产品概述




这款高温立式处理系统为专注于粉末球化和形貌优化的材料科学家及工业研究人员提供了一套精密设计的解决方案。通过将三温区炉与可调速振动送料器及高效水冷收集机构相结合,设备可在受控气氛或真空条件下连续处理细粉末。它专为满足现代材料合成的严格要求而设计,在这一领域,颗粒形状的一致性对高科技材料的性能至关重要。
该设备主要用于先进磁性材料、增材制造用金属粉末以及高纯陶瓷的开发,可提供最高达1700°C的多用途热处理平台。立式结构利用重力作为动态驱动力,使粉末在下落过程中依次通过精确控制的热梯度。这一运动轨迹对于通过表面张力驱动的重塑实现均匀球化至关重要,使该系统成为寻求专业级结果的研发实验室和工业中试线的核心设备。
设备采用工业级部件和重型双层壳体框架制造,即使在严苛条件下也能确保长期可靠性和可重复性能。空气冷却系统可保护内部组件,并在长时间高温循环中保持安全的外壳温度。用户可依赖这一稳健的热系统来执行关键工艺,因为在材料科学和工业冶金应用中,温度稳定性与机械耐久性对运行成功至关重要。
主要特点
- 独立三温区热控制: 加热腔体分为三个独立区段,每段长度为400mm,可使操作者建立特定的温度梯度,或形成较长且均匀的等温区,以满足复杂的粉末处理需求。
- 精密振动送料机构: 配备5L不锈钢储料仓,可调速送料器确保粉末材料以每分钟20ml至90ml的速度稳定、无结块地进入炉管。
- 快速水冷淬冷系统: 位于立式管底部的专用收集罐可实现即时热阻断,保持高温飞行阶段形成的颗粒球形形貌。
- 先进的30段PID调节: 控制系统采用复杂的比例-积分-微分算法,提供30个可编程分段,实现精确的升温、保温和冷却循环,将热控制精度保持在±1°C以内。
- 高性能气氛与真空兼容性: 配备KF25真空法兰和密封腔体设计,系统支持在惰性气氛或高真空条件下烧结(可选分子泵可达10-4 Torr),以防止敏感材料氧化。
- 工业级B型热电偶: 高纯度B型传感器可为高温运行提供准确反馈,确保1600°C的连续工作温度以最高水平的稳定性和灵敏度被监测。
- 增强的安全与冷却架构: 双层壳体结构集成了风扇辅助空气冷却系统,可降低外壳温度;同时内置超温和热电偶故障报警,保护硬件和环境。
- 可扩展数字通信: 设备配备标准DB9电脑通讯端口,支持可选的基于Labview的软件集成,用于配方管理、数据记录以及通过台式机或笔记本界面进行远程监控。
应用领域
| 应用 | 描述 | 主要优势 |
|---|---|---|
| 增材制造 | 将不规则金属粉末球化,用于SLM、EBM及其他3D打印技术。 | 提升粉末流动性和堆积密度,从而提高零件质量。 |
| 磁性材料 | 对稀土和磁性合金粉末进行热处理和状态调控。 | 通过受控再结晶和形貌优化改善磁性能。 |
| 电池研究 | 处理正负极前驱体,以优化颗粒尺寸和形状。 | 增强比表面积控制,并改善电解液相互作用。 |
| 航空航天涂层 | 生产均匀的球形陶瓷和合金粉末,用于热喷涂和粘结层应用。 | 涂层厚度更一致,喷涂过程中喷嘴磨损更小。 |
| 催化剂合成 | 为化工和石化行业反应器制备球形载体材料。 | 降低固定床反应器中的压降,并提高表面反应活性。 |
| 耐火材料 | 对先进耐火颗粒进行高温熔融和成形,用于工业隔热。 | 最终产品具有卓越的热震稳定性和机械耐久性。 |
| 固体氧化物燃料电池 | 合成用于SOFC电解质和电极的特种陶瓷粉末。 | 优化微观结构,提升离子电导率和结构完整性。 |
| 高纯冶金 | 对高纯金属颗粒进行球化和净化,用于特种冶金研究。 | 去除挥发性杂质,并形成高密度晶体结构。 |
技术规格
| 参数组 | 规格详情 | 数值 / 测量 |
|---|---|---|
| 型号标识 | 产品编号 | TU-C21 |
| 电源管理 | 电源 | 三相交流380V,50/60Hz |
| 最大功率 | 最大30KW | |
| 电路保护 | 需配63A空气断路器 | |
| 温度性能 | 最高温度 | 1700°C |
| 连续工作温度 | 1600°C | |
| 温度控制精度 | ±1°C | |
| 热电偶类型 | B型 | |
| 升温速率(≤1400°C) | ≤ 10°C / min | |
| 升温速率(1400-1600°C) | ≤ 5°C / min | |
| 加热配置 | 加热区 | 三温区(400mm + 400mm + 400mm) |
| 总热区长度 | 1200mm | |
| 管尺寸 | φ 60 mm x 1800 mm | |
| 送料系统 | 腔体容积 | 5L(不锈钢) |
| 送料速度 | 20ml 至 90ml / min | |
| 进料样品容量 | 直径 ≤ 5mm | |
| 真空与收集 | 真空度(机械) | $10^{-2}$ Torr |
| 真空度(分子泵) | $10^{-4}$ Torr | |
| 真空接口 | KF25 | |
| 收集罐 | 水冷,带30mm观察窗 | |
| 控制器接口 | 编程 | 30段可编程PID |
| 安全报警 | 超温和热电偶故障 | |
| 连接性 | DB9通讯端口 | |
| 合规性 | 标准认证 | CE认证;可提供NRTL(UL61010)或CSA |
为什么选择这套球化系统
对于任何从事先进粉末冶金的机构而言,选择这套立式热处理系统都意味着加工能力的显著提升。高温三温区设计与集成振动送料器的独特组合,使其能够实现水平炉无法比拟的工艺控制水平。通过优化粉末在不同热阶段中的下落曲线,研究人员可以获得近乎完美的球形形貌,这对于先进材料添加剂的流动性和性能至关重要。
这款设备在每个组件上都体现了卓越工程设计。从确保高温精确管理的B型热电偶,到防止颗粒在出料时团聚的水冷收集罐,整个系统都旨在实现高产量、高质量的生产。坚固的机械结构与优质加热元件的使用,确保该设备即使在最严苛的工业循环中也能持续运行,为全年科研和生产任务提供可靠平台。
除了原始性能之外,安全性与认证也是这款炉体设计的核心。CE认证架构以及可提供的NRTL或CSA合规性,意味着该系统可无缝集成到世界一流实验室中,而不会在本地安全标准上做出任何妥协。可定制的气氛环境——从保护性气体流到高真空水平——进一步确保这款炉体能够随着您的研究需求共同成长,满足从简单氧化物到对氧敏感的稀土合金等各种材料的处理需求。
该系统不仅仅是一台炉子;它是一套完整的粉末处理解决方案,旨在实现长寿命、精确性和高效率。无论您是在扩展中试生产线,还是在开展材料科学基础研究,这套设备都能提供实现突破性发现所需的一致性和可靠性。
请立即联系我们的技术销售团队,获取报价,或讨论专为您的实验室粉末处理需求量身定制的配置方案。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!
相关产品
1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结
该1700℃立式管式炉系统优化了电池电极和3D打印的粉末球化工艺。该设备配备自动进料器和双温区控制,确保在真空或受控气氛下进行高纯度处理,适用于卓越的工业材料研究应用。
三温区加热分体式立式管式炉 1700 高温真空气氛热处理系统
面向工业研发和材料科学应用的先进 1700°C 三温区加热分体式立式管式炉。该高精度系统具备独立温控、高真空能力以及高效节能隔热,可实现稳定的高温处理和快速样品淬冷结果。
大型立式三温区管式炉,配备8英寸或11英寸石英管及高真空法兰,最高温度1200°C
我们设计的高容量立式三温区炉提供独立的热控制,并兼容大型11英寸石英管,可在严苛的实验室环境中,为关键的工业退火、烧结研究和先进材料科学开发提供卓越的均匀性和增强的真空完整性。
高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管
这款高性能三温区开启式管式炉配备 35.4 英寸加热区和 8 英寸直径炉管,适用于先进的热处理工艺。通过独立的温区管理,可在真空或气体环境下实现 1200℃ 的峰值温度,并提供卓越的温度均匀性。
用于先进材料科学烧结与化学气相沉积应用的高温三温区管式炉
这款精密三温区管式炉可优化热处理工艺,最高温度达1700℃,配备独立PID控制,实现优异的温度均匀性,是先进研究、工业研发实验室或大规模生产设施中CVD真空退火与材料烧结的理想选择
用于材料研究和工业热处理的1700℃高温三温区管式炉(配备外径50mm/60mm/80mm氧化铝管)
这款1700℃高性能三温区管式炉配备精密氧化铝管与独立加热控温系统,专为先进材料研发设计,在化学气相沉积和复杂气氛控制工业热处理工艺中,可实现出色的温度均匀性与稳定性。
1700°C 高温三温区管式炉(配氧化铝管及水冷法兰)
这款先进的高温三温区管式炉提供精确的 1700°C 热处理及气氛控制。该系统是半导体研究、先进冶金和陶瓷烧结的理想选择,通过独立的 PID 温度控制器提供卓越的温度均匀性。
1100°C 三温区管式炉,配有 8.5 至 11 英寸外径石英管及真空法兰,适用于大型晶圆加工
精密 1100°C 三温区管式炉,配备超大 8.5 至 11 英寸外径石英管及气密性法兰。专为大规模晶圆加工和先进材料研究而设计,具有卓越的热均匀性和高真空兼容性,适用于工业研发项目及生产。
1200°C 最高温三温区管式炉,最大外径6英寸(含管及法兰)
这款1200°C三温区管式炉配备6英寸外径处理能力及先进触摸屏控制系统,旨在优化热处理工艺。该高精度系统可确保温度分布均匀,适用于先进材料研究、半导体退火及工业热处理应用。
三温区分体式管式炉,36英寸加热长度,高温1200C,带真空法兰的材料研究炉
为1200C高温处理精密设计的三温区分体式管式炉。采用先进PID控制,适用于材料科学研发中的气氛和真空应用,提供卓越的热均匀性以及在工业实验室和研究机构环境中的可靠性能。
24英寸加热长度三温区管式炉(带铰链式法兰石英管系统)
这款专业的三温区管式炉具有24英寸的加热长度和铰链式法兰,便于高效装载样品。针对1200°C工艺进行了优化,可为先进的工业材料研究提供精确的温度均匀性和真空兼容性。
三温区快速加热炉 1500°C 实验室高精度热处理系统
这款精密设计的三温区快速加热炉可为材料科学研发提供 1500°C 的高温性能。系统采用先进的硅碳棒和计算机连接功能,确保了工业实验室热处理的均匀性及长期的运行稳定性。
高温1500°C三温区开启式管式炉(配80mm刚玉管及真空法兰)
这款精心设计的1500°C三温区开启式管式炉配备80mm刚玉管和精密PID控制系统。它非常适合需要卓越温度均匀性和高真空稳定性的先进材料研究、CVD工艺及工业热处理。
用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉
利用这款三温区旋转管式炉提升您的热处理工艺。该设备采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件,支持0-40度倾斜角,为工业研发部门在真空或受控气氛条件下进行粉末烧结和高纯材料研究提供了卓越的温度均匀性。
带真空法兰三温区氧化铝管式炉 高温1700℃热梯度CVD系统
这款先进的三温区氧化铝管式炉可提供1700℃峰值温度与精准真空控制。专为材料科学研发设计,可实现复杂热梯度与CVD工艺,兼具出色的可靠性、稳定性与高纯度气氛控制能力,满足严苛实验室应用需求。
带可选石英管和真空法兰系统的24英寸三温区分体管式炉,适用于高温材料合成
采用这款高端24英寸三温区分体管式炉,加速您的材料研究。它具备独立温控、兼容石英管以及真空密封法兰,可在高达1200°C的条件下提供精确热处理,满足严苛的实验室和工业研发应用需求。
1200°C 三温区可开启式管式炉,带18英寸加热长度和真空法兰
使用这款1200°C三温区可开启式管式炉优化热处理工艺。其具备18英寸加热长度和精确的PID控制,为全球实验室设施中的先进材料研究、退火、烧结和专业工业研发应用提供卓越的温度均匀性。
1200C 三温区分体式立式管式炉 4英寸石英管 不锈钢真空法兰
这款1200C三温区分体式立式管式炉配备4英寸石英管和不锈钢真空法兰,适用于高精度热处理。非常适合材料淬火和合成,这套坚固的系统可确保均匀加热,并便于快速装样。
大型三温区旋转管式炉,用于高均匀度材料烧结
使用我们的大型三温区旋转管式炉实现精确的热处理。该系统采用瑞典康泰尔(Kanthal)A1加热元件和可变旋转功能,确保为所有先进材料科学和高端工业研发提供均匀的烧结环境和气氛控制。
用于CVD和材料烧结的三温区高温真空管式炉
这款高性能三温区管式炉提供独立的温区控制,可实现精确的热梯度。专为CVD和真空退火设计,具有卓越的温度均匀性、先进的PID编程功能以及坚固的真空密封性能,适用于工业研发。