超快热压炉 2900°C 最高温度 200K/秒加热速率 真空气氛快速处理系统

RTP 炉

超快热压炉 2900°C 最高温度 200K/秒加热速率 真空气氛快速处理系统

货号: TU-RT18

最高工作温度: 2900°C 加热速率: ≤ 200 °C / 秒 真空度: 10^-5 Torr (带涡轮分子泵)
品质保证 Fast Delivery Global Support
获取报价

运输: 联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

产品概述

产品图片 2

这款高性能超快热压系统代表了快速热处理技术的巅峰之作,专为需要极端升温速率的高温研究环境而设计。设备最高可达 2900°C,升温速率超过每秒 200°C,可为在严苛过热条件下研究材料特性提供专用平台。通过将高真空气氛控制与集成机械加压功能相结合,该系统使研究人员能够模拟极端工业环境,并合成需要快速凝固或非平衡加工条件的新材料。

该设备的主要用途涵盖先进材料科学、冶金和半导体研究。它是高通量材料发现的重要工具,可在不同压力和热程序下对多个样品进行快速测试。除作为热压单元的核心功能外,该系统灵活的架构还可配置为高速退火炉,或改装为近间距升华(CSS)薄膜镀膜机。这种适应性确保该设备在专注于薄膜太阳能电池、先进陶瓷和高熵合金的多学科实验室中始终是核心资产。

该系统采用工业级组件和坚固的石英-钢结构,专为在严苛研发环境中长期稳定运行而设计。高电流直流供电与精密加工的钨或石墨加热元件相结合,确保在强热循环下仍具备可重复的性能。采购团队和实验室管理人员可以依赖其卓越的制造质量、合规的安全标准,以及在现代材料开发竞争领域中生成可靠、可发表数据所需的精确度。

主要特点

  • 极端升温速率:该系统的升温速率最高可达每秒 200°C,使研究人员能够探索常规实验室炉无法达到的亚稳相和快速热动力学过程。
  • 高温性能:可在 2900°C 的峰值温度下保持稳定运行,适用于超高温陶瓷、难熔金属和先进碳基材料的加工。
  • 精密气氛控制:配备高纯度 6 英寸石英管和不锈钢法兰,真空腔体在机械泵条件下可维持 10^-2 torr 的真空度,接入涡轮分子泵系统时可达到 10^-5 torr。
  • 一体化重力加压:设备包含带真空密封的可移动杆组件,通过校准重锤施加最高 10 kg 的机械压力,实现热处理与致密化同步进行。
  • 先进加热元件:配备 2 英寸钨或石墨箔盘,加热组件采用低电压、大电流直流供电,确保快速热响应和样品表面的均匀加热。
  • 双重控制模式:操作人员可在手动加热模式与通过高精度红外传感器和数字显示器实现的可编程温度控制之间切换,以获得最大升温速率或复杂热曲线。
  • 可扩展压力能力:标准机型采用重锤系统,但可升级为电机驱动压力机构和数字传感器,施加最高 100 kg 的力,用于高压致密化实验。
  • 优化热反射:腔体内部可选配在石英管上镀金,以增强热反射、提升热效率,并保护外部敏感部件免受辐射热影响。
  • 灵活样品管理:加热箔之间的可调间距可容纳厚度最高 1.0 mm、直径最高 35 mm 的各种样品,并支持同时处理多个样品,以满足高通量研究需求。

应用

应用 说明 主要优势
高熵合金 多元素金属体系的快速合成与淬火,以稳定非平衡固溶体相。 通过超快速冷却和加热循环防止元素偏析。
先进陶瓷 在受控压力和真空气氛下对超高温陶瓷(UHTCs)进行致密化处理。 由于加工时间缩短,可实现高密度且晶粒长大最小化。
半导体退火 对硅或化合物半导体晶圆进行快速热处理(RTP),以激活掺杂或修复晶格损伤。 精确控制热预算,保持浅结结构特征。
CSS 薄膜镀膜 将系统改装为近间距升华装置,用于沉积 CdTe 等半导体薄膜。 具有优异的化学计量比控制和晶体结构的高质量薄膜生长。
相变材料 研究硫属化物玻璃及其他与存储相关材料中快速相变的动力学。 可在实验室尺度上模拟高速切换环境。
难熔金属连接 在超过 2000°C 的温度下对难熔金属进行固态扩散连接或钎焊。 在高真空环境中实现牢固、洁净的连接,避免氧化。
碳纳米结构研究 对石墨烯、碳纳米管或碳-碳复合材料进行高温处理。 提供结构缺陷退火和石墨化所需的极端热能。

技术规格

规格类别 参数详情 TU-RT18 指标值
热性能 最高工作温度 2900°C
最大升温速率 ≤ 200 °C / 秒
持续保温时间 30 秒(最高温度下)
加热结构 加热元件 双钨盘(厚度 0.2 mm)或石墨箔
电源 208 - 240 VAC,50/60Hz,三相
变压器输出 20 kW,二次侧 20VDC
最大电流 500A(直流)
压力系统 标准加载方式 带真空密封的可移动杆,配 1000g 重锤
包含重锤 10 件(总计 10 kg)
可选加载 电机驱动,带数字传感器,最高 100 kg
腔体结构 真空管材料 高纯石英(外径 216mm,内径 206mm,长度 300mm)
法兰类型 不锈钢,带气体进/出口和 KF 25 接口
真空度 10^-2 torr(机械泵)至 10^-5 torr(涡轮分子泵)
样品容量 最大样品直径 35 mm
最大样品厚度 1.0 mm
多样品支持 支持高通量研究
控制与冷却 温度测量 数字红外温度传感器和显示器
控制模式 手动和可编程 PID
冷却要求 需循环水冷机(如 KJ5000)
法规 合规性 CE 认证(可选 NRTL/CSA)

为什么选择这套系统

  • 无与伦比的热动力学性能:该设备提供的升温速率位居行业前列,为研究非平衡材料状态和超快动力学的科研人员提供关键优势。
  • 坚固的多功能设计:除了热压功能外,该系统还可切换为 RTP 退火单元或 CSS 镀膜机,为不断变化的实验室需求提供极高价值和灵活性。
  • 卓越的制造质量:采用高纯石英、不锈钢和钨部件,该设备专为极端温度下的高强度运行而设计,同时不影响真空完整性或结构稳定性。
  • 精确压力施加:重锤系统可确保恒定的、基于重力的压力,不受电子漂移影响;可选电机升级则支持更复杂的力控实验。
  • 全面支持与定制化:我们提供广泛的技术支持,并可根据特定研究需求定制加热元件、真空配置和压力机构。

该设备为现代实验室提供了温度范围、加热速度和气氛控制的卓越组合。请立即联系我们的技术销售团队,获取详细报价,或讨论专为您的材料加工目标量身定制的配置方案。

查看更多该产品的问题与解答

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

高温超快速加热压制炉 2900°C 最高 100kgf 快速热处理系统

高温超快速加热压制炉 2900°C 最高 100kgf 快速热处理系统

专为快速热处理而设计,这款 2900°C 超快速加热与压制炉可实现 180°C/s 的升温速率和 100 kgf 的压力。它非常适用于闪速烧结和先进材料研发,这一高真空系统确保了极致精度、经过验证的可靠性以及高性价比的工业性能。

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

1500°C高温管式炉,带滑动法兰和50mm外径,适用于快速热处理,加热冷却迅速

这款最高温度1500°C的管式炉配备手动滑动法兰,可实现加速加热和冷却,助您实现快速热处理。专为材料科学研究设计,这套高精度系统提供卓越的真空性能和双控制器监控,满足严苛的实验室应用需求。

950°C 快速热处理炉,适用于带旋转基片台的 12 英寸晶圆 CSS 镀膜

950°C 快速热处理炉,适用于带旋转基片台的 12 英寸晶圆 CSS 镀膜

这款精密 950°C 快速热处理炉配备了适用于 12 英寸晶圆的旋转基片台和双区红外加热系统。专为先进的 CSS 薄膜镀膜和半导体退火工艺设计,可在高真空条件下为工业研究提供均匀的薄膜沉积。

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

1700°C高温管式炉,配备高真空涡轮分子泵系统及多通道质量流量计气体混合器

这款先进的1700°C高温管式炉集成了精密涡轮分子高真空泵系统和多通道质量流量控制器气体混合器,为严苛的工业研发环境中的复杂CVD、扩散及材料研究提供了卓越的性能。

快速热处理RTP气氛控制底装式炉 1100℃高吞吐量 每秒50℃升温速率

快速热处理RTP气氛控制底装式炉 1100℃高吞吐量 每秒50℃升温速率

这款1100℃底装式RTP炉可最大化研发效率,具备超快50℃/秒升温与气氛控制能力。该高 throughput 系统可与机械臂集成,适用于自动化单原子催化制备与精准6英寸晶圆退火工艺。

1200°C 滑动管式炉,适用于快速热处理及 CVD 石墨烯生长(支持 100mm 外径)

1200°C 滑动管式炉,适用于快速热处理及 CVD 石墨烯生长(支持 100mm 外径)

这款 1200°C 滑动管式炉专为快速热处理(RTP)和 CVD 应用而设计,旨在加速您的研究进程。配备高精度 PLC 控制系统和电动滑轨,可实现超快速加热和冷却循环,是先进材料科学和工业研发实验室的理想选择。

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

1000°C高温真空炉,配备8英寸内径腔体,适用于材料烧结与研究退火

这款1000°C真空炉配备8英寸内径腔体,可实现卓越的热处理效果,适用于精密烧结和钎焊。该双区系统提供超高真空度,并配备Eurotherm PID控制器,满足严苛的工业研发材料科学应用需求。

2500°C 高真空超快加热压片机(带自动化 8 样品装载系统)

2500°C 高真空超快加热压片机(带自动化 8 样品装载系统)

这款 2500°C 高真空压片机具备超快加热功能和自动化 8 样品装载系统,助您实现快速热处理。它是先进材料研究的理想选择,通过高速机器人样品处理和自动化性能,确保实验室获得精确的烧结结果。

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

具备熔盐电解能力和 3000 度精密控制的超高温感应加热真空炉

精密 3000ºC 感应加热真空炉,专为高纯度石墨化和陶瓷烧结而设计。这套多用途热系统采用先进的感应技术,并可选配熔盐电解功能,满足当今最严苛的工业研发和材料科学应用需求。

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

气氛控制马弗炉 1700℃ 最高温度 80L 大容量真空惰性气体箱式炉

高性能 1700℃ 气氛控制马弗炉,80L 容量,适用于先进材料研究。配备 MoSi2 加热元件和精确 PID 控制,适用于工业研发和中试生产加工中的惰性气体、真空及氧气环境。

用于自主材料研究的带快速冷却功能的高温紧凑型自动底部装料炉

用于自主材料研究的带快速冷却功能的高温紧凑型自动底部装料炉

这款 1500°C 紧凑型自动底部装料炉具备快速冷却功能和自动化兼容性,可轻松集成至手套箱或机器人工作流中,助力先进工业实验室及材料科学研究中心提升研发效率,是寻求优质精密热处理解决方案的理想之选。

1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,用于材料合成

1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,用于材料合成

先进的 1100°C 高压摇摆式管式炉,配备 2 英寸超级合金处理管,可在压力下进行高温合成。该系统专为工业研发设计,提供精确的热控制、自动摇摆运动以及强大的安全保障,适用于复杂的材料处理应用。

紧凑型气氛控制快速热处理 (RTP) 炉,配 4 英寸内径石英管,1100°C

紧凑型气氛控制快速热处理 (RTP) 炉,配 4 英寸内径石英管,1100°C

利用这款紧凑型气氛控制 RTP 炉提升半导体研究水平。它配备 4 英寸石英管,最高温度可达 1100°C,加热速率高达 50°C/秒,适用于精密退火、CVD 和高通量材料处理。

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

带 5 英寸加热区、高纯氧化铝管和真空密封法兰的 1700°C 高温台式管式炉

这款 1700°C 高温管式炉配备 5 英寸加热区和氧化铝管,适用于先进材料研究。可实现精确的气氛控制,并将真空度降至 50 mTorr,用于烧结、退火和化学气相沉积。

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

1700℃高温立式管式炉,用于粉末球化和材料烧结

该1700℃立式管式炉系统优化了电池电极和3D打印的粉末球化工艺。该设备配备自动进料器和双温区控制,确保在真空或受控气氛下进行高纯度处理,适用于卓越的工业材料研究应用。

1500°C 高温台式马弗炉 3.6L 氧化铝纤维炉膛 可编程控制器 烧结退火碳化热处理系统

1500°C 高温台式马弗炉 3.6L 氧化铝纤维炉膛 可编程控制器 烧结退火碳化热处理系统

这款精密 1500°C 台式马弗炉配备 3.6L 氧化铝纤维炉膛和先进的 PID 控制系统,适用于烧结和退火工艺。其坚固的碳化硅(SiC)加热元件和可编程接口,确保了严苛材料科学及工业研发应用中热处理的一致性。

超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

超导材料用800°C 3.5巴高真空压力室烧结炉

这款800°C真空压力室炉为研发工作提供了3.5巴的环境。它采用310S不锈钢结构和多区加热设计,为苛刻工业应用中的超导材料处理和先进烧结工艺提供了高精度保障。

1700°C 高温立式气氛控制炉 自动底部装料 13升真空热处理系统

1700°C 高温立式气氛控制炉 自动底部装料 13升真空热处理系统

这款 1700°C 立式气氛炉具备自动底部装料、精密 Eurotherm 控制器和高真空能力,专为先进材料研究及严苛的工业研发应用而设计,始终提供卓越的热处理效果。

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

1100°C 高温真空坩埚炉,带石英腔体,用于热处理和烧结

这款1100°C真空坩埚炉配备石英腔体,可实现精密热处理。专为在真空或惰性气氛下进行烧结和热处理而设计,为材料科学研究、工业工程和专业研发实验室的质量应用提供稳定可靠的结果。

大型台式 1700°C 高温马弗炉,配备 19L 炉膛,适用于先进材料烧结与退火

大型台式 1700°C 高温马弗炉,配备 19L 炉膛,适用于先进材料烧结与退火

高性能 1700°C 台式马弗炉,配有 19L 氧化铝纤维炉膛和二硅化钼(MoSi2)加热元件。专为工业研发及牙科实验室的精密烧结与退火工艺而设计,满足可靠的热处理需求及 CE 安全认证标准。