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用于先进材料研究的精密旋转与倾角可调双温旋转管式炉

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TU-GS11

用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

用于先进材料加工的1400°C高温冷壁高真空腔体炉

TU-ZK02

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

用于材料烧结与受控气氛热处理的三温区旋转管式炉

TU-GS12

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

高温三温区开启式管式炉 1200℃ 最高温度 35.4 英寸加热长度 8 英寸内径炉管

TU-38

12温区超长开启式管式炉，配20英尺石英管，最高温度1100°C

12温区超长开启式管式炉，配20英尺石英管，最高温度1100°C

TU-54

5英寸旋转管式炉，配备自动进料与收料系统，1200°C三温区CVD粉末处理

5英寸旋转管式炉，配备自动进料与收料系统，1200°C三温区CVD粉末处理

TU-X06

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

用于CVD研究与真空烧结精密热处理的1800°C高温气氛管式炉

TU-GS17

1200°C 顶装式马弗炉，9升炉膛，配可编程PID控制器

1200°C 顶装式马弗炉，9升炉膛，配可编程PID控制器

TU-DZ04

适用于高温材料合成的1500ºC最高温双温区旋转管式炉，配备60毫米外径氧化铝管

适用于高温材料合成的1500ºC最高温双温区旋转管式炉，配备60毫米外径氧化铝管

TU-X07

800°C高温快速热处理炉，配备旋转样品架，适用于近距升华及薄膜太阳能电池研究

800°C高温快速热处理炉，配备旋转样品架，适用于近距升华及薄膜太阳能电池研究

TU-RT32

用于HPCVD和晶体生长研究的1200°C高温分体式管式炉（带内部移动机构）

用于HPCVD和晶体生长研究的1200°C高温分体式管式炉（带内部移动机构）

TU-RT07

高温七温区开启式管式炉，最高工作温度 1200°C，配备大直径石英管

高温七温区开启式管式炉，最高工作温度 1200°C，配备大直径石英管

TU-87

高温氢气气氛箱式炉 1650°C 最高还原环境材料合成系统 8x8x8 英寸腔体

高温氢气气氛箱式炉 1650°C 最高还原环境材料合成系统 8x8x8 英寸腔体

TU-QF29

双温区快速加热管式炉高温真空气氛系统

双温区快速加热管式炉高温真空气氛系统

TU-GS14

1200°C 最高温双滑动管式炉，配 50 mm CVD 管法兰

1200°C 最高温双滑动管式炉，配 50 mm CVD 管法兰

TU-RT05

1700℃紧凑型高温底装炉快速加热冷却系统小样品热循环设备

1700℃紧凑型高温底装炉快速加热冷却系统小样品热循环设备

TU-DZ19

三温区分体式管式炉，36英寸加热长度，高温1200C，带真空法兰的材料研究炉

三温区分体式管式炉，36英寸加热长度，高温1200C，带真空法兰的材料研究炉

TU-36

1200℃高温125升箱式马弗炉五面加热用于大批量烧结，可选配合金脱脂腔室

1200℃高温125升箱式马弗炉五面加热用于大批量烧结，可选配合金脱脂腔室

TU-CT35

五面加热马弗炉高均匀性 1200°C 实验室箱式炉 27L 氧化铝纤维炉膛

五面加热马弗炉高均匀性 1200°C 实验室箱式炉 27L 氧化铝纤维炉膛

TU-CT14

1200°C 小型自动底部装料炉，配备精密控制器及快速冷却功能

1200°C 小型自动底部装料炉，配备精密控制器及快速冷却功能

TU-DZ12

紧凑型气氛控制快速热处理 (RTP) 炉，配 4 英寸内径石英管，1100°C

紧凑型气氛控制快速热处理 (RTP) 炉，配 4 英寸内径石英管，1100°C

TU-RT31

1750°C 小型马弗炉 1.7L 超高温实验室烧结系统，适用于先进陶瓷与材料科学研究

1750°C 小型马弗炉 1.7L 超高温实验室烧结系统，适用于先进陶瓷与材料科学研究

TU-CT27

高温立式混合炉（带氧化铝管和碳化硅加热），适用于 SOFC 纽扣电池测试及气氛处理

高温立式混合炉（带氧化铝管和碳化硅加热），适用于 SOFC 纽扣电池测试及气氛处理

TU-HC12

1650°C循环蒸汽腐蚀与热冲击测试炉（集成水蒸气发生器及自动样品输送系统）

1650°C循环蒸汽腐蚀与热冲击测试炉（集成水蒸气发生器及自动样品输送系统）

TU-RT17

用于材料研究与工业热处理的高温加长双温区管式炉

用于材料研究与工业热处理的高温加长双温区管式炉

TU-GS10

1600°C 高温自动底部装料炉，用于热冲击循环和材料疲劳测试

1600°C 高温自动底部装料炉，用于热冲击循环和材料疲劳测试

TU-DZ17

用于高温CVD和真空退火的双温区双盖管式炉

用于高温CVD和真空退火的双温区双盖管式炉

TU-GS08

1200°C 小型箱式马弗炉（带独立可编程控制器及4.2L氧化铝纤维炉膛）

1200°C 小型箱式马弗炉（带独立可编程控制器及4.2L氧化铝纤维炉膛）

TU-CT03

快速热处理RTP气氛控制底装式炉 1100℃高吞吐量每秒50℃升温速率

快速热处理RTP气氛控制底装式炉 1100℃高吞吐量每秒50℃升温速率

TU-DZ11

1100C立式真空炉高温8英寸石英腔体水冷法兰系统

1100C立式真空炉高温8英寸石英腔体水冷法兰系统

TU-QF02

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