产品概述
该高精度热处理系统专为高强度磁场环境下的材料退火应用而设计。设备采用磁导率几乎为零的特种建筑材料，确保热处理可以在超导高场磁体内部进行，而不会扭曲磁通量或因磁吸力产生机械应力。对于专注于量子材料、超导性和先进磁学的研究人员来说，该装置是一个关键工具。
该系统具有复杂的三层架构设计，集成了加热元件核心、专用样品腔和真空/气体绝缘冷却夹套。这种配置允许在高温下运行，同时确保炉体外表面保持在安全水平，防止对周围超导磁体组件产生热干扰。对于需要在极端电磁条件下进行精确热控制的实验室和工业研发设施而言，这是一种必不可少的解决方案。
该装置专为长期可靠性和一致性而打造，其结构组件采用高级 SS316L 不锈钢，并配备先进的碳化硅 (SiC) 加热元件。这些选择体现了在严苛的真空和高温循环下对耐用性和性能的承诺。采购团队可以信赖该设备，它能在标准管式炉因磁干扰或热泄漏而失效的敏感实验设置中提供可重复的结果。
主要特点
- 非磁性 SS316L 结构：整个炉体由高级 SS316L 不锈钢制成，因其磁导率可忽略不计而被选用。这使得设备可以直接放置在高场磁体中，而不会导致磁场畸变或产生位移力。
- 三层热管理：系统采用独特的三层管结构。内部 SiC 灯丝提供热源，中间石英层容纳样品，外部气体冷却夹套将外壁温度保持在 30ºC 以下，以保护外部传感器和超导磁体。
- 高效碳化硅加热：中心螺旋式 SiC 灯丝在核心区域提供快速且均匀的加热。选择这种加热技术是因为其在高温下的稳定性以及在真空夹套环境下的有效运行能力。
- 精密 PID 温度控制：先进的自动 PID 控制器具有 30 个可编程段，允许复杂的升温和保温曲线。自动调谐功能和 ±1ºC 的精度确保了精细的材料转变在严格控制的条件下进行。
- 集成安全保护：该装置包括针对热电偶故障和过热的内置保护措施。对于设备完整性和样品安全性至关重要的长时间退火过程，这些功能至关重要。
- 卓越的真空完整性：该设备设计用于与高真空系统连接，配合分子泵使用时可达到 10^-5 Torr 的真空度。真空密封法兰确保了敏感材料处理过程中的无污染环境。
- 主动冷却夹套：专门设计的 90mm 外径外层充当气体冷却热屏障。这种设计防止热量辐射到磁体孔中，这对于保持超导系统的低温稳定性至关重要。
- 灵活的气体处理：系统标配倒钩软管接头，可升级为 KF25 适配器或 Swagelok 接头，以适应高纯度气体输送或更高吞吐量的真空需求。
应用领域
| 应用 | 描述 | 主要优势 |
|---|---|---|
| 超导磁体研究 | 直接在高场磁体孔内对样品进行退火，用于原位性能研究。 | 与超导磁场零磁干扰。 |
| 量子材料合成 | 对表现出量子霍尔效应或拓扑绝缘体特性的材料进行热处理。 | 用于晶体生长和相变的精确升温控制。 |
| 磁性半导体掺杂 | 在受控气氛和高场下处理稀磁半导体。 | 高真空完整性防止样品氧化或污染。 |
| 核磁共振 (NMR) 样品制备 | 为高分辨率核磁共振波谱分析匀化样品。 | 均匀加热区确保整个体积内的样品一致性。 |
| 低温组件测试 | 为拟在超低温环境下使用的组件进行去应力热循环。 | 低外壁温度保护周围的低温硬件。 |
| 薄膜退火 | 在真空或惰性气体下对薄膜进行沉积后热处理。 | 受控流速使石英管受到的热冲击最小化。 |
技术规格
| 参数 | TU-C26 规格 |
|---|---|
| 型号标识 | TU-C26 |
| 炉体结构 | 三层结构：加热元件层、SiC 护套层、样品层和外部气体冷却夹套 |
| 核心加热元件 | 中心螺旋型 SiC 灯丝（25mm 外径 x 20mm 内径 x 400mm 长） |
| 中间护套 | 石英管（30mm 内径 x 36mm 外径 x 622mm 长） |
| 样品层 | 36mm 内径 x 58mm 外径 x 622mm 长，带真空密封法兰 |
| 冷却层 | 58mm 内径 x 90mm 外径 x 622mm 长（设计用于保持外壁 < 30ºC） |
| 电源 | 208 - 240 VAC，单相，2000W |
| 最高温度 | 300 °C（持续时间 < 1 小时） |
| 连续工作温度 | 250 °C |
| 最大升温速率 | 10 °C / 分钟 |
| 加热区长度 | 1000 mm |
| 恒温区 | 700 mm（在 +/- 2 °C 以内） |
| 温度控制器 | PID 自动控制，30 个可编程段，自动调谐功能 |
| 温度精度 | +/- 1 °C |
| 热电偶类型 | K 型 |
| 真空能力 | 50 mtorr（机械泵）；10^-5 torr（分子泵） |
| 法兰配置 | 包括用于中心管的 1" 法兰和专用三层法兰组 |
| 标准接口 | 3/8" 倒钩软管接头（可升级为 KF25 或 Swagelok） |
| 合规性 | CE 认证；所有电气部件均通过 UL/MET/CSA 认证 |
为什么选择 TU-C26
选择这款专业管式炉意味着投资于专门针对高磁场研究利基需求而定制的解决方案。与使用磁性合金或缺乏足够的隔热层以适应受限磁体孔的标准炉不同，该系统从头开始采用 SS316L 和三层夹套构建。这确保了您的研究环境保持稳定，磁体保持低温，并且您的数据不会受到杂散磁场影响的污染。
该装置的工程卓越性体现在其热精度和强大的真空性能上。凭借 700mm 的恒温区和达到高真空水平的能力，它为最敏感的材料退火过程提供了一个高度稳定的平台。UL 认证组件的集成和 CE 合规性强调了我们对实验室设备制造中安全性和国际标准的承诺。
此外，我们提供定制管尺寸和专用接口的能力，使该炉能够以最小的修改集成到现有的实验设置中。我们提供全面的技术支持和文档，以确保无缝安装和操作。如需详细报价或讨论您的特定高场研究需求，请立即联系我们的技术销售团队。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
兼容高磁场的1100°C材料研究管式炉，具备受控气氛与水冷非磁性外壳
这款1100°C管式炉专为超高磁场下的精确热处理而设计，配备双螺旋加热元件和非磁性SS316水冷外壳，适用于惰性气氛下的先进材料性能研究及高性能实验室应用。
800°C 高磁场兼容管式炉 100mm 内径 190mm 外径 惰性气氛研究系统
高性能 800°C 管式炉，专为高磁场环境（>10T）优化。采用双螺旋绕组元件、SS316 非磁性结构以及 ±0.1°C 精密控制，适用于实验室环境下强磁场中的先进材料研究。
1100°C 多位置管式炉，适用于实验室材料研究与先进工业热处理
这款多位置管式炉提供 1100°C 精密加热，具备垂直和水平放置的灵活性。专为先进材料研究设计，配备 30 段 PID 控制器和高纯度纤维绝缘材料，确保卓越的热稳定性和可靠的工业实验室性能。
用于直接蒸发沉积和快速热处理的内置磁性样品滑动机构1200℃管式炉
这款专业型1200℃管式炉配备手动磁性样品滑动机构，专门为直接蒸发沉积和快速热处理工艺设计，能够实现精确控温，为要求严苛的材料科学研究与工业应用提供稳定均匀的材料生长条件。
立式可开启管式炉 0-1700℃高温CVD与真空热处理实验室系统
这款1700℃立式可开启管式炉专为先进材料研究打造，具备精准三区域加热与快速淬火能力。非常适用于CVD工艺与真空退火处理，可在要求严苛的研发环境中提供工业级可靠性、氛围控制能力与模块化灵活性。
配备 3 英寸石英管的高通量 1200C 四通道管式炉，适用于多区域退火和材料研究
借助我们先进的 1200C 四通道管式炉加速材料研究，该设备为每根 3 英寸石英管提供独立控制。这套高通量系统为工业和学术研发实验室中的退火和相图研究提供无与伦比的效率。
十区多取向实验室管式炉，用于1200℃高温梯度热处理
这款十区炉针对复杂热剖面分析优化，可在水平和垂直取向下实现精准1200℃控温。对于需要大尺寸温度梯度、并在1470mm加热长度系统上进行可靠气氛控制工艺的材料研发而言，是理想选择。
用于自主材料研究与先进实验室研发的高温自动化 5 英寸管式炉
这款 1200 °C 自动化管式炉具备精确的真空控制、高纯度石英处理能力以及远程集成功能，旨在加速材料合成，助力高通量 AI 研究及各类严苛工业材料科学与先进研发工作流中的自主实验室应用。
1200℃高通量多工位管式炉，配50mm石英管，用于退火及材料相图研究
这款1200℃六通道管式炉专为合金和陶瓷的高通量同步热处理而设计，采用独立温控和真空密封石英管，助力先进材料科学研究和相图研究，实现高效实验。
高温1700℃四通道管式炉 1英寸氧化铝管 高通量退火专用
这款四通道1700℃管式炉配备独立控温系统与一体式氧化铝管，可实现高通量退火与热处理，结构紧凑适配实验室场景，专为材料快速开发与工业合金合成优化，将为您的材料研究带来革命性变革。
1000°C 微型管式炉，配有 20mm 石英管及真空法兰，适用于材料科学研究及受控气氛下的小型样品处理
这款 1000°C 微型管式炉配备 20mm 石英管和真空法兰，助力您的实验室研究。该系统专为小型样品处理和 CVD 应用优化，提供精确的 PID 控制，并支持灵活的垂直或水平安装配置。
1500°C高温管式炉，带滑动法兰和50mm外径，适用于快速热处理，加热冷却迅速
这款最高温度1500°C的管式炉配备手动滑动法兰，可实现加速加热和冷却，助您实现快速热处理。专为材料科学研究设计，这套高精度系统提供卓越的真空性能和双控制器监控，满足严苛的实验室应用需求。
用于材料科学和工业热处理的实验室倾斜式回转管式炉
高性能倾斜式回转管式炉，专为精密实验室热处理而设计。配备先进的PID控制、可调倾角和卓越的热均匀性，这些系统可优化金属回收和材料合成，满足严苛的工业研究和研发应用需求。
1700°C 高温氧化铝管式炉，配备 18 英寸加热区及真空密封法兰
这款专业级 1700°C 管式炉拥有 18 英寸加热区和高纯度氧化铝管，专为先进材料研究设计。该设备针对真空及受控气氛环境进行了优化，为严苛的工业实验室流程提供了卓越的热稳定性和可靠性。
带真空功能和PID控制的高温混合马弗炉与管式炉
这款1200°C混合马弗炉与管式炉为精密材料处理提供了多功能的二合一解决方案。它配备6x6x7英寸腔体及石英管选项，支持真空或大气环境下的研发工作，为高温实验室热处理设备提供了卓越的可靠性。
1100°C管式炉，配备真空法兰及可编程温度控制器，适用于材料科学与工业热处理
这款多功能1100°C管式炉配备可编程PID控制器和高真空法兰，旨在优化您的实验室热处理流程。专为精密材料合成和工业研发设计，提供双向操作灵活性及高度的温度均匀性，满足严苛的应用需求。
1200°C 最高温三温区管式炉，最大外径6英寸（含管及法兰）
这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统，旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀，适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。
单温区管式炉 5英寸石英管 36英寸加热区 真空法兰
专业级 1200°C 单温区管式炉，配备 5 英寸石英管和 36 英寸加热长度。是先进材料科学研究和工业研发应用中进行高纯度真空退火、扩散和烧结的理想选择。
用于 DIY 管式反应器的 1100°C 立式实验室炉，配备 PID 温度控制器
这款 1100°C 立式炉专为定制 DIY 管式反应器设计，配备先进的 PID 控制和 2 英寸直径容量，助您最大化研究效率。该高精度热系统可确保材料科学和工业研发获得稳定、可靠的结果。
1700°C高温管式炉，配4英寸外径氧化铝管及真空密封法兰
高性能1700°C管式炉，配备4英寸外径氧化铝管和精密硅钼棒（MoSi2）加热元件。适用于材料研究、化学烧结及真空热处理，具备先进的PID控制和强大的气氛密封能力，是工业研发的理想选择。