺需求,确保实验精准度。

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器,为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉

这款 1200 °C 自动化管式炉具备精确的真空控制、高纯度石英处理能力以及远程集成功能,旨在加速材料合成,助力高通量 AI 研究及各类严苛工业材料科学与先进研发工作流中的自主实验室应用。

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

1750°C 高温台式真空气氛管式炉,配备 Kanthal Super 1800 加热元件及 60mm 氧化铝工艺管

高性能 1750°C 真空管式炉,采用 Kanthal Super-1800 加热元件和高纯度氧化铝管。该系统是精密材料研究的理想选择,具有 ±1°C 的控温精度和 30 段可编程控制,适用于严苛的实验室热处理和气氛控制烧结。

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

1100°C管式炉,配备真空法兰及可编程温度控制器,适用于材料科学与工业热处理

这款多功能1100°C管式炉配备可编程PID控制器和高真空法兰,旨在优化您的实验室热处理流程。专为精密材料合成和工业研发设计,提供双向操作灵活性及高度的温度均匀性,满足严苛的应用需求。

1250℃ 对开式紧凑型管式炉,带8英寸加热区与可编程控制器

1250℃ 对开式紧凑型管式炉,带8英寸加热区与可编程控制器

这款1250℃对开式紧凑型管式炉配备精准30段可编程控制器与8英寸加热区,可实现高精度、高能效的热处理,适配要求严苛的实验室、工业研发环境与科学中试研究,助力优化您的先进材料研发工作。

带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉

带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉

这款1200°C混合马弗炉与管式炉为精密材料处理提供了多功能的二合一解决方案。它配备6x6x7英寸腔体及石英管选项,支持真空或大气环境下的研发工作,为高温实验室热处理设备提供了卓越的可靠性。

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

带集成涡轮泵系统和 8 英寸加热区的 1200°C 高真空紧凑型管式炉

这款 1200°C 高真空紧凑型管式炉配备集成涡轮泵系统,可达到 10^-5 torr。非常适用于材料科学研发,具有精确的 PID 控制、8 英寸加热区以及坚固的石英管结构,适合加工处理。

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

这款 1700°C 高温管式炉配备 5 英寸加热区和氧化铝管,适用于先进材料研究。可实现精确的气氛控制,并将真空度降至 50 mTorr,用于烧结、退火和化学气相沉积。

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

六温区开启式管式炉(带氧化铝管及真空法兰),适用于1500°C高温热处理及CVD工艺

这款1500°C六温区开启式管式炉为专业实验室研究和高温CVD应用提供了卓越的热控性能。设备配备1800mm氧化铝管及精确的30段PID控制器,确保材料处理和退火结果的一致性。

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

带氧化铝管和水冷法兰的1700C高温六温区分体式管式炉

专为材料研究和工业气相沉积应用而设计的精密1700C六温区分体式管式炉。该多功能系统提供独立的温区温度控制和可直接进行真空操作的法兰,满足稳定热处理和先进材料开发需求,确保卓越性能。

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

十区多取向实验室管式炉,用于1200℃高温梯度热处理

这款十区炉针对复杂热剖面分析优化,可在水平和垂直取向下实现精准1200℃控温。对于需要大尺寸温度梯度、并在1470mm加热长度系统上进行可靠气氛控制工艺的材料研发而言,是理想选择。

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

用于材料研究和 CVD 工艺的高温双温区真空管式炉

利用这款高精度双温区真空管式炉提升您的实验室能力。它专为先进材料研究和 CVD 工艺设计,具备独立温控、快速升温以及稳健的真空密封性能,可确保获得一致的工业级热处理结果。

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

1700°C 立式真空及气氛管式炉(配 80mm 刚玉管)

这款高精度立式管式炉可为材料合成提供高达 1700°C 的卓越热均匀性。它配备 80mm 刚玉管和先进的真空密封法兰,能为严苛的工业研发和专业热处理工艺提供稳定的气氛环境。

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

1100°C 多位置管式炉,适用于实验室材料研究与先进工业热处理

这款多位置管式炉提供 1100°C 精密加热,具备垂直和水平放置的灵活性。专为先进材料研究设计,配备 30 段 PID 控制器和高纯度纤维绝缘材料,确保卓越的热稳定性和可靠的工业实验室性能。

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

1200°C 5英寸立式石英管式炉(带不锈钢真空法兰)

高性能1200°C立式石英管式炉,配备5英寸直径加热腔和不锈钢真空法兰。精密30段PID控制确保了材料科学研发、CVD及受控气氛下特殊淬火应用中热处理的准确性。

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉

为1200C高温处理精密设计的三温区分体式管式炉。采用先进PID控制,适用于材料科学研发中的气氛和真空应用,提供卓越的热均匀性以及在工业实验室和研究机构环境中的可靠性能。