1100℃三温区旋转管式炉,带自动粉末进料系统,适用于大规模CVD涂层

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1100℃三温区旋转管式炉,带自动粉末进料系统,适用于大规模CVD涂层

货号: TU-X13

最高工作温度: 1100°C 处理容量: 30升粉末/内径15英寸管 加热配置: 三个独立温区(总长度1000毫米)
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产品概述

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这种大容量旋转热处理系统代表了材料合成和大规模粉末处理领域的重大进步。该设备主要为无机化合物合成和专门的化学气相沉积(CVD)工艺设计,为寻求在不影响材料质量的前提下扩大生产规模的研究人员和制造商提供了稳健的解决方案。该装置配备了一个直径达15英寸的超大内径石英管,单批次处理量可达30升,是开发高能电池材料和先进陶瓷的理想选择。

在工业研发环境中,在大体积范围内保持一致的热环境至关重要。该系统采用三温区加热配置,以确保极其稳定的等温区域,或根据特定反应动力学的要求创建精确的温度梯度。集成式齿轮驱动旋转机构确保粉末进行“混合”式处理,有效消除了静态处理环境中常见的热滞后和浓度梯度。无论是用于中试规模生产还是严苛的材料科学研究,该装置都能提供高要求工业应用所需的可靠性和性能。

该设备的设计重点在于耐用性和运行效率,采用可开启式炉体,具备电动开合功能,便于快速冷却和轻松进入处理腔室。采用高纯氧化铝纤维隔热材料和碳化硅(SiC)加热元件,确保了在连续高温运行下的能源效率和长期稳定性。通过将自动粉末输送与精确的气氛控制相结合,该系统为生产正负极粉末、硅纳米层嵌入石墨以及其他专门的纳米材料提供了完整的端到端解决方案。

核心特点

  • 三温区精确加热: 炉体配备三个独立控制的加热区,每个加热区长度为330mm,总加热长度为1000mm。这种配置允许创建±5°C公差的600mm恒温区,确保管内所有材料的热暴露均匀。
  • 大规模处理能力: 系统采用外径400mm、内径15英寸的高纯石英管,每批次可处理多达30升粉末,填补了实验室研究与工业生产之间的空白。
  • 集成粉末混合机制: 齿轮驱动的炉管旋转(3至10 RPM可调)与焊接在石英管内部的搅拌叶片协同工作。这种机械搅拌确保粉末烧结或涂层充分且均匀,防止团聚并提高反应效率。
  • 自动化粉末管理: 该装置包括专门的自动粉末进料和接收系统。利用真空压差,进料器在受控条件下将原材料送入处理管,而电动倾斜机构(0-15°)则有助于高效收集处理后的粉末。
  • 先进的气氛完整性: 旋转法兰上采用磁流体密封,保证法兰前端在炉管旋转时保持静止。这确保了在受控气氛或真空下处理时的气密性,这对于敏感的CVD应用至关重要。
  • 可开启式炉体结构: 炉体的电动开合功能便于维护加热元件和石英管。这种设计还实现了更快的冷却速度,显著缩短了高吞吐量环境中的循环时间。
  • 卓越的隔热性能: 高纯氧化铝纤维隔热结构旨在实现最大程度的节能,最大限度地减少向外部的热损失,即使在长时间连续运行期间也能保持稳定的内部温度分布。
  • 坚固的加热元件: 采用碳化硅(SiC)加热元件,具有优异的抗热震性和抗化学降解性,确保易于维修和更换,同时在高达1100°C的温度下保持一致的性能。

应用领域

应用 描述 核心优势
电池电极生产 用于高能量密度锂离子电池的正负极粉末的可扩展合成。 通过均匀涂层提高电化学性能。
硅纳米层嵌入 在石墨上进行硅纳米层的CVD涂层,用于先进的电池存储解决方案。 提高下一代能源存储的循环寿命和容量。
无机化合物合成 无机前驱体的大规模热处理,以制造高纯度粉末。 在大批量生产中具有卓越的化学均匀性和相纯度。
氮掺杂工艺 利用三温区热场精确控制碳质材料和纳米管中的掺杂比例。 掺杂纳米结构中一致的形貌和结晶度。
先进陶瓷烧结 陶瓷粉末的均匀烧结,配合机械搅拌防止颗粒粘结。 控制最终陶瓷产品的晶粒生长并实现高密度。
纳米材料CVD 在流化型环境中,在颗粒基底上进行各种涂层的化学气相沉积。 均匀的层厚和高前驱体利用效率。
中试研发 填补从小规模实验室样品到公斤级生产之间的空白,用于材料验证。 为工业规模扩大和工艺优化提供可靠数据。

技术规格

参数 规格详情 (型号: TU-X13)
型号 TU-X13
最高温度 1100°C(持续时间 < 30 分钟)
连续工作温度 400°C – 1000°C
加热温区 三个独立温区(每个330mm;总加热长度1000mm)
等温区 600mm中心区域,精度±5°C(当温区设置相同时)
石英管尺寸 外径400mm x 内径390mm (15" ID) x 长度1800mm
最大粉末装载量 约30升
炉管转速 3 - 10 RPM(通过齿轮驱动无级调速)
炉体倾角 0 - 15°(通过电动马达调节)
升/降温速率 最大 10°C / 分钟
电压与功率 208 - 240V AC,三相,50/60 Hz;最大 45KW
温度控制 三个30段可编程PID数字控制器
通信 内置RS485端口(可选配MTS-02 PC控制模块)
密封机制 带磁流体旋转密封的快接法兰
内部特征 焊接搅拌叶片和氧化铝陶瓷泡沫块
进料系统 自动真空驱动粉末输送系统
气体混合(选配) 带质量流量控制器(MFC)的4通道供气系统
合规性 CE认证(可根据要求提供NRTL认证)

为什么选择三温区旋转管式炉

  • 具备工业规模生产能力: 该系统专门设计用于将工艺从实验室工作台转移到中试生产,提供巨大的15英寸内径和30L容量,极少有竞争对手能与之匹配。
  • 无比的热精度: 三温区配置结合先进的PID控制,确保每一克材料都经历相同的热历程,这是高性能电池材料的必要条件。
  • 集成工艺自动化: 通过将粉末进料、搅拌、旋转和倾斜整合到一个自动化的工作流程中,该装置显著降低了复杂CVD工艺中的劳动力成本和人为错误。
  • 优质的制造品质: 从磁流体密封到SiC加热元件和氧化铝纤维隔热材料,每个组件的选择都考虑到了其承受连续工业运行严苛要求的能力。
  • 可定制的气体环境: 配合可选的多通道气体混合系统,该炉子可以定制处理各种反应性和惰性气氛,用于复杂的材料合成。

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